公开(公告)号：KR101922790B1

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：KR1020167034584

申请日：2015-06-11

Applicant: 가부시키가이샤 아루박

Inventor： 코바야시히로키 ,  헨미미츠노리 ,  히로세미츠타카 ,  마시마시노스케 ,  기무라이사오 ,  수코우코우

IPC: H01B5/14 ,  C23C14/34 ,  C23C14/04 ,  C23C14/06 ,  H01L41/18 ,  H01L41/083 ,  H01L41/316 ,  H01L41/27 ,  B41J2/14

CPC classification number: H01L41/083 ,  B32B15/00 ,  B41J2/14 ,  C23C14/04 ,  C23C14/088 ,  C23C14/185 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  C23C14/588 ,  H01L41/0471 ,  H01L41/0805 ,  H01L41/29 ,  H01L41/297 ,  H01L41/314 ,  H01L41/316

Abstract: 본다층막은기판의일측주요면쪽에제 1 도전층, 유전체층및 제 2 도전층이순차적으로적층되어배치된다층막이며, 상기유전체층은유전체층의하면이제 1 도전층의표면에접하고, 유전체층의상면및 측면이제 2 도전층에의해피복되어있으며, 또한, 상기기판의일측주요면쪽에있어서, 제 1도전층과제 2 도전층이직접겹쳐지는부위의측면단부는기판의측면단부보다내측에위치한다.

公开(公告)号：KR101920249B1

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：KR1020177017930

申请日：2016-06-08

Applicant: 가부시키가이샤 알박

Inventor： 후지나가,테츠시 ,  이호리,아츠히토 ,  마츠모토,마사히로 ,  타니,노리아키 ,  이와이,하루노리 ,  이와타,켄지 ,  사토,요시나오

IPC: H01J37/32 ,  C23C14/02

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C14/022 ,  C23C14/566 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/3464 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/335

Abstract: 제1 플레이트(23) 및제2 플레이트(24)를구비하는애노드유닛(17)을포함하는기판처리장치가제공된다. 상기제1 플레이트(23)는복수의제1 관통홀들(23a)을포함하며, 상기제1 관통홀들을통해흐르게함으로써상기가스가상기제1 플레이트(23)의표면의방향으로확산되게한다. 상기제2 플레이트(24)는상기제1 관통홀들(23a)보다큰 복수의제2 관통홀들(24a)을포함한다. 상기제2 플레이트(24)는상기제1 관통홀들(23a)을통과한상기가스가상기복수의제2 관통홀들(24a)을통해상기제2 플레이트(24)와캐소드스테이지사이로흐르게한다. 상기제2 관통홀들(24a)은각 제2 관통홀 내부의플라즈마의방출강도가상기제2 플레이트(24)와상기캐소드스테이지사이에서발생되는플라즈마의방출강도보다높게될 수있게하는형상을가진다.

公开(公告)号：KR101826789B1

公开(公告)日：2018-02-07

申请号：KR1020167010833

申请日：2014-09-24

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 마디왈,나겐드라,브이. ,  데코팅니즈,로버트,어빈 ,  응우옌,앤드류 ,  레우터,폴,비. ,  시코,안젤라,알. ,  쿠차,마이클 ,  모리,트라비스 ,  디산토,미첼

IPC: H01L21/67 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205 ,  H01L21/203 ,  H01L21/60

CPC classification number: H01L21/6719 ,  C23C14/564 ,  C23C14/566 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/67126 ,  Y10T29/49432

Abstract: 전자디바이스제조시스템은, 이송챔버와프로세스챔버사이에인터페이스를제공하는챔버포트조립체를포함할수 있다. 몇몇실시예들에서, 챔버포트조립체는, 퍼지가스의유동을, 챔버포트조립체의기판이송지역내로지향하도록구성될수 있다. 다른실시예들에서, 프로세스챔버및/또는이송챔버는, 퍼지가스의유동을기판이송지역내로지향하도록구성될수 있다. 기판이송지역내로의퍼지가스의유동은, 챔버하드웨어로부터의미립자물질의, 이송챔버와프로세스챔버사이에서이송되고있는기판상으로의이동을방지할수 있고그리고/또는감소시킬수 있다. 다른양태들과같이, 챔버포트조립체를조립하는방법들이또한제공된다.

