成膜装置及び成膜方法
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2016043277A1

    公开(公告)日:2017-06-29

    申请号:JP2016548947

    申请日:2015-09-17

    Abstract: チャンバ内の各ゾーンにおいてガスの分布を均一化し、成膜精度を向上することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。一形態にかかる成膜装置は、内部にガスが導入される複数のゾーンを有し、少なくともいずれかの前記ゾーンにおける前記ガスを排出するとともにその開口状態が個別に調整可能な複数の排気口を備える、チャンバと、前記チャンバの内部で基材を移動させて複数の前記ゾーンを通過させる、搬送部と、を備えることを特徴とする。

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