公开(公告)号：JP2016522979A

公开(公告)日：2016-08-04

申请号：JP2016502295

申请日：2014-03-14

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド ,  トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド

Inventor： サマーヴェル，マーク，エイチ ,  ラスサック，ベンジャミン，エム

IPC: H01L21/027 ,  B05D7/00 ,  B05D7/24 ,  C23C14/04 ,  C23C14/32 ,  C23C16/04 ,  C23C16/455 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/318

CPC classification number: H01L21/0271 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/221 ,  C23C16/45525 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01J37/317 ,  H01L21/0272

Abstract: 層状化基板をパターン化する方法400が提供される。この方法は、コータ-現像処理システムに、基板をロードするステップ(410)、前記基板にフォトレジスト材料層をコーティングするステップ(420)、前記フォトレジスト材料層をパターン化するステップ(430)、前記基板を成膜処理システムに移送するステップ(440)、フォトレジストパターンおよび前記基板の露出部に、中立層を成膜するステップ(450)、を有する。中立層は、ガスクラスタイオンビーム(GCIB)プロセス、または原子層成膜(ALD)プロセスを用いて成膜され、これは、最小のトポグラフィーを有する。当該方法は、さらに、前記フォトレジストパターンの上に成膜された前記中立層の一部をリフトオフして、中立層テンプレートを露出させるステップ(510)、前記中立層テンプレートの上に、DSA材料層を成膜するステップ(520)、前記DSA材料層を熱処理して、DSAパターンを形成するステップ(530)、前記DSA材料層を現像して、その後の特徴物のエッチングのため、最終DSAパターンを露出させるステップ(540)を有する。

Abstract translation: 图案化的层状基板的方法400。 该方法涂布机 - 在开发系统中，将衬底装载（410），所述基板（420）上涂覆光致抗蚀剂材料层的步骤的步骤中，图案化光致抗蚀剂材料层（430）的步骤中，将 基板传送到成膜处理系统（440）的步骤中，光致抗蚀剂图案和基片的暴露部分，其具有用于形成中性层的步骤（450）。 中性层使用气体团簇离子束（GCIB）处理或原子层沉积（ALD）工艺，其具有最小的形貌的沉积。 该方法还包括剥离沉积在光致抗蚀剂图案的中性层的一部分，露出的中性层模板（510），在中性层模板，DSA材料层 形成步骤（520），和退火DSA材料层，形成了DSA图案（530），通过显影DSA材料层，用于其的特征随后的蚀刻，最后的DSA图案 包括步骤（540）以露出。

公开(公告)号：JP2016516017A

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：JP2015561716

申请日：2014-03-07

Applicant: ザイレコ,インコーポレイテッド

Inventor： メドフ，マーシャル ,  クレイグ マスターマン，トーマス ,  クレイグ マスターマン，トーマス ,  ダブリュー． フィン，マイケル ,  ダブリュー． フィン，マイケル ,  パポウリス，アンドリュー ,  エー． コーヤブキナ，ナタリア ,  エー． コーヤブキナ，ナタリア

IPC: C07C29/149 ,  B01J23/36 ,  B01J27/053 ,  B01J38/10 ,  B01J38/12 ,  C07C31/12 ,  C07C67/08 ,  C07C69/24 ,  C12P7/04 ,  C12P7/52 ,  C12P7/54 ,  C12P7/62 ,  C12P19/00

CPC classification number: D21C9/007 ,  B01D15/02 ,  B01D53/32 ,  B01D61/44 ,  B01D61/445 ,  B01J19/085 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0886 ,  B65G27/00 ,  B65G53/04 ,  B65G53/40 ,  C07C29/149 ,  C10G1/00 ,  C10L1/023 ,  C10L1/026 ,  C10L9/08 ,  C10L2200/0469 ,  C10L2200/0476 ,  C10L2290/36 ,  C12M47/00 ,  C12M47/10 ,  C12P7/04 ,  C12P7/06 ,  C12P7/10 ,  C12P7/52 ,  C12P7/56 ,  C12P19/02 ,  C12P19/14 ,  C12P2201/00 ,  C12P2203/00 ,  C13K1/02 ,  C13K13/002 ,  E04B1/92 ,  E04B2001/925 ,  G21F7/00 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/31 ,  H01J2237/3165 ,  Y02E50/16 ,  Y02E50/17 ,  Y02E50/32 ,  Y02E50/343 ,  Y02E60/17 ,  Y02P20/136 ,  Y02W10/33 ,  Y02W10/37 ,  C07C31/12

Abstract: バイオマス(例えば、植物バイオマス、動物バイオマス、および自治体廃棄物バイオマス)を加工して、有用な中間体および生成物、例えばエネルギー、燃料、食物または、材料を生成する。糖化バイオマスを2つのステップで発酵させて、2つの別個の生成物を生成する。第二生成物はカルボン酸であって、これをアルコールと反応させて、エステルを生成する。エステル化のために用いられるアルコールは、バイオマスから獲得され得る。エステルは、触媒を用いてアルコールに水素添加される。【選択図】図2