Abstract translation: 电子器件制造系统可以包括提供传送室与处理室之间的界面的室端口组件。 在一些实施例中，腔室端口组件可以被配置为将清洗气体的流动引导到腔室端口组件的基板传输区域中。 在其他实施例中，处理腔室和/或传送腔室可以被构造成将吹扫气体的流动引导到衬底转移区域中。 吹扫气体流入基板传送区域可以防止和/或减少来自腔室硬件的颗粒物质向在传送腔室和处理腔室之间传送的基板上的迁移。 与其他方面一样，还提供了组装室端口组件的方法。

公开(公告)号：KR101707165B1

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020100023788

申请日：2010-03-17

Applicant: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼

Inventor： 야마자키순페이

IPC: H01L51/56 ,  C23C14/12 ,  C23C14/22 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56 ,  H01L51/00 ,  H01L51/50 ,  B29C65/78 ,  B29C65/00

CPC classification number: H01L51/001 ,  B29C65/7844 ,  B29C65/7879 ,  B29C66/00145 ,  B29C66/452 ,  C23C14/12 ,  C23C14/228 ,  C23C14/246 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  H01L51/5036 ,  H01L51/56

Abstract: 본발명은스루풋좋게 EL 발광을이용한조명장치를제조할수 있는제조장치를제공하는것을과제의하나로한다. 진공실과, 진공실을감압혹은고진공상태로하는배기계와, 진공실로기판을반송하는반송실을갖는조명장치의제조장치를제공한다. 이제조장치에있어서, 진공실은반송실로부터반송된기판위에제1 전극을성막하는성막실과, 제1 전극위에적어도발광층을갖는제1 발광유닛을성막하는성막실과, 제1 발광유닛위에중간층을성막하는성막실과, 중간층위에적어도발광층을갖는제2 발광유닛을성막하는성막실과, 제2 발광유닛위에제2 전극을성막하는성막실과, 제2 전극이형성된기판위에봉지막을성막하는성막실과, 성막실각각에기판을순차반송하기위한기판반송수단을가진다.

Abstract translation: 提供了一种照明装置的制造装置，其包括真空室，将真空室设置为减压状态的排气系统和将基板从该传送室传送到真空室。 制造装置的真空室包括多个沉积室，其中第一电极，至少包括发光层的第一发光单元，中间层，至少包括发光层的第二发光单元， 形成发光层，第二电极，密封膜，以及将基板依次转印到沉积室的基板转印装置。

公开(公告)号：KR1020160148560A

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020167030700

申请日：2015-04-10

Applicant: 각코호진 오키나와가가쿠기쥬츠다이가쿠인 다이가쿠가쿠엔

Inventor： 치,야빙 ,  오노,루이스가쯔야 ,  왕,성하오

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/54 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/52 ,  C23C14/56 ,  C23C16/455 ,  H01L51/00

CPC classification number: C23C14/06 ,  C23C14/24 ,  C23C14/545 ,  C23C14/548 ,  H01L51/001 ,  H01L51/0012 ,  H01L51/42 ,  H01L51/44 ,  Y02E10/549 ,  C23C14/0694 ,  C23C14/243 ,  C23C14/50 ,  C23C14/52 ,  C23C14/541 ,  C23C14/542 ,  C23C14/566 ,  C23C16/45589

Abstract: 태양전지응용을위한페로브스카이트필름을제조하기위한시스템및 방법이제공되며, 상기시스템은, 진공챔버로서사용되는하우징; 하우징의상단구획에결합된기판스테이지; 하우징의하단구획에결합되고, BX(금속할라이드재료) 증기를생성하도록구성된제1 증발기유닛; 하우징에결합되고, AX (유기재료) 증기를생성하도록구성된제2 증발기유닛; 및 AX 증기의순환을제어하기위해하우징에결합된유동제어유닛을포함한다. 제1 증발기유닛의수평단면형상의치수, 기판스테이지의수평단면형상의치수, 및상기두 수평단면형상들간의수평방향에서의상대위치는상기두 수평단면형상들간의중첩을최대화하도록구성된다.

