公开(公告)号：KR101851476B1

公开(公告)日：2018-04-23

申请号：KR1020167016739

申请日：2014-09-10

申请人： 아심켐 래보러토리즈 (톈진) 컴퍼니, 리미티드 ,  아심켐 라이프 사이언스 (톈진) 컴퍼니, 리미티드 ,  톈진 아심켐 파마슈티컬 컴퍼니, 리미티드 ,  아심켐 래보러토리즈 (푸신) 컴퍼니, 리미티드 ,  지린 아심켐 래보러토리즈 컴퍼니, 리미티드

发明人： 홍,하오 ,  리,주위안 ,  동,창밍 ,  장,신 ,  제임스,게이지

IPC分类号： C08F20/18 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C08F212/08 ,  B01J31/06 ,  C07D477/04 ,  C07D477/06 ,  C08F4/659

CPC分类号： B01J31/06 ,  B01J23/464 ,  B01J31/28 ,  C07D477/04 ,  C07D477/06 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08J9/0061 ,  C08J9/141 ,  C08J9/142 ,  C08J9/145 ,  C08J9/149 ,  C08J2203/12 ,  C08J2203/14 ,  C08J2203/142 ,  C08J2325/08 ,  C08J2405/00 ,  C08J2429/04 ,  Y02P20/584 ,  C08F212/34 ,  C08F212/36 ,  C08F212/32

摘要： 본발명은카복실기를함유한폴리머, 그제조방법및 용도, 담지형촉매및 페넴항생물질중간체의제조방법을제공한다. 상기폴리머는높은강성및 경도를구비하고폴리머의기계물성을유효하게개선시킬수 있다. 이와동시에, 이폴리머는카복실기를주요작용기로하고그것을담체로함으로써카복실기와중금속이배합반응하여제조된금속담지촉매중 금속과폴리머사이에더욱양호한접속안정성을구비한다. 상기두 측면의요소로인하여금속담지촉매의안정성을개선하고촉매를반복적으로사용하여도촉매활성을잃지않는다. 이와동시에, 중금속의활성성분의유실을감소하고생산원가를저하시킬수 있다.

公开(公告)号：KR101834119B1

公开(公告)日：2018-03-02

申请号：KR1020170067697

申请日：2017-05-31

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 하타케야마준 ,  도몬다이스케

IPC分类号： C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F1/66 ,  G03F7/20 ,  C08F20/38 ,  C08F216/14 ,  C08F220/26

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  C08F212/32 ,  C08F236/14 ,  C08F2220/1891

摘要： [과제] 종래의포지티브형레지스트재료를웃도는고해상도이며라인엣지러프니스가작은포지티브형레지스트재료의베이스수지로서적합한폴리머, 이것을포함하는포지티브형레지스트재료및 이것을이용한패턴형성방법을제공한다. [해결수단] 하기식 (a)로표시되는반복단위, 하기식 (b)로표시되는반복단위, 및하기식 (c)로표시되는반복단위를포함하고, 중량평균분자량이 1,000∼500,000인폴리머.(식에서, R은할로겐원자, 하이드록시기, 직쇄상혹은분기상의탄소수 1∼4의알킬기, 직쇄상혹은분기상의탄소수 1∼4의알콕시기, 또는아세톡시기이다. R는산 불안정기이다. R및 R는, 각각독립적으로, 할로겐원자, 또는탄소수 1∼6의직쇄상혹은분기상의알킬기이다. p는 0 또는 1이다. q 및 r은각각독립적으로 0∼4의정수이다.)

公开(公告)号：KR101812082B1

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：KR1020167006252

申请日：2013-03-26

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 츠치무라토모타카 ,  츠루타타쿠야 ,  이나사키타케시 ,  타카하시코타로

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C309/77 ,  C07C309/73 ,  C08F12/24 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/027 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/26 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F1/00 ,  G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  C08F212/32 ,  C08F212/08

摘要： 고감도, 고해상성, 높은경시안정성, 스컴의발생이적고및 양호한드라이에칭내성을동시에만족하는패턴을형성할수 있는감활성광선성또는감방사선성조성물, 그것을사용한레지스트막, 레지스트도포마스크블랭크스, 레지스트패턴형성방법, 및포토마스크를제공한다. (A) 하기일반식 (αI) 또는 (I)로나타내어지는화합물, 및 (B) 활성광선또는방사선의조사에의해산을발생시키는화합물을함유하는감활성광선성또는감방사선성조성물.상기일반식 (αI) 및 (I) 중, R∼R의각각은수소원자또는치환기를나타낸다. A는 1가의유기기를나타낸다.

