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公开(公告)号：JPWO2005116152A1
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：JP2006513878
申请日：2005-05-24
Applicant: 株式会社ピーアイ技術研究所 , 住友電気工業株式会社
Inventor： モーソー ウイン , モーソー ウイン , 敏之 五島 , 敏之 五島 , 栄花 許 , 栄花 許 , 慎太郎 中島 , 慎太郎 中島 , 林 憲器 , 憲器 林 , 亨 柏木 , 亨 柏木 , 宮崎 健史 , 健史 宮崎 , 克弥 山田 , 克弥 山田 , 山林 直之 , 直之 山林 , 中釜 詳治 , 詳治 中釜 , 浩 奥山 , 浩 奥山 , 典生 笠坊 , 典生 笠坊 , 田中 一平 , 一平 田中
IPC: C09D11/102 , H01L21/312 , H05K1/03 , H05K3/28
CPC classification number: C09D11/102 , H05K3/28 , H05K2201/0154 , H05K2203/0783
Abstract: 印刷性及び連続印刷性が良好で、かつ、220℃以下の低温乾燥が可能であり、乾燥した際に高寸法安定性、耐熱性、低弾性、可とう性、低反り性、耐薬品性、基材類との接着性、耐メッキ性に優れる皮膜を与えることができるポリイミドインク組成物を提供することを目的とする。この目的は、安息香酸エステル系とグライム系溶媒を含有してなる混合溶媒及び該溶媒に可溶なポリイミドよりなり、該ポリイミドは塩基触媒又はラクトン類若しくは酸性化合物と塩基からなる混合触媒の存在下で、テトラカルボン酸二無水物成分と分子骨格中にシロキサン結合を有するジアミン成分とを重縮合したポリイミドオリゴマーに、テトラカルボン酸二無水物成分及び/又は分子骨格中にシロキサン結合を有しないジアミン成分とを重縮合して得られ、全ジアミン成分に対してシロキサン結合を有するジアミン成分が15〜85重量%である印刷用ポリイミドインク組成物により達成される。
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2.发明专利
公开(公告)号：JP4595471B2
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：JP2004286499
申请日：2004-09-30
Applicant: 住友電気工業株式会社
CPC classification number: H01B1/22 , H05K1/095 , H05K3/4069 , H05K3/4617 , H05K2201/0245 , H05K2201/0394
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公开(公告)号：JP4305399B2
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：JP2005052321
申请日：2005-02-28
Applicant: 住友電気工業株式会社
IPC: H05K3/46
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公开(公告)号：JP5141249B2
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：JP2007518904
申请日：2006-05-18
Applicant: 住友電気工業株式会社
CPC classification number: H01B1/22 , H05K1/095 , H05K3/4069 , H05K3/4617 , H05K2201/0245 , H05K2201/0394 , Y10T428/24322 , Y10T428/24339
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Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：JP4292436B2
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：JP14715499
申请日：1999-05-26
Applicant: 住友電気工業株式会社
CPC classification number: H01M4/80 , C25D5/56 , H01M4/808 , H01M2300/0014 , Y10T428/12042 , Y10T428/12111
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公开(公告)号：JPWO2003103352A1
公开(公告)日：2005-10-06
申请号：JP2004510294
申请日：2003-06-02
Applicant: 住友電気工業株式会社
Inventor： 林 憲器 , 憲器 林 , 岡 良雄 , 良雄 岡 , 神田 昌彦 , 昌彦 神田 , 八木 成人 , 成人 八木 , 宮崎 健史 , 健史 宮崎 , 恭一郎 中次 , 恭一郎 中次
CPC classification number: H05K3/246 , H05K1/095 , H05K3/108 , H05K3/12 , H05K3/1216 , H05K3/16 , H05K3/381 , H05K3/388 , H05K2201/0347 , H05K2201/035 , H05K2203/072 , H05K2203/095 , Y10T29/49126
Abstract: 例えばスクリーン印刷法などの通常の印刷法によって微細な、しかも境界線が明りょうで良好な導体配線を形成することができる新規なプリント配線用基板と、それを用いたプリント配線板、およびこれらを製造するための製造方法を提供する。プリント配線用基板とその製造方法は、基板の表面に(1)粗面化処理、(2)プラズマ処理、(3)粗面化処理をしたのちプラズマ処理、または(4)粗面化処理をしたのち、スパッタリング法による金属膜の被覆形成処理のうちいずれか1つの表面処理を施すことを特徴とし、プリント配線板とその製造方法は、上記表面に、平均粒径4μm以下、最大粒径15μm以下の金属粒子を含む導電ペーストを用いて印刷法によって導体配線を形成することを特徴とし、他のプリント配線板とその製造方法は、上記表面に、金属粒子MとバインダーBとを体積比M/B=1/1〜1.9/1の割合で含む導電ペーストを用いて形成した導体配線の表面をエッチング後、めっき被膜を積層、形成することを特徴とする。
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公开(公告)号：JP3623001B2
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：JP26877694
申请日：1994-11-01
Applicant: 住友電気工業株式会社 , 東京電力株式会社
IPC: C01G1/00 , C01G3/00 , C30B23/00 , C30B23/02 , C30B29/22 , H01B12/06 , H01B13/00 , H01L21/203 , H01L39/24
CPC classification number: H01L39/2448 , C30B23/02 , C30B29/16 , C30B29/22 , C30B29/225 , H01L39/2461 , Y10S505/732
Abstract: A thin film strongly orienting specific crystal axes is deposited on a polycrystalline or amorphous base material in accordance with laser deposition in a simpler device through a simpler process. A target (12) is irradiated with a laser beam (13), for forming a thin film in accordance with laser ablation of depositing a substance scattered from the target (12) on a base material (11). In order to form the thin film, prepared are conditions capable of forming a film orienting a specific crystal axis substantially perpendicularly to the base material (11) in substantially parallel arrangement of the target (12) and the base material (11) as shown in Fig. 1(a). Under the conditions, a film is deposited on the base material (11) which is inclined at a prescribed angle theta with respect to the target (12), as shown in Fig. 1(b). It is possible to deposit a film strongly orienting a specific crystal axis in a plane substantially parallel to the base material surface by inclining the base material under the specific film forming conditions.
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