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公开(公告)号:JP2017125182A
公开(公告)日:2017-07-20
申请号:JP2016243826
申请日:2016-12-15
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】溶媒としてPGMEA等を用いることができ、エッジリンス性、溶媒耐性、エッチング耐性、耐熱性及び埋め込み性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用重合体並びにレジスト下層膜形成用組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は下記式(1)で表される第1繰り返し単位を有するレジスト下層膜形成用重合体である。下記式(1)中、Ar 1 、Ar 2 及びAr 3 は、それぞれ独立して、置換又は非置換の炭素数6〜30のアレーンジイル基である。R 1 は、置換又は非置換の炭素数1〜30の2価の炭化水素基である。nは、0又は1である。R 2 は、水素原子、置換若しくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基又は置換若しくは非置換の炭素数6〜30のアリール基である。R 3 は、置換又は非置換の炭素数6〜30の1価の芳香族炭化水素基である。R 4 は、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素数1〜30の1価の炭化水素基である。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP5842503B2
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:JP2011208764
申请日:2011-09-26
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C09D161/14 , G03F7/094 , G03F7/11 , H01L21/31144 , C08K5/42 , C08L101/02
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公开(公告)号:JP5724798B2
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:JP2011214135
申请日:2011-09-29
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0397
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公开(公告)号:JP6288090B2
公开(公告)日:2018-03-07
申请号:JP2015528248
申请日:2014-07-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/3065 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/32 , C09K13/00 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/20 , H01L21/3065 , H01L21/31122
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公开(公告)号:JP6163770B2
公开(公告)日:2017-07-19
申请号:JP2013016155
申请日:2013-01-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0752 , G03F7/094
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公开(公告)号:JP6146305B2
公开(公告)日:2017-06-14
申请号:JP2013538506
申请日:2012-10-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: H01L21/3081 , G03F7/094 , H01L21/02164 , H01L21/0271 , H01L21/033 , H01L21/31116 , H01L21/31138
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公开(公告)号:JP6361657B2
公开(公告)日:2018-07-25
申请号:JP2015523959
申请日:2014-06-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/40 , G03F7/20 , H01L21/027 , C07C15/50 , C07C15/54 , C07C33/28 , C07C211/53 , C08F38/00
CPC classification number: G03F7/11 , C07C15/14 , C07C15/18 , C07C15/50 , C07C15/54 , C07C15/58 , C07C25/24 , C07C33/28 , C07C33/38 , C07C39/21 , C07C43/215 , C07C211/50 , C07C211/58 , C08F38/00 , G03F7/094 , G03F7/168 , G03F7/36 , H01L21/0271
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