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公开(公告)号：KR1020160128244A
公开(公告)日：2016-11-07
申请号：KR1020160051603
申请日：2016-04-27
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/11 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/2059 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要： [과제] 시간경과에의한 CD 수축이나패턴형상의변화를억제하여, 안정된패턴형성을가능하게하는레지스트조성물및 이것을이용한패턴형성방법을제공한다. [해결수단] (A) 하기식(1)으로표시되는화합물, (B) 소정의반복단위를포함하고, 산의작용에의해유기용제함유현상액에대한용해도가변화되는수지, 및 (C) 광산발생제를포함하는레지스트조성물.(식에서, R~R는각각독립적으로수소원자, 히드록시기, 또는헤테로원자를포함하고있어도좋은탄소수 1~20의직쇄상, 분기상혹은환상의 1가탄화수소기를나타낸다. R~R는상호결합하여이들이결합하는탄소원자및 이들사이의탄소원자와함께고리를형성하여도좋다.)
摘要翻译： 通过涂覆抗蚀剂组合物形成图案，所述抗蚀剂组合物包含（A）PPD抑制剂，（B）适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解度的聚合物，（C）光酸产生剂，和（D）有机 溶剂涂布到基材上，烘烤，曝光抗蚀剂膜，PEB，并在有机溶剂显影剂中显影。 抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制由于PEB到显影的延迟而导致的任何CD收缩和图案轮廓变化。
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公开(公告)号：KR1020170077055A
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：KR1020160176826
申请日：2016-12-22
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
IPC分类号： C08F220/26 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0382 , C07D307/77 , C07D307/93 , C07D307/94 , C07D493/18 , C07D493/20 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08F2800/20 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/327 , C08F2220/1891 , C08F220/20
摘要： 본발명은, 하기식 (1)로표시되는반복단위를포함하는고분자화합물을제공하는것을목적으로한다.본발명의고분자화합물을레지스트조성물의베이스수지로서이용하면, 초점심도(DOF) 마진이나마스크치수의존성(마스크에러팩터: MEF)이우수한양호한패턴을형성할수 있다.
摘要翻译： 本发明的目的在于提供含有下述式（1）所示的重复单元的高分子化合物，使用本发明的高分子化合物作为抗蚀剂组合物的基础树脂时，焦点深度（DOF） 尺寸依赖性（掩模误差因子：MEF）可以形成良好的模式。
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公开(公告)号：KR102112899B1
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：KR1020160176826
申请日：2016-12-22
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
IPC分类号： C08F220/26 , G03F7/004
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