公开(公告)号：JPWO2012133352A1

公开(公告)日：2014-07-28

申请号：JP2013507575

申请日：2012-03-26

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀 ,  龍一 芹澤 ,  龍一 芹澤

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F220/18 ,  C08F224/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/027

Abstract: 本発明の目的は、感度等の基本特性を十分に満足し、MEEF、DOF及びLWR等のリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物を提供することである。本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)と、この構造単位(I)以外の構造単位であって、環状カーボネート構造、スルトン構造及びラクトン構造からなる群より選択される少なくとも1種の構造を含む構造単位(II)とを有する1種以上の重合体成分、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。

公开(公告)号：JPWO2011122588A1

公开(公告)日：2013-07-08

申请号：JP2012508326

申请日：2011-03-28

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  木村　徹 ,  徹 木村 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される構造単位(II)を含む重合体、並びに[B]感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基である。R2は、炭素原子である。R3は、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。Zは、R2と共に炭素数10未満のシクロアルカンから誘導される2価の基を形成する基である。但し、Z、R2及びR3からなる基における炭素数の合計は8以上の条件を満たす。また、Z及びR2からなる基における炭素数が5又は6の場合、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。式(2)中、R4は、水素原子又はメチル基である。R5は、炭素原子である。R6は、炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。Xは、R4と共に炭素数10以上の2価の有橋脂環式炭化水素基を形成する基である。

公开(公告)号：JPWO2012157352A1

公开(公告)日：2014-07-31

申请号：JP2013515042

申请日：2012-04-02

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀

IPC: G03F7/039 ,  C08F224/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される酸解離性基含有構造単位(II)を有する重合体成分、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R0は、水素原子、フッ素原子、水酸基又は炭素数1〜20の1価の有機基である。R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR1及びR2が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR3及びR4が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R0〜R4のうち少なくともひとつはヘテロ原子を含む基である。

公开(公告)号：JPWO2013146532A1

公开(公告)日：2015-12-14

申请号：JP2014507795

申请日：2013-03-21

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 信也 峯岸 ,  信也 峯岸 ,  一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田 ,  光央 佐藤 ,  光央 佐藤 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。R2は、単結合、炭素数1〜20の2価の鎖状炭化水素基、炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基、又はこれらのうちの1種若しくは2種以上と−O−とを組み合わせた基である。R3は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。RAは、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。

Abstract translation: 本发明是[A]的聚合物，[B]一种感觉为含有具有由下述式（1）表示的结构单元的放射线酸产生液浸曝光的辐射敏感树脂组合物。 在下面的式（1）中，R 1是一价有机基团氢原子或C 1-20。 R 2表示单键，碳原子数1〜20的具有3至20个碳原子，或一个或多个其中，二价脂环式烃基的二价链烃基 - 是与O-结合的基团。 R3是一价有机基氢原子或C 1-20。 RA是单价有机基团氢原子或C 1-20。

公开(公告)号：JPWO2012133595A1

公开(公告)日：2014-07-28

申请号：JP2013507703

申请日：2012-03-28

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  木村　徹 ,  徹 木村 ,  裕介 浅野 ,  裕介 浅野 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀 ,  木村　礼子 ,  礼子 木村 ,  一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0041 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274

Abstract: 本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を用い、基板上に表面自由エネルギーが30mN/m以上40mN/m以下のレジスト膜を形成する工程、(2)マスクを介した放射線照射により、上記レジスト膜を露光する工程、及び(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有するレジストパターン形成方法である。上記工程(2)における露光を、上記レジスト膜上に液浸露光液を配置し、この液浸露光液を介して行うことが好ましい。上記感放射線性樹脂組成物は、[A]フッ素原子含有重合体、及び[C]酸発生体を含有することが好ましい。

公开(公告)号：JPWO2012043684A1

公开(公告)日：2014-02-24

申请号：JP2012536529

申请日：2011-09-28

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/004 ,  C07D307/93 ,  C07D493/18 ,  C08F220/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0275

Abstract: 本発明の目的は、感度等の基本特性だけではなく、MEEF性能、焦点深度、LRW、CDUをも十分に満足するレジスト膜形成用の感放射線性樹脂組成物を提供することである。本発明は、(1)基板上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程、(2)上記レジスト膜に露光する露光工程、(3)露光した上記レジスト膜を110℃以上にならない温度で加熱する加熱工程、及び(4)加熱した上記レジスト膜を現像する現像工程を有するパターン形成方法におけるレジスト膜形成用感放射線性樹脂組成物であって、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される構造単位(II)を有する重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。

公开(公告)号：JP5560854B2

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：JP2010084496

申请日：2010-03-31

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 昌史 吉田 ,  浩光 中島 ,  一樹 笠原 ,  一雄 中原 ,  誠 杉浦

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/10 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition having excellent resolution performance and forming a chemically amplifying type resist having a small MEEF and a small LWR, and also to provide a polymer used therefor.SOLUTION: The radiation sensitive resin composition has a polymer (A) having an alicyclic hydrocarbon group at a terminal of a molecular chain and a repeating unit represented by formula (1) and a solvent (B).