Abstract translation: 生物质（例如，植物生物量，动物生物量和城市废物生物量）通过处理有用的中间体和产物，例如能源，燃料，食物或产生的材料。 和生物质的糖化发酵两个步骤，产生两个不同的产品。 第二种产品是羧酸，其与醇生成酯反应。 用于酯化的醇可以从生物质中获得。 酯氢化以使用催化剂的醇。 .The

公开(公告)号：JP2016514959A

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：JP2015561720

申请日：2014-03-07

Applicant: ザイレコ,インコーポレイテッド

Inventor： メドフ，マーシャル ,  クレイグ マスターマン，トーマス ,  クレイグ マスターマン，トーマス ,  ステイプルトン ムケルジー，マイア ,  ステイプルトン ムケルジー，マイア ,  クーパー，クリストファー

IPC: C12P7/10 ,  B01D61/44 ,  B01J20/12 ,  B01J20/18 ,  B01J20/26 ,  B09B3/00 ,  B09B5/00 ,  C02F11/00 ,  C02F11/02

CPC classification number: D21C9/007 ,  B01D15/02 ,  B01D53/32 ,  B01D61/44 ,  B01D61/445 ,  B01J19/085 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0886 ,  B65G27/00 ,  B65G53/04 ,  B65G53/40 ,  C07C29/149 ,  C10G1/00 ,  C10L1/023 ,  C10L1/026 ,  C10L9/08 ,  C10L2200/0469 ,  C10L2200/0476 ,  C10L2290/36 ,  C12M47/00 ,  C12M47/10 ,  C12P7/04 ,  C12P7/06 ,  C12P7/10 ,  C12P7/52 ,  C12P7/56 ,  C12P19/02 ,  C12P19/14 ,  C12P2201/00 ,  C12P2203/00 ,  C13K1/02 ,  C13K13/002 ,  E04B1/92 ,  E04B2001/925 ,  G21F7/00 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/31 ,  H01J2237/3165 ,  Y02E50/16 ,  Y02E50/17 ,  Y02E50/32 ,  Y02E50/343 ,  Y02E60/17 ,  Y02P20/136 ,  Y02W10/33 ,  Y02W10/37 ,  C07C31/12

Abstract: バイオマス(例えば、植物バイオマス、動物バイオマス、および自治体廃棄物バイオマス)を加工して、有用な中間体および生成物、例えばエネルギー、燃料、食物または材料を生成する。電気透析または極性転換型電気透析を用いて工程の流れを向上させるためのシステム、方法および設備を記載する。多数の潜在的リグノセルロース系供給原料、例えば農業残渣、木材バイオマス、自治体廃棄物、脂肪種子/ケークおよび海藻などが、今日、利用可能である。【選択図】図1A

Abstract translation: 生物质（例如，植物生物量，动物生物量和城市废物生物量）通过处理一个有用的中间体和产物，以产生例如能源，燃料，食物或材料。 它描述了使用电渗析或极性转换电渗析提高处理的流程系统，方法和设备。 许多潜在的木质纤维素原料，例如农业残余物，木材生物质，城市废物，如油籽/饼和海藻，可今天。 点域1A

公开(公告)号：JP2016510691A

公开(公告)日：2016-04-11

申请号：JP2015561697

申请日：2014-03-07

Applicant: ザイレコ,インコーポレイテッド

Inventor： メドフ，マーシャル ,  マスターマン，トーマス，クレイグ ,  パラディス，ロバート

IPC: B09B5/00 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10

CPC classification number: D21C9/007 ,  B01D15/02 ,  B01D53/32 ,  B01D61/44 ,  B01D61/445 ,  B01J19/085 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0886 ,  B65G27/00 ,  B65G53/04 ,  B65G53/40 ,  C07C29/149 ,  C10G1/00 ,  C10L1/023 ,  C10L1/026 ,  C10L9/08 ,  C10L2200/0469 ,  C10L2200/0476 ,  C10L2290/36 ,  C12M47/00 ,  C12M47/10 ,  C12P7/04 ,  C12P7/06 ,  C12P7/10 ,  C12P7/52 ,  C12P7/56 ,  C12P19/02 ,  C12P19/14 ,  C12P2201/00 ,  C12P2203/00 ,  C13K1/02 ,  C13K13/002 ,  E04B1/92 ,  E04B2001/925 ,  G21F7/00 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/31 ,  H01J2237/3165 ,  Y02E50/16 ,  Y02E50/17 ,  Y02E50/32 ,  Y02E50/343 ,  Y02E60/17 ,  Y02P20/136 ,  Y02W10/33 ,  Y02W10/37 ,  C07C31/12

Abstract: バイオマス(例えば、植物バイオマス、動物バイオマス、および自治体廃棄物バイオマス)またはその他の材料を加工して、有用な中間体および生成物、例えばエネルギー、燃料、食物または材料を生成する。例えば、壁および任意に天井が離散型ユニットを包含する保管庫中で、セルロース系および/またはリグノセルロース系物質のような供給原料物質を処理するために用いられ得るシステムおよび方法が記載される。このような保管庫は、再構成可能である。【選択図】図1

