用於曝光後烘烤的設備
    2.
    发明专利
    用於曝光後烘烤的設備 审中-公开
    用于曝光后烘烤的设备

    公开(公告)号:TW202004350A

    公开(公告)日:2020-01-16

    申请号:TW108135206

    申请日:2017-06-15

    摘要: 本案所述的實施例關於用於進行浸入場引導的曝光後烘烤製程的方法和設備。於此所述的設備的實施例包括界定處理容積的腔室主體。電極可設置在處理容積附近,並且經由複數個流體導管而將處理流體提供給處理容積以促進浸入場引導的曝光後烘烤製程。亦提供了用於沖洗、顯影和乾燥基板的後處理腔室。

    简体摘要: 本案所述的实施例关于用于进行浸入场引导的曝光后烘烤制程的方法和设备。于此所述的设备的实施例包括界定处理容积的腔室主体。电极可设置在处理容积附近,并且经由复数个流体导管而将处理流体提供给处理容积以促进浸入场引导的曝光后烘烤制程。亦提供了用于冲洗、显影和干燥基板的后处理腔室。