公开(公告)号：US20080116578A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：US11602857

申请日：2006-11-21

申请人： Kuan-Chen Wang ,  Zhen-Cheng Wu ,  Fang Wen Tsai ,  Yih-Hsing Lo ,  I-I Chen ,  Tien-I Bao ,  Shwang-Ming Jeng

发明人： Kuan-Chen Wang ,  Zhen-Cheng Wu ,  Fang Wen Tsai ,  Yih-Hsing Lo ,  I-I Chen ,  Tien-I Bao ,  Shwang-Ming Jeng

IPC分类号： H01L23/50 ,  H01L21/44

CPC分类号： H01L21/76834 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76832 ,  H01L23/53223 ,  H01L23/53238 ,  H01L23/53252 ,  H01L23/53266 ,  H01L23/5329 ,  H01L23/53295 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： An integrated circuit includes an etch stop layer over a substrate; a UV blocker layer on the etch stop layer, wherein the UV blocker layer has a high extinction coefficient; and a low-k dielectric layer on the UV blocker layer.

摘要翻译： 集成电路包括在衬底上的蚀刻停止层; 在所述蚀刻停止层上的UV阻挡层，其中所述UV阻挡层具有高消光系数; 和UV阻挡层上的低k电介质层。

公开(公告)号：US07132491B2

公开(公告)日：2006-11-07

申请号：US10842141

申请日：2004-05-10

申请人： Yih-Hsing Lo ,  Kuo-Chen Shih ,  Yi-Chun Chen ,  Mei-Hua Wang ,  Fong Yee Hsu ,  Ming-Siao Hsiao

发明人： Yih-Hsing Lo ,  Kuo-Chen Shih ,  Yi-Chun Chen ,  Mei-Hua Wang ,  Fong Yee Hsu ,  Ming-Siao Hsiao

IPC分类号： C08F20/54 ,  C08F2/38

CPC分类号： C08F2/38 ,  C08F4/00

摘要： Organometallic reversible addition-fragmentation chain transfer reagents (RAFT reagents), processes of free radical polymerization employing the same and polymers with low polydispersity index obtained thereby. The process includes polymerizing at least one monomer with at least one initiator and at least one organometallic RAFT reagent to obtain polymers having terminal organometallic functional groups with low polydispersity index. In addition, the terminal organometallic functional group may be removed by subjecting the obtained polymer to elimination to provide the corresponding organic polymers.

摘要翻译： 有机金属可逆加成 - 断裂链转移试剂（RAFT试剂），使用该方法的自由基聚合方法和由此获得的具有低多分散指数的聚合物。 该方法包括使至少一种单体与至少一种引发剂和至少一种有机金属RAFT试剂聚合，得到具有低多分散指数的末端有机金属官能团的聚合物。 此外，可以通过使所得聚合物进行消除以提供相应的有机聚合物来除去末端有机金属官能团。

公开(公告)号：US20050096440A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10842141

申请日：2004-05-10

申请人： Yih-Hsing Lo ,  Kuo-Chen Shih ,  Yi-Chun Chen ,  Mei-Hua Wang ,  Fong-Yee Hsu ,  Ming-Siao Hsiao

发明人： Yih-Hsing Lo ,  Kuo-Chen Shih ,  Yi-Chun Chen ,  Mei-Hua Wang ,  Fong-Yee Hsu ,  Ming-Siao Hsiao

IPC分类号： C08F2/38 ,  C08F4/00 ,  C08F4/06

CPC分类号： C08F2/38 ,  C08F4/00

摘要： Organometallic reversible addition-fragmentation chain transfer reagents (RAFT reagents), processes of free radical polymerization employing the same and polymers with low polydispersity index obtained thereby. The process includes polymerizing at least one monomer with at least one initiator and at least one organometallic RAFT reagent to obtain polymers having terminal organometallic functional groups with low polydispersity index. In addition, the terminal organometallic functional group may be removed by subjecting the obtained polymer to elimination to provide the corresponding organic polymers.

摘要翻译： 有机金属可逆加成 - 断裂链转移试剂（RAFT试剂），使用该方法的自由基聚合方法和由此获得的具有低多分散指数的聚合物。 该方法包括使至少一种单体与至少一种引发剂和至少一种有机金属RAFT试剂聚合，得到具有低多分散指数的末端有机金属官能团的聚合物。 此外，可以通过使所得聚合物进行消除以提供相应的有机聚合物来除去末端有机金属官能团。

公开(公告)号：US20050027073A1

公开(公告)日：2005-02-03

申请号：US10670500

申请日：2003-09-26

申请人： Yih-Hsing Lo ,  Ming-Siao Hsiao ,  Yi-Chun Chen ,  Fong-Yee Hsu

发明人： Yih-Hsing Lo ,  Ming-Siao Hsiao ,  Yi-Chun Chen ,  Fong-Yee Hsu

IPC分类号： C08F297/04 ,  C08L53/02 ,  G02B6/122 ,  G02B6/138 ,  C08L9/00

CPC分类号： C08L25/06 ,  B82Y20/00 ,  C08F297/04 ,  C08K3/11 ,  C08L9/00 ,  C08L53/02 ,  C08L2205/03 ,  G02B6/1225 ,  G02B6/138 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

摘要： This invention relates to an organometallic polymeric photonic bandgap (OMPBG) material that can be defined by blending block copolymer (BCP) and at least two homopolymers, thereby obtaining an organometallic polymeric photonic bandgap hybrid material with periodic structure by self-assembly, wherein said homopolymers include at least one organometallic homopolymer. The improved material has high reflectivity.

摘要翻译： 本发明涉及可通过共混嵌段共聚物（BCP）和至少两种均聚物来限定的有机金属聚合物光子带隙（OMPBG）材料，从而通过自组装获得具有周期结构的有机金属聚合物光子带隙杂化材料，其中所述均聚物 包括至少一种有机金属均聚物。 改进的材料具有高反射率。