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公开(公告)号：JP2017524760A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：JP2016572506
申请日：2015-06-01
发明人： クリストフ ナヴァロ， , クリストフ ナヴァロ， , セリア ニコレ， , セリア ニコレ， , ザビエル シュバリエ， , ザビエル シュバリエ，
IPC分类号： C08J5/18 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08F293/00 , C08F297/02
CPC分类号： C09D153/00 , B05D1/005 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08F297/026 , C08J5/18 , C08J2325/08 , C08J2333/08 , C08L53/00 , G03F7/0002
摘要： 本発明は、50kg/モル超、好ましくは100kg/モル超かつ250kg/モル未満の分子量を有するベースブロック共重合体であって、その少なくとも1つのブロックがスチレンを含み、かつその少なくとも1つの他のブロックがメチルメタクリレートを含むベースブロック共重合体から得られた、ナノドメインへとナノ構造化されたブロック共重合体フィルムに関する。このフィルムは、スチレン系ブロックが、スチレンとジフェニルエチレン(DPE)との共重合によって形成されることを特徴とする。【選択図】なし
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公开(公告)号：JPWO2015072339A1
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015517513
申请日：2014-10-30
发明人： 由希枝 植村 , 由希枝 植村 , 木村 利久 , 利久 木村 , 大地 尉夫 , 尉夫 大地 , 寿計 田中 , 寿計 田中 , 信洋 小江 , 信洋 小江 , 盛緒 佐藤 , 盛緒 佐藤 , 隆二 横山 , 隆二 横山
IPC分类号： C09D17/00 , C08F297/02 , C09B67/20 , C09B67/46 , C09D11/326
CPC分类号： C09D11/107 , B01J19/0093 , B01J2219/00867 , B01J2219/00873 , B01J2219/00889 , B01J2219/00894 , B41J2/01 , B41J2/165 , C08F297/02 , C08F297/026 , C09B67/009 , C09D11/322 , C09D11/326 , C09D17/00
摘要： アニオン性基を有し、水への溶解度が0.1g/100ml以下であり、且つ、前記アニオン性基の塩基性化合物による中和率を100%にしたときに水中で微粒子を形成する、数平均分子量が1000〜6000の範囲内であるポリマー(A)と、顔料と、水とを含有することを特徴とする水性顔料分散体及びインクジェット記録用水性インク。前記ポリマー(A)が一般式(1)で表されるポリマーであることが好ましい。(1)(式(1)中、A1は有機リチウム開始剤残基を表し、A2は芳香環または複素環を有するモノマーのポリマーブロックを表し、A3はアニオン性基を含むポリマーブロックを表し、nは1〜5の整数を表し、Bは芳香族基またはアルキル基を表す。)
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公开(公告)号：JP6087375B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2014551464
申请日：2013-04-24
申请人： 株式会社クラレ
IPC分类号： C09J133/08 , C09J133/10 , C09J7/00 , C09J153/00
CPC分类号： C09J7/0221 , B32B27/00 , B32B27/30 , C08F297/026 , C09J153/00 , C09J7/02 , G09F3/10 , C09J2201/606 , C09J2203/334 , C09J2205/114 , C09J2433/00 , C09J2453/00 , Y10T428/2891
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公开(公告)号：JPWO2014109308A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2014556411
申请日：2014-01-07
申请人： 日本曹達株式会社
IPC分类号： B01F17/52 , B01F17/16 , B01F17/18 , C01G25/02 , C08F2/44 , C08F2/48 , C08F220/34 , C08F297/02 , C08K3/00 , C08L53/00 , C08L101/00
CPC分类号： C08F297/026 , C08L53/00 , C08K3/00
摘要： 本発明は、3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩構造を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む重合体ブロック(a)と、架橋性官能基を有する繰り返し単位及び光による酸化で生成するラジカルを捕捉する機能を有する構造を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む重合体ブロック(b)とを含有するブロック共重合体からなる無機粒子用分散剤を提供する。
摘要翻译： 本发明包括的聚合物嵌段，其包括选自由具有重复单元和具有叔氨基的（a），交联性官能团的季铵盐结构的重复单元组成的组中的至少一种重复单元 （b）选自具有由具有与重复单元和光氧化生成的自由基捕捉的功能结构的重复单元组成的组中含有的聚合物嵌段包含至少一个重复单元的嵌段共聚物 提供由无机颗粒分散剂。
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公开(公告)号：JP5994788B2