摘要翻译： 高灵敏度，高分辨率，随着时间的推移的高稳定性，薄膜较少的使用干蚀刻耐性可以形成图案，使用光化射线或最后辐射敏感组合物的感觉，是满足在同一时间，该抗蚀剂浮渣的发生和良好的，抗蚀剂膜形成掩模坯料，抗蚀剂图案 成形方法和光掩模。 （A）式（αI）或（I）化合物，和（B）使用光化射线或活性射线的含有产生照射第一或辐射敏感组合物的溶解的化合物的感的。一般 在式（Ⅰ）和（Ⅰ）中，R至R各自代表氢原子或取代基。 A代表一价有机基团。

公开(公告)号：KR101782833B1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：KR1020147035470

申请日：2013-06-26

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 츠루타타쿠야 ,  츠치무라토모타카 ,  이와토카오루

IPC分类号： C08F12/22 ,  C08F20/30 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F12/24 ,  C08F8/02 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/20 ,  C08F212/32 ,  C08F212/08 ,  C08F220/32 ,  C08F220/36

摘要： 본발명의수지조성물은하기일반식(1)으로나타내어지는반복단위(Q)를포함하는고분자화합물(A)을포함한다. 식중, R은수소원자, 메틸기, 또는할로겐원자를나타내고; R및 R은수소원자, 알킬기, 또는시클로알킬기를나타내고; L은 2가의연결기또는단일결합을나타내고; Y는메틸롤기를제외한치환기를나타내고; Z는수소원자또는치환기를나타내고; m은 0~4의정수를나타내고; n은 1~5의정수를나타내고; m+n은 5 이하이다.

公开(公告)号：KR101768291B1

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：KR1020140175412

申请日：2014-12-08

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 김정근 ,  이정규 ,  이제권 ,  이미숙 ,  박노진 ,  구세진 ,  최은영 ,  윤성수

IPC分类号： C08F297/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F212/12 ,  C08F216/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/22 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08F293/005 ,  B81C1/00428 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C07C35/48 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07C2601/16 ,  C07D209/48 ,  C07F7/1852 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F2438/03 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J7/14 ,  C08J2353/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162

摘要： 본출원은블록공중합체및 그용도에관한것이다. 본출원은, 자기조립특성이우수하여다양한용도에서효과적으로사용될수 있는블록공중합체및 그용도를제공할수 있다.

公开(公告)号：KR101747077B1

公开(公告)日：2017-06-15

申请号：KR1020150089234

申请日：2015-06-23

申请人： (주)경인양행

发明人： 박순현 ,  김정기 ,  이윤아 ,  이도경 ,  이민정 ,  최동일 ,  김정록

IPC分类号： C08F12/32 ,  C08F12/22 ,  C08L25/18 ,  C08K5/00 ,  G02B5/20 ,  C07D311/80

CPC分类号： C08F20/36 ,  C07D311/80 ,  C07D311/82 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F20/38 ,  C08F26/06 ,  C08K5/00 ,  C08K5/435 ,  C08L25/18 ,  C08L2203/16 ,  C09B57/14 ,  G02B5/20 ,  G02B5/287

摘要： 본발명은컬러필터용착색수지조성물로사용되는고분자화합물에관한것으로서, 하기 [화학식 1] 또는 [화학식 2]로표시되는구조를포함하는고분자화합물로서내열성, 내광성이우수하고, 내화학성이개선되어이를이용하여다양한소재에적용이가능하며, 특히디스플레이소재인컬러필터용수지조성물에적용이가능하다. [화학식 1] [화학식 2]상기화학식에서치환기는명세서에정의된바와같다.

公开(公告)号：KR1020160135321A

公开(公告)日：2016-11-25

申请号：KR1020167029080

申请日：2015-03-02

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 나카무라구니히코 ,  마스모토아카네 ,  도미나가츠네요시

IPC分类号： C08J3/12 ,  C08F12/08 ,  G03G9/08 ,  G03G9/087 ,  G03G9/09 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F222/10

CPC分类号： C08F222/10 ,  C08F12/08 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  G03G9/08 ,  G03G9/0806 ,  G03G9/087 ,  G03G9/08711 ,  G03G9/08755 ,  G03G9/08795 ,  G03G9/08797 ,  G03G9/09

摘要： 이온성관능기를갖는 pKa가 6.0 이상 9.0 이하인수지, 수지를용해할수 있는용해도파라미터가 12.0 이하인유기용제, 물, 및이온성관능기의 50mol% 이상 90mol% 이하를중화할수 있는양의중화제를사용하여조제된액을사용하여, 수지를함유하는입자를제조하는수지입자의제조방법으로서, 중화제가, pKa가 3.0 이하인산 및 pKb가 3.0 이하인염기로이루어지는군에서선택되는적어도 1종을포함한다.

