公开(公告)号：JP2017537050A

公开(公告)日：2017-12-14

申请号：JP2017526846

申请日：2015-11-17

Applicant: コーニング インコーポレイテッド ,  コーニング インコーポレイテッド

Inventor： アンナーマライ，セジアン ,  アルバート デュラン，カーロス ,  アルバート デュラン，カーロス ,  エドワード ハーディナ，ケネス ,  エドワード ハーディナ，ケネス

IPC: C03C3/076 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/076 ,  C03C10/0009 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2201/58 ,  C03C2203/54

Abstract: 超低膨張チタニア−シリカガラス。本ガラスは、高ヒドロキシル含有量を有し、かつ任意選択的に、1種またはそれ以上のドーパントを含む。代表的な任意選択のドーパントとしては、ホウ素、アルカリ元素、アルカリ土類元素、またはNb、Ta、Al、Mn、Sn、CuおよびSnなどの金属が含まれる。本ガラスは、ヒドロキシル含有量を増加させるための蒸気圧密を含むプロセスによって調製される。高ヒドロキシル含有量またはドーパントと高ヒドロキシル含有量との組合せによって、ガラスの仮想温度が低下し、非常に低い熱膨張係数(CTE)、低い仮想温度(Tf)および低い膨脹率勾配を有するガラスが提供される。

公开(公告)号：JP5700699B2

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：JP2012109990

申请日：2012-05-11

Applicant: 株式会社フジクラ

Inventor： 愛川 和彦 ,  麻野 将弘 ,  林 和幸 ,  宮地 正己 ,  工藤 学

IPC: C03B37/027 ,  G02B6/02 ,  C03C13/04 ,  C03B37/012

CPC classification number: G02B6/02214 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01217 ,  C03B37/0122 ,  C03B37/01222 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/02 ,  C03B2203/12 ,  C03B2203/14 ,  C03B2203/31 ,  C03B2203/34 ,  C03B2205/40 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP5670043B2

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：JP2009258759

申请日：2009-11-12

Applicant: ドラカ・コムテツク・ベー・ベー

Inventor： アラン・パストウレ ,  エカテリーナ・ブロフ ,  ダビツド・ボワバン ,  クリステイーヌ・コレ ,  オリビエ・カバーニ

IPC: H01S3/067 ,  G02B6/02

CPC classification number: H01S3/06716 ,  B82Y30/00 ,  C01F7/34 ,  C01F7/441 ,  C01P2002/52 ,  C01P2004/64 ,  C03B37/01838 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/60 ,  C03B2201/70 ,  C03C4/0071 ,  C03C13/04 ,  C03C14/006 ,  C03C2214/16 ,  H01S3/1608 ,  H01S3/169 ,  H01S3/176 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP5384133B2

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：JP2009030104

申请日：2009-02-12

Applicant: 三菱電線工業株式会社

Inventor： 成珍 金 ,  哲也 山本

IPC: H01S3/067 ,  C03B8/04 ,  C03B37/018

CPC classification number: C03B37/01807 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/34

公开(公告)号：JP5362140B1

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：JP2013513320

申请日：2012-12-10

Applicant: オリンパス株式会社

Inventor： 誠 田邉 ,  博基 高木

IPC: C03B37/012 ,  A61B1/00 ,  G02B6/00 ,  G02B23/26

CPC classification number: A61B1/00 ,  A61B1/0011 ,  A61B1/0017 ,  A61B1/07 ,  C03B37/02718 ,  C03B37/02754 ,  C03B37/029 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2203/222 ,  C03B2203/32 ,  C03B2205/14 ,  C03B2205/16 ,  C03B2205/63 ,  G02B6/06 ,  G02B23/2469 ,  Y02P40/57

Abstract: Provided is a method for manufacturing an optical fiber that is inserted into an insertion portion of an endoscope and guides light, wherein inside an upright fiber drawing furnace, inside a hollow clad tube including a clad glass having a viscosity eta1 of 5.0

公开(公告)号：JPWO2011068064A1

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：JP2011544241

申请日：2010-11-24

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小池　章夫 ,  章夫 小池 ,  喬宏 三森 ,  喬宏 三森 ,  朝敬 小川 ,  朝敬 小川

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  G03F1/22 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42

Abstract: 本発明は、TiO2を5〜10質量%含有し、B2O3、P2O5およびSのうち、少なくとも一つを合計含有量で50質量ppb〜5質量%含有する、TiO2を含有するシリカガラスに関する。

公开(公告)号：JP4755114B2

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：JP2006551141

申请日：2005-01-11

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： ティー ウォルトン，ドネル ,  コウ，ジョーヒュン ,  エイ ゼンテノ，ルイス ,  エル テネント，クリスティン ,  ワン，ジー

IPC: C03C13/04 ,  G02B6/036 ,  H01S3/042 ,  H01S3/06 ,  H01S3/067

CPC classification number: C03C13/046 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2203/04 ,  C03B2203/10 ,  C03B2203/12 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/32 ,  H01S3/06708

公开(公告)号：JP4321362B2

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：JP2004164353

申请日：2004-06-02

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 信行 平 ,  徹也 春名 ,  稔樹 樽 ,  哲太郎 片山 ,  真二 石川

IPC: C03B37/018 ,  G02B6/02 ,  C03B8/04

CPC classification number: C03B37/01807 ,  C03B37/01876 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/90

公开(公告)号：JP2008503434A

公开(公告)日：2008-02-07

申请号：JP2007517323

申请日：2005-06-23

Applicant: ベネク・オサケユキテュア

Inventor： クルキ，ジョウコ ,  ニイニステ，ラウリ ,  パイヴァサーリ，ジャニ ,  ピメノフ，ジョー ,  プトコネン，マッティ ,  ラジャラ，マルック

IPC: C03B8/00 ,  C03B37/014 ,  C03C20060101 ,  C03C21/00 ,  C03C23/00 ,  C23C20060101 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C30B25/02 ,  C30B31/08 ,  C30B31/16

CPC classification number: C03C23/0005 ,  C03B37/01838 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03C21/00 ,  C03C21/007 ,  C23C16/0263 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45553 ,  C30B25/02 ,  C30B31/08 ,  C30B31/16 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24926

Abstract: 本発明は、a)前処理された所定のパターン/領域を材料に達するまで放射線を照射すること；b)材料を処理して、前処理されたパターン/領域に反応性基を生成させること；およびc)原子層堆積法によって材料をドーピングして、ドーパントがドーピングされたパターン/領域を材料に生成させることを特徴とする、材料を選択的にドーピングする方法に関する。 本発明はさらに、選択的にドーピングされた材料、選択的にドーピングされた材料を製造するためのシステム、および前記方法の使用に関する。

公开(公告)号：JP3668862B2

公开(公告)日：2005-07-06

申请号：JP16878398

申请日：1998-06-16

Applicant: ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングHeraeus Quarzglas Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung ,  信越石英株式会社

Inventor： アントン・シュタインコール ,  クラウス・ルッペルト

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/42 ,  F23D2900/00006