Abstract translation: 生物质（例如，植物生物量，动物生物量和城市废物生物量）通过加工或其它材料，有用的中间体和产物，以产生例如能源，燃料，食物或材料。 例如，在一个壁和任选的天花板拱顶包括离散的单元，系统和方法可以被用来处理供给材料，如纤维素和/或木质纤维素材料进行说明。 这样的仓库进行重新配置。 点域1

公开(公告)号：JP5852833B2

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：JP2011219560

申请日：2011-10-03

Applicant: カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハー ,  Carl Zeiss Microscopy GmbH

Inventor： ヨゼフ ビバーガー ,  ラルフ プルウェイ ,  アンドレアス アドルフ

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/317 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J3/26 ,  H01J3/14 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/31749

公开(公告)号：JP5728566B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2013500167

申请日：2011-03-16

Applicant: ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド

Inventor： ルドヴィック ゴデ ,  パトリック エム マーティン ,  ティモシー ジェイ ミラー ,  ヴィクラム シング

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/265 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/317 ,  G03F7/40 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32623 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/2236 ,  H01L21/263 ,  H01L21/265 ,  H01L29/66787

公开(公告)号：JP5709546B2

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：JP2011009198

申请日：2011-01-19

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 中山 貴博 ,  寺島 茂

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/317 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70925 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/022

公开(公告)号：JP2014187370A

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：JP2014094902

申请日：2014-05-01

Applicant: Fei Co ,  エフ・イ−・アイ・カンパニー

Inventor： HOLTERMANN THERESA ,  GRAUPERA ANTHONY ,  DIBATTISTA MICHAEL

IPC: H01L21/288 ,  B81C99/00 ,  C25D7/12 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01J37/3056 ,  H01J37/317 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/31713 ,  H01J2237/31732 ,  H01J2237/31737 ,  H01J2237/31744 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  H01L21/2885 ,  H01L21/76898 ,  H01L22/14 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a minute metal structure.SOLUTION: A minute metal structure is manufactured by generating a region in which a pattern of enhanced conductivity is formed, or exposing it, and then, forming a conductor by electrodeposition on the region. In some embodiments, a minute metal structure is formed on a substrate, and then, in order to remove the structure from the substrate, etching is performed with the substrate. In some embodiments, a convergence gallium ion beam which does not contain deposition precursor gas scans a silicon substrate in a pattern, so as to generate a conductive pattern, and then, on the conductive pattern, copper structure is formed by electro-chemical deposition of one or more kinds of metal. The structure can be taken out from the substrate by etching, otherwise, that can be used on the spot. Using beam, an active layer of a transistor can be accessed for electrodeposition of a conductor, to form a lead for sensing or changing the behavior during a period in which a transistor is functioning.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制造微小金属结构的方法。解决方案：通过产生形成增强导电性图案或暴露图案的区域，然后通过电沉积形成导体来制造微小的金属结构 在该地区。 在一些实施例中，在衬底上形成微小的金属结构，然后为了从衬底去除结构，用衬底进行蚀刻。 在一些实施例中，不包含沉积前体气体的会聚镓离子束以图案扫描硅衬底，以便产生导电图案，然后在导电图案上，通过电化学沉积形成铜结构 一种或多种金属。 该结构可以通过蚀刻从衬底中取出，否则可以在现场使用。 使用光束，可以访问晶体管的有源层用于电沉积导体，以形成用于在晶体管工作的时段期间感测或改变行为的引线。

公开(公告)号：JP5390330B2

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：JP2009230993

申请日：2009-10-02

Applicant: キヤノンアネルバ株式会社

Inventor： アインシタイン ノエル アバラ ,  雅弘 芝本

IPC: H01L21/304 ,  G11B5/84 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32862 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0822 ,  H01J2237/3156 ,  H01J2237/316

公开(公告)号：JP2013541845A

公开(公告)日：2013-11-14

申请号：JP2013531767

申请日：2011-09-28

Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

Inventor： ゴデット、ルドヴィック ,  マーティン、パトリック、エム． ,  オルソン、ジョセフ、シー．

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/40

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/31796 ,  H01L21/26586 ,  H01L21/266

Abstract: A method of reducing the roughness profile in a plurality of patterned resist features. Each patterned resist feature includes a first sidewall and a second sidewall opposite the first sidewall, wherein each patterned resist feature comprises a mid frequency line width roughness and a low frequency linewidth roughness. A plurality of ion exposure cycles are performed, wherein each ion exposure cycle comprises providing ions at a tilt angle of about five degrees or larger upon the first sidewall, and providing ions at a tilt angle of about five degrees or larger upon the second sidewall. Upon the performing of the plurality of ion exposure cycles the mid frequency and low frequency linewidth roughness are reduced.