公开(公告)号：JPWO2019031250A1

公开(公告)日：2020-07-02

申请号：JP2018027972

申请日：2018-07-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  浅野 裕介 ,  峯岸 信也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

Abstract: 感度及び解像性に優れる感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリメタロキサンと、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、ゲルマニウム原子、スズ原子又は鉛原子である。Ar 1 は、置換若しくは非置換の環員数6〜20のアリール基又は置換若しくは非置換の環員数5〜20のヘテロアリール基である。R 1 は、炭素数1〜20の1価の有機基、水素原子、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。nは、2又は3である。

公开(公告)号：JPWO2018139109A1

公开(公告)日：2019-11-14

申请号：JP2017045386

申请日：2017-12-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 峯岸 信也 ,  白谷 宗大 ,  中川 恭志

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本発明は、下記式(1)、下記式(2)又はこれらの組み合わせで表される第1構造単位、及び下記式(3)で表される第2構造単位を有する金属酸化物と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)〜(3)中、Mは、それぞれ独立して、ゲルマニウム、スズ又は鉛である。R 1 、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立して、Mに炭素原子で結合する炭素数1〜40の1価の有機基である。上記金属酸化物を構成する全構造単位に対する上記第1構造単位の含有割合としては50モル%以上が好ましい。

公开(公告)号：JP6323456B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2015536505

申请日：2014-08-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  齊藤 隆一 ,  藤田 賢治 ,  栗田 俊輔 ,  酒井 達也

IPC: G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/11 ,  C09D1/00 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31144

公开(公告)号：JP2015219246A

公开(公告)日：2015-12-07

申请号：JP2014100016

申请日：2014-05-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 栗田 俊輔 ,  成岡 岳彦 ,  酒井 達也 ,  中川 恭志

IPC: G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  G03F7/11

Abstract: 【課題】ナノエッジラフネスを改善すると共に放射線感度及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成でき、ひいては、多層レジストプロセスにおける加工性能に優れるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、基板の上面側に無機膜形成用組成物により無機膜を形成する工程、上記無機膜の上面側に感放射線性樹脂組成物によりレジストパターンを形成する工程、及び上記レジストパターンをマスクとしたドライエッチングにより上記基板にパターンを形成する工程を備え、上記感放射線性樹脂組成物が、環炭素数6〜20の芳香環を有する構造単位を含む重合体及び感放射線性酸発生体を含有することを特徴とするパターン形成方法である。 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以获得具有改善的纳米边缘粗糙度并且具有优异的辐射敏感性和图案抗倒塌性的抗蚀剂图案，并且可以实现在多层抗蚀剂工艺中优异的加工性能。解决方案： 形成方法包括以下步骤：从在基板的上表面侧形成无机膜的组合物形成无机膜; 在无机膜的上表面侧由辐射敏感性树脂组合物形成抗蚀剂图案; 以及通过使用抗蚀剂图案作为掩模通过干法蚀刻在衬底上形成图案。 辐射敏感性树脂组合物包含含有在环上具有6〜20个碳原子的芳香环的结构单元和辐射敏感性酸发生剂的聚合物。

公开(公告)号：JP6809843B2

公开(公告)日：2021-01-06

申请号：JP2016160898

申请日：2016-08-18

Applicant: 国立大学法人大阪大学 ,  東京エレクトロン株式会社 ,  JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹 ,  田川 精一 ,  大島 明博 ,  永原 誠司

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38

公开(公告)号：JP6666572B2

公开(公告)日：2020-03-18

申请号：JP2017503402

申请日：2016-02-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  白谷 宗大 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  C08F212/04 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP6485298B2

公开(公告)日：2019-03-20

申请号：JP2015178977

申请日：2015-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  中川 恭志 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/20 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP6384373B2

公开(公告)日：2018-09-05

申请号：JP2015058722

申请日：2015-03-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

公开(公告)号：JP2017173420A

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：JP2016056981

申请日：2016-03-22

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川 恭志 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 【課題】250nm以下の波長を有するEUV光等をパターン露光光として用いた場合において優れた感度を発揮することが可能な感放射線性組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体と、露光により250nmを超える波長を有する第1放射線を吸収する増感体を発生する増感体前駆体と、金属含有化合物と、溶媒とを含有し、上記増感体前駆体が、下記(a)及び(b)成分の少なくとも一方を含む感放射線性組成物である。(a)250nm以下の波長を有する第2放射線を照射し上記第1放射線を照射しない場合に酸と上記増感体とを発生する感放射線性酸−増感体発生体 (b)上記第2放射線を照射し上記第1放射線を放射しない場合に上記増感体を発生する感放射線性増感体発生体 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2017054047A

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：JP2015178977

申请日：2015-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  中川 恭志 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/20 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004

Abstract: 【課題】感度及びナノエッジラフネス性能に優れる感放射線性樹脂組成物及びこの感放射線性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸の作用により現像液への溶解性が変化する第1成分、放射線の作用により酸を発生する第2成分、及び式(1)で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、Ar 1 は、炭素数6〜20の(m+1)価の芳香族炭化水素基である。Ar 2 は、炭素数6〜20の(n+1)価の芳香族炭化水素基である。R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、スルファニル基、アミノ基又は炭素数1〜20の1価の有機基である。1のR 1 とAr 2 の芳香族炭化水素基の芳香環を構成する炭素原子とが互いに合わせられ、R 1 が有する−O−、−S−、−NR’−又は炭素数1〜10の有機基を介して環を形成していてもよい。R 3 は、酸の作用により解離する基である。 【選択図】なし