摘要翻译： 一种树脂颗粒的制造方法，包括使用由具有离子性官能团的树脂和pKa为6.0〜9.0的树脂制备树脂颗粒的步骤，可溶解树脂的有机溶剂， 溶解度参数为12.0以下，水和中和剂，其中中和剂含有pKa为3.0以下的酸或pKb为3.0以下的碱。

公开(公告)号：KR101669837B1

公开(公告)日：2016-10-27

申请号：KR1020147034029

申请日：2013-07-12

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 사메지마스구루 ,  카와시마타카시 ,  타구치요시노리 ,  무라카미요우스케

IPC分类号： C09B67/20 ,  C09B47/18 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13

CPC分类号： C09B47/18 ,  C08F2/44 ,  C08F12/32 ,  C08K5/0041 ,  C08K5/0091 ,  C08L101/00 ,  C09B11/24 ,  C09B23/06 ,  C09B23/083 ,  C09B29/0808 ,  C09B29/081 ,  C09B29/366 ,  C09B47/10 ,  G02B5/223 ,  G02F1/133514 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/004 ,  G03F7/105 ,  H01L27/14 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/322

摘要： 본발명의착색경화성조성물은일반식(1)으로나타내어지는화합물을함유한다. 일반식(1) 중, X∼X는각각할로겐원자를나타내고, M은금속원자, 금속산화물, 금속할로겐화물또는무금속을나타낸다. R∼R는각각일반식(2)으로나타내어지는기 또는그 기이외의치환기를나타내고, R∼R중적어도 1개가하기일반식(2)으로나타내어지는기이다. n∼n는각각 0∼4의정수를나타내고, m∼m는각각 0∼4의정수를나타낸다. 단, n∼n의총합및 m∼m의총합은각각 1이상이다. 일반식(2) 중, L은 2가의연결기를나타내고, Ar은아릴렌기를나타내고, A는중합성기를갖는기를나타낸다. *은프탈로시아닌환과결합하는부위를나타낸다.

公开(公告)号：KR1020160122140A

公开(公告)日：2016-10-21

申请号：KR1020167021513

申请日：2015-02-04

申请人： 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤

发明人： 오쿠야마겐이치 ,  모토오카마미

IPC分类号： C08F12/22 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/13363 ,  G02B5/30 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/30

CPC分类号： C09K19/56 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F212/145 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F222/20 ,  C08F222/22 ,  C08F2220/281 ,  G02B5/30 ,  G02B5/3083 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/133788 ,  C08F2220/303 ,  C08F2222/102 ,  C08F2220/365

摘要： 본발명은액정배향능의안정성이우수한배향층을형성가능하고, 저온경화가가능한, 광배향성을갖는열경화성조성물, 그리고그것을사용한배향층, 배향층을갖는기재, 위상차판및 디바이스를제공하는것을주목적으로한다. 본발명은광배향성구성단위와, 열가교성기가탄소수 4 내지 11의직쇄알킬렌기또는반복수 2 내지 5의폴리에틸렌글리콜기를통하여결합되어있는열가교성구성단위를갖는공중합체를함유하는것을특징으로하는광배향성을갖는열경화성조성물을제공함으로써, 상기목적을달성한다.

摘要翻译： 本发明的一个实施方案提供了具有光取向性的热固性组合物，包括含有光取向结构单元的共聚物和热交联基团，其中热交联基团通过直链 - 碳数为4〜11的链状亚烷基，或周期数为2〜5的聚乙二醇基。

公开(公告)号：KR1020160027152A

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：KR1020167002776

申请日：2014-06-20

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 타키자와히로오 ,  츠루타타쿠야 ,  츠치무라토모타카

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  C08F12/32 ,  C08F12/22

CPC分类号： G03F7/325 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2059

摘要： (1) 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용하여막을형성하는공정과, (2) 상기막을활성광선또는방사선으로노광하는공정과, (3) 유기용제를포함한현상액을이용하여상기노광된막을현상하는공정을포함한패턴형성방법으로서, 상기감활성광선성또는감방사선성수지조성물이, 방향환을갖는특정구조의반복단위와, 산분해성기를갖는특정구조의반복단위와, 가교성기를갖는특정구조의반복단위를갖는수지를함유하는, 패턴형성방법에의하여, 초미세영역(예를들면선폭 50nm 이하의영역)에있어서, 고감도, 고해상성(고해상력등), 높은러프니스성능, 막감소저감성능, 높은노광래티튜드, 및높은드라이에칭내성을매우고차원으로동시에만족하는패턴형성방법, 이에이용되는감활성광선성또는감방사선성수지조성물및 레지스트막, 그리고이들을이용한전자디바이스의제조방법및 전자디바이스를제공한다.