Abstract translation: 提供了一种用于制造用于太阳能电池应用的钙钛矿薄膜的系统和方法，该系统包括用作真空室的壳体，耦合到壳体的顶部的基底台; 第一蒸发器单元，其耦合到壳体的底部部分并且被配置为产生BX2（金属卤化物材料）蒸气; 第二蒸发器单元，其耦合到所述壳体并且被配置为产生AX（有机材料）蒸气; 以及流量控制单元，其耦合到壳体以控制AX蒸汽的循环。 第一蒸发器单元的水平横截面形状的尺寸，基底台的水平截面形状的尺寸以及两个水平横截面形状之间的水平方向上的相对位置被配置为使 两个水平横截面形状之间重叠。

公开(公告)号：KR1020160133564A

公开(公告)日：2016-11-22

申请号：KR1020167030121

申请日：2015-03-26

Applicant: 리전츠 오브 더 유니버시티 오브 미네소타 ,  유티-바텔, 엘엘씨 ,  유니버시티 오브 테네시 리서치 파운데이션

Inventor： 왕지안-핑 ,  지앙얀펭 ,  브리지스크레이그에이. ,  브래디마이클피. ,  리오스올랜도 ,  마이스너로베르타에이. ,  앨러드로렌스에프. ,  라라-쿠르지오에드가 ,  페쉬하이

IPC: H01F1/00 ,  H01F1/047 ,  H01F1/06

CPC classification number: H01F1/047 ,  B22F1/0018 ,  C22C38/001 ,  C22C38/002 ,  C22C2202/02 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/165 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/586 ,  H01F1/0054 ,  H01F1/065 ,  H01F41/0253

Abstract: 본개시는 FeN상을포함하는나노입자들을형성하는기법을기재한다. 일부실시예에서, 먼저철, 질소및 탄소또는보론중 적어도하나를포함하는나노입자들을형성함으로써, 나노입자들이형성될수 있다. 철, 질소및 탄소또는보론중 적어도하나가혼합될수 있도록, 탄소또는보론이나노입자들내에통합될수 있다. 또는탄소또는보론중 적어도하나가철 및질소를포함하는나노입자의표면위에코팅될수 있다. FeN, Fe(NB), Fe(NC)또는 Fe(NCB)중적어도하나를포함하는하나이상의상 도메인을형성하기위해, 철, 질소및 탄소또는보론중 적어도하나를포함하는나노입자들을어닐링할 수있다.

Abstract translation: 本公开描述了形成包含Fe 16 N 2相的纳米颗粒的技术。 在一些实例中，纳米颗粒可以通过首先形成包括铁，氮和至少一种碳或硼的纳米颗粒来形成。 可以将碳或硼引入到纳米颗粒中，使得铁，氮和至少一种碳或硼混合。 或者，碳或硼中的至少一种可以涂覆在包括铁和氮的纳米颗粒的表面上。 包括铁，氮和碳或硼中的至少一种的纳米颗粒然后可以退火以形成至少一个包括Fe 16 N 2，Fe 16（NB）2，Fe 16（NC）2或Fe 16（NCB） 2。

公开(公告)号：KR1020160070038A

公开(公告)日：2016-06-17

申请号：KR1020157036967

申请日：2014-10-10

Applicant: 닛토덴코 가부시키가이샤

Inventor： 나시키도모타케 ,  하마다아키라

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3277 ,  C23C14/34 ,  C23C14/562 ,  C23C14/566 ,  H01J37/3417

Abstract: (과제) 필름에박막을연속적으로형성하는스퍼터장치에있어서, 필름롤을교환할때에, 성막실을대기개방하지않거나, 및진공펌프를정지시키지않는다. (해결수단) 공급측필름롤실 (11) 은, 공급측진공펌프 (17) 와공급측메인밸브 (34) 를구비한다. 수납측필름롤실 (13) 은수납측진공펌프 (28) 와수납측메인밸브 (35) 를구비한다. 공급측필름롤실 (11) 과성막실 (12) 사이에공급측로드록 밸브 (30) 가형성된다. 수납측필름롤실 (13) 과성막실 (12) 사이에수납측로드록 밸브 (31) 가형성된다. 공급측필름롤 (36) 을교환할때에는, 공급측메인밸브 (34) 와공급측로드록 밸브 (30) 를닫는다. 수납측필름롤 (37) 을교환할때에는, 수납측메인밸브 (35) 와수납측로드록 밸브 (31) 를닫는다.

公开(公告)号：KR1020160049477A

公开(公告)日：2016-05-09

申请号：KR1020150148033

申请日：2015-10-23

Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

Inventor： 이토히데키 ,  사토유스케

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/677 ,  H01L21/673

CPC classification number: C23C14/566 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67742

Abstract: 실시형태의기상성장장치는, 대기압미만의압력하에서각각기판을처리하는 n(n 은 1 이상의정수) 개의반응실과, 기판을보지하는카세트를설치가능한카세트보지부를가지고, 대기압미만의압력으로감압가능한카세트실과, 반응실과카세트실의사이에마련되고, 대기압미만의압력하에서기판이반송되는반송실과, 반응실에서처리된기판을 n 매이상동시에보지가능하고, 내열온도가 500 ℃이상이며, 대기압미만의압력으로감압가능한영역에마련되는기판대기부를구비한다.

