ヒドロゲルの接着方法
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2015076205A1

    公开(公告)日:2017-03-16

    申请号:JP2015549129

    申请日:2014-11-14

    CPC classification number: C09J11/04 C08K3/36 C09J133/02 C09J201/02

    Abstract: 【課題】ヒドロゲルの接着しようとするゲル表面と同ゲル表面との間にヒドロゲル形成性組成物を介在させて、ヒドロゲル同士を接着させる方法を提供すること。【解決手段】同種又は異種のヒドロゲル同士を接着する方法であって、一方の該ヒドロゲルの接着しようとするゲル表面と他方の該ヒドロゲルの接着しようとするゲル表面との間にヒドロゲル形成性組成物を介在させて、そして接着しようとする両ゲル表面を接合する段階を含むヒドロゲルの接着方法。【選択図】なし

    接着剤組成物
    9.
    发明专利
    接着剤組成物 审中-公开
    粘合剂组合物

    公开(公告)号:JP2016222917A

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:JP2016110103

    申请日:2016-06-01

    Abstract: 【課題】優れたライフ性能を得ることができるとともに、広い実装マージンを得ることができる接着剤組成物を提供する。 【解決手段】接着剤組成物は、カチオン重合性化合物と、アルミニウムキレート−シラノール系硬化触媒と、非共有電子対を有する硫黄原子を含む求核性化合物とを含有する。求核性化合物は、チオール化合物、又はエピスルフィド化合物である。アルミニウムキレート−シラノール系硬化触媒は、アルミニウムキレート硬化剤と、シラノール化合物又はシランカップリング剤とを含む。アルミニウムキレート硬化剤は、多官能イソシアネート化合物を界面重合させて得られた多孔性樹脂に保持されてなる潜在性アルミニウムキレート硬化剤である。 【選択図】図1

    Abstract translation: 甲所以能够获得优异的寿命性能,提供了一种能够获得广泛实施余量的粘合剂组合物。 一种粘合剂组合物中,阳离子聚合性化合物,铝螯合物 - 含硅烷醇的固化催化剂,以及含有具有未共享电子对的硫原子的亲核化合物。 亲核化合物为硫醇化合物,或环硫化合物。 铝螯合物 - 硅烷醇基的固化催化剂包括铝螯合物固化剂,和硅烷醇化合物或硅烷偶联剂。 铝螯合物固化剂是多官能异氰酸酯化合物界面聚合变为在固化剂得到的潜铝螯合物的多孔树脂保持。 点域1

    半導体ウェハ加工用粘着テープおよび半導体ウェハの加工方法
    10.
    发明专利
    半導体ウェハ加工用粘着テープおよび半導体ウェハの加工方法 有权
    一种用于处理半导体晶片处理粘合带和半导体晶片的方法

    公开(公告)号:JP6034522B1

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:JP2016054269

    申请日:2016-03-17

    Inventor: 大倉 雅人

    CPC classification number: H01L21/683 C09J201/02 C09J7/20 H01L21/304

    Abstract: 【課題】段差や突起を有する半導体ウェハ表面への追従性が良好で、剥離時には半導体ウェハの破損や糊残りすることなく剥離可能な半導体ウェハ加工用粘着テープ、半導体ウェハ加工用粘着テープの製造方法及び半導体ウェハの加工方法を提供する。 【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に粘着剤層を有する半導体ウェハ加工用粘着テープであって、該粘着剤層の粘着剤が、少なくとも、側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマー、または、架橋構造でエチレン性不飽和基を有するポリマーからなり、かつ該粘着剤のゲル分率が30〜90%である半導体ウェハ加工用粘着テープ、半導体ウェハ加工用粘着テープの製造方法及び半導体ウェハの加工方法。 【選択図】なし

    Abstract translation: A中的步骤或追随于半导体晶片表面有突起好,剥离时的半导体晶片的无剥离半导体晶片处理粘合带,半导体晶片处理粘合带的制造方法,可被损坏或粘合剂残留 和用于处理半导体晶片的方法。 本发明提供了在基材膜的至少一个表面上具有粘接剂层的半导体晶片处理粘合带,压敏粘合剂层的粘合剂是至少,在侧链具有烯键式不饱和基团的聚合物 或由聚合物具有交联结构的烯键式不饱和基团制成,并且PSA半导体晶片处理粘合带的,半导体晶片处理胶粘带的制造方法和半导体的30〜90%的凝胶分数 晶片的加工方法。 系统技术领域

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