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：JP2013542944
申请日：2012-11-01
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： C08F297/02 , H01L21/027 , G03F7/40 , C08L53/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/00031 , C08F297/026 , C08L53/005 , G03F7/0035 , H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/32139 , B81C2201/0149
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公开(公告)号：JP5911534B2
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：JP2014149212
申请日：2014-07-22
申请人： アルケマ フランス
发明人： ナヴァロ, クリストフ , シュバリエ, ザビエル , ニコレ, セリア
CPC分类号： B05D3/046 , B05D3/0254 , B05D3/0493 , C08F2/001 , C08F297/026 , C09D153/00 , G03F1/68 , G03F7/00 , G03F7/0002
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公开(公告)号：JP5793867B2
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：JP2010529184
申请日：2010-07-07
申请人： 三菱レイヨン株式会社
IPC分类号： C08F2/04
CPC分类号： C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085
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公开(公告)号：JP2015170723A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014044442
申请日：2014-03-06
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： B82B3/00 , B05D7/24 , B05D3/10 , C08L101/00 , H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , C08F297/026 , G03F7/0002
摘要： 【課題】十分に微細なパターンを簡便に形成することができるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、ブロック共重合体である第1重合体と、このブロック共重合体よりも表面自由エネルギーが小さい第2重合体とを含有する組成物を用い、上記第2重合体が表層領域に偏在する塗膜を形成する工程、上記塗膜の少なくとも一部を、略垂直方向に相分離させることにより自己組織化膜とする工程、及び上記自己組織化膜の一部の相を除去する工程を備えるパターン形成方法である。上記自己組織化膜は上記第1重合体で構成されることが好ましい。上記第1重合体の表面自由エネルギーから上記第2重合体の表面自由エネルギーを減じた値としては、1mN/m以上20mN/m以下が好ましい。 【選択図】図4
摘要翻译： 要解决的问题：提供能够方便地形成足够精细图案的图案化方法。解决方案：图案化方法包括通过使用组合物形成第二聚合物不均匀地分布在表面层区域中的涂膜的步骤 含有嵌段共聚物的第一聚合物，所述第二聚合物的表面自由能小于嵌段共聚物的表面自由能，通过在大致垂直方向上的相分离来自组织所述涂膜的至少一部分的步骤，以及步骤 用于去除自组织膜的部分相。 自组织膜优选由第一共聚物组成。 通过从第一聚合物减去第二聚合物的表面自由能获得的值优选为1-20mN / m。
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公开(公告)号：JP2015044981A
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：JP2014149212
申请日：2014-07-22
申请人： アルケマ フランス , Arkema France , アルケマ フランス
CPC分类号： B05D3/046 , B05D3/0254 , B05D3/0493 , C08F2/001 , C08F297/026 , C09D153/00 , G03F1/68 , G03F7/00 , G03F7/0002 , C08L25/06
摘要： 【課題】数nmオーダーのドメインサイズの解像度を持つ、ナノリソグラフィーに用いる、50nmを下廻るスケールでコポリマーを構成するブロックの配置が可能なブロックポリマーリソグラフィー用混合物の提供。【解決手段】ブロックコポリマーとブロックの一つの(コ)ポリマーのブレンドから得られる形態を特徴付ける周期を薄膜中で制御する方法であって、以下の段階を含む方法。(1)ブロックコポリマーの合成であって、前記合成の産物が、ブロックコポリマー及びブロックの一つの(コ)ポリマーを含むようにする、合成と、(2)前記ブロックコポリマーと前記(コ)ポリマーの前記混合物の溶液の、表面上への堆積と、(3)溶媒の蒸発と、(4)アニーリング【選択図】なし
摘要翻译： 要解决的问题：提供用于光刻的嵌段聚合物共混物，其用于具有几nm左右的畴尺寸的分辨率的纳米光刻技术，并且可以在50nm以下的构成共聚物的嵌段排列 解决方案：控制从嵌段共聚物和其中一个嵌段共聚物（薄膜）的共混物开始形成的表征时间的方法包括以下阶段：（1）合成嵌段共聚物使得产物 的合成包括嵌段共聚物和其中一个嵌段的（共）聚合物; （2）将嵌段共聚物和（共）聚合物的共混物溶液沉积在表面上; （3）蒸发溶剂; 和（4）退火。
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