パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置
    8.
    发明专利
    パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置 审中-公开
    装置,通过脉冲磁场磁化激光等离子体

    公开(公告)号:JP2016516257A

    公开(公告)日:2016-06-02

    申请号:JP2015558540

    申请日:2014-02-26

    IPC分类号: H05H1/24 G21B1/03

    CPC分类号: H05H6/00 G21B3/006

    摘要: 【課題】コイルに流れる大電流による熱、該レーザーが発射されうる速度の低下などの問題を少なくとも部分的に解決したパルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置の提供。【解決手段】本発明は、パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置(1)に関しており、該装置は、レーザーパルス(3)を放射するためのレーザー源(2);ターゲット(5)と該レーザーパルスとの相互作用の間、レーザープラズマ(6)を生成することが可能な該ターゲット(5)がその中に置かれているところの真空チャンバー(4);およびパルス磁場を該レーザープラズマ内で生成することが可能なコイル(8)を備え、該装置は、該コイル(8)が冷却液(11)を収容しているリエントラントチャンバー(10)内に配置されていることを特徴とする。【選択図】図1

    摘要翻译: 由流过线圈的大电流的热,用于激光提供装置通过脉冲磁场以磁化激光等离子体至少部分地解决上述问题,例如降低可烧成的速率。 本发明涉及设备(1),用于通过脉冲场磁化在激光等离子体,该设备包括一个激光源,用于发射激光脉冲(3)(2);一个目标(5) 激光脉冲的相互作用,所述真空室(4)期间,在其中能够产生激光的等离子体(6)(5)被放置在其中的目标;以及脉冲磁场的激光等离子体 的线圈(8),其能够产生一个内部的,所述设备包括一个其特征在于,线圈(8)布置在包含冷却液体折返室中的(11)(10) 到。 点域1