Abstract translation: 一个实施方案的气相生长装置包括：n个反应室（n是一个或多个的整数），用于在大气压或更低压力下处理每个基板; 具有盒支撑部的盒室，其中可以安装用于支撑基板的盒，并且可以将其减压到大气压或更小; 在反应室和盒室之间制备的转移室，并在大气压或更低压力下转移衬底; 以及基板等待部，其同时至少支撑在反应室中处理的n个基板，并且当内部温度为500℃以上时，能够将其降压至大气压以下。 因此，可以提高生产率。

公开(公告)号：KR1020130027133A

公开(公告)日：2013-03-15

申请号：KR1020110090510

申请日：2011-09-07

Applicant: 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤

Inventor： 이이오이츠시

IPC: C23C14/56 ,  H01L21/677 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67709 ,  B65G39/10 ,  C23C14/566 ,  F16H49/005

Abstract: PURPOSE: A transfer system is provided to maintain heating temperature by preventing a substrate from being excessively cooled because heat transferred from a returning roller to a rotary shaft is controlled by a temperature control member. CONSTITUTION: A transfer system comprises a returning roller(18), a rotary shaft(16), a magnetism seal bearing, and a cooling path. The returning roller is arranged in a vacuum container and returns a substrate(42). The rotary shaft is fixed in order to transfer heat to the returning roller and is extended from the vacuum container to the outside of the vacuum container. The magnetism seal bearing is arranged in a through hole(22b) penetrating a wall generating the vacuum container and seals the through hole while rotatably supporting the rotary shaft. The cooling path is formed in a longitudinal direction in the rotary shaft and circulates a cooling medium from the outside of the vacuum container to the inside of the vacuum container. The transfer system comprises a cooling device cooling the magnetism seal bearing. The transfer system is arranged between the returning roller and the rotary shaft and comprises a temperature control member controlling thermal transmission between the returning roller and the rotary shaft.

Abstract translation: 目的：提供一种转印系统，通过防止基材过冷而保持加热温度，因为从返回辊转移到旋转轴的热量由温度控制部件控制。 构成：传送系统包括返回辊（18），旋转轴（16），磁性密封轴承和冷却路径。 返回辊布置在真空容器中并返回基板（42）。 旋转轴被固定以将热量传递到返回辊并从真空容器延伸到真空容器的外部。 磁性密封轴承布置在穿过产生真空容器的壁的通孔（22b）中，并且在可旋转地支撑旋转轴的同时密封通孔。 冷却路径在旋转轴中沿长度方向形成，并将冷却介质从真空容器的外部循环到真空容器的内部。 传送系统包括冷却磁性密封轴承的冷却装置。 传送系统设置在返回辊和旋转轴之间，并且包括控制返回辊和旋转轴之间的热传递的温度控制部件。

公开(公告)号：KR1020110025233A

公开(公告)日：2011-03-09

申请号：KR1020117002447

申请日：2009-08-04

Applicant: 가부시키가이샤 알박

Inventor： 이이지마에이이치 ,  이케다히로토 ,  하코모리무네토

IPC: C23C14/24 ,  H01L21/677

CPC classification number: C23C14/081 ,  C23C14/021 ,  C23C14/566 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/6723

Abstract: 대형의 진공 배기 장치를 필요로 하지 않는 탈가스실을 갖는 진공 처리 장치를 제공한다. 탈가스실 내에서 처리 대상물을 가열하여 탈가스하고, 버퍼실을 통하여 처리실 내에 반입하여 진공 처리를 행할 때에, 탈가스실에 배기 속도가 작은 진공 배기계를 접속하여, 1 ∼ 100 ㎩ 의 진공 분위기에서 탈가스 처리를 행하고 (시각 0 ∼ t
2 ), 이어서, 처리 대상물을 버퍼실로 이동시켜, 버퍼실 내의 압력을 처리실의 압력과 동일한 정도까지 저하시키고 (시각 t
2 ∼ t
3 ), 버퍼실과 처리실을 접속하여, 처리 대상물을 처리실 내에 반입한다. 압력 변화의 추이를 비교하면, 배기 속도가 큰 진공 배기 장치에 의해 탈가스실을 고진공 분위기로 했었던 종래 기술의 경우 (곡선군 B) 와, 본 발명의 경우 (곡선군 A) 를 비교하면, 처리 시간에 차이가 없다.