公开(公告)号：US20120251964A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13284815

申请日：2011-10-28

申请人： MAKOTO INAGAWA ,  Shinichi Kurita

发明人： MAKOTO INAGAWA ,  Shinichi Kurita

IPC分类号： F27D3/12 ,  F27D3/00

CPC分类号： F27B17/0025 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67309 ,  H01L21/6734

摘要： The present invention generally relates to methods and apparatus for handling of substrates in a thermal treatment chamber. In one embodiment, an apparatus is provided. The apparatus includes a chamber body having sidewalls, a substrate support assembly disposed in the chamber body, the substrate support assembly movable in a first direction within the chamber body, and two or more support fingers coupled to the sidewalls, the two or more support fingers being movable in a second direction within the chamber body, the second direction being transverse to the first direction.

摘要翻译： 本发明一般涉及用于处理热处理室中的衬底的方法和设备。 在一个实施例中，提供了一种装置。 该装置包括具有侧壁的室主体，设置在室主体中的基板支撑组件，可在室主体内沿第一方向移动的基板支撑组件以及联接到侧壁的两个或多个支撑指，两个或多个支撑指 可在腔体内沿第二方向移动，第二方向横向于第一方向。

公开(公告)号：US07847566B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US11940432

申请日：2007-11-15

申请人： Matthias Brunner ,  Shinichi Kurita ,  Ralf Schmid ,  Fayez (Frank) E. Abboud ,  Benjamin Johnston ,  Paul Bocian ,  Emanuel Beer

发明人： Matthias Brunner ,  Shinichi Kurita ,  Ralf Schmid ,  Fayez (Frank) E. Abboud ,  Benjamin Johnston ,  Paul Bocian ,  Emanuel Beer

IPC分类号： G01R31/26

CPC分类号： G09G3/006 ,  G01R31/2893 ,  G01R31/305

摘要： A method of testing electronic devices on substrates is described. The method includes placing a configurable prober over a first substrate, testing the first substrate, re-configuring the configurable prober, placing the configurable prober over a second substrate, and testing the second substrate.

摘要翻译： 描述了一种在基板上测试电子器件的方法。 该方法包括将可配置的探测器放置在第一衬底上，测试第一衬底，重新配置可配置的探测器，将可配置的探测器放置在第二衬底上，以及测试第二衬底。

公开(公告)号：US07784164B2

公开(公告)日：2010-08-31

申请号：US11214475

申请日：2005-08-29

申请人： John M. White ,  Donald Verplancken ,  Shinichi Kurita

发明人： John M. White ,  Donald Verplancken ,  Shinichi Kurita

IPC分类号： B23P11/00

CPC分类号： H01L21/67236 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/139 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/53

摘要： A non-polygon shaped, multi-piece chamber is provided. A non-polygon shaped, multi-piece chamber may include (1) a central piece having a first side and a second side, (2) a first side piece adapted to couple with the first side of the central piece, and (3) a second side piece adapted to couple with the second side of the central piece. The central piece, the first side piece, and the second side piece form a cylindrical overall shape when coupled together. Numerous other aspects are provided.

摘要翻译： 提供非多边形形状的多片式室。 非多边形多片式室可以包括（1）具有第一侧和第二侧的中心件，（2）适于与中心件的第一侧连接的第一侧件，以及（3） 适于与中心件的第二侧联接的第二侧件。 当连接在一起时，中心件，第一侧件和第二侧件形成圆柱形的整体形状。 提供了许多其他方面。

公开(公告)号：US20100051111A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12538237

申请日：2009-08-10

申请人： Takayuki Matsumoto ,  Shinichi Kurita

发明人： Takayuki Matsumoto ,  Shinichi Kurita

IPC分类号： F15D1/00 ,  F16K3/00

CPC分类号： F16K3/188 ,  F16K51/02 ,  H01L21/67772 ,  Y10T137/0391

摘要： Embodiments disclosed herein generally relate to methods for sealing a processing chamber with a slit valve door. The door initially raises from a position below the opening for the processing chamber to a raised position. The door then expands until an O-ring that is on the door just touches the sealing surface. Then, the door expands again to compress the O-ring against the sealing surface. The door expands by flowing a gas into the interior volume of the door. By controlling the pressure buildup within the door, the speed with which the door expands is controlled to ensure that the door gently contacts the sealing surface and then compresses against the sealing surface. Thus, the door may be prevented from contacting the sealing surface with too great a force that may jolt or shake the processing chamber and produce undesired particles that may contaminate the process.

摘要翻译： 本文公开的实施例通常涉及用狭缝阀门密封处理室的方法。 门最初从处理室的开口下方的位置升高到升高位置。 门然后膨胀，直到门上的O形圈刚好碰到密封面。 然后，门再次膨胀以将O形环压靠在密封表面上。 通过将气体流入门的内部空间来扩大门。 通过控制门内的压力积分，控制门膨胀的速度，以确保门轻轻地接触密封表面，然后压靠密封表面。 因此，可以防止门用太大的力使密封表面接触，该力可能使处理室震动或摇晃并产生可能污染该过程的不期望的颗粒。

公开(公告)号：US20090321399A1

公开(公告)日：2009-12-31

申请号：US12422208

申请日：2009-04-10

申请人： Makoto Inagawa ,  Shinichi Kurita ,  Bassam Shamoun ,  Sriram Krishnaswami ,  Michael D. Shirk ,  Kevin L. Cunningham

发明人： Makoto Inagawa ,  Shinichi Kurita ,  Bassam Shamoun ,  Sriram Krishnaswami ,  Michael D. Shirk ,  Kevin L. Cunningham

IPC分类号： B23K26/38

CPC分类号： B23K26/364 ,  B23K26/042 ,  B23K26/0673 ,  B23K26/082 ,  B23K26/083 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/172

摘要： Methods and systems for improving the alignment between a previously formed feature and a subsequently formed feature are provided. An exemplary method can include laser scribing a workpiece (104, 550) having a previously formed first feature. The exemplary method includes imaging the workpiece (104, 550) with an imaging device (320, 420, 554, 640) so as to capture a plurality of positions of the first feature on the workpiece (104, 550) relative to the laser-scribing device (100). The exemplary method further includes using the captured positions to align output from the laser-scribing device (100) in order to form a second feature on the workpiece (104, 550) at a controlled distance from the first feature.

摘要翻译： 提供了用于改善先前形成的特征与随后形成的特征之间的对准的方法和系统。 示例性的方法可以包括激光划刻具有先前形成的第一特征的工件（104,550）。 该示例性方法包括用成像装置（320,420,554,640）对工件（104,550）进行成像，以便相对于激光打印机捕获工件（104,550）上的第一特征的多个位置， 划线装置（100）。 该示例性方法还包括使用所捕获的位置来对齐来自激光划线装置（100）的输出，以便在距离第一特征的受控距离处在工件（104,550）上形成第二特征。

公开(公告)号：US07625063B2

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：US11019967

申请日：2004-12-22

申请人： John M. White ,  Fan Cheung Sze ,  Quanyuan Shang ,  Shinichi Kurita ,  Hongbin Ji ,  Janusz Jozwiak ,  Inchen Huang ,  Emanual Beer

发明人： John M. White ,  Fan Cheung Sze ,  Quanyuan Shang ,  Shinichi Kurita ,  Hongbin Ji ,  Janusz Jozwiak ,  Inchen Huang ,  Emanual Beer

IPC分类号： B41J23/00

CPC分类号： B41J3/407 ,  B41J2/04505 ,  B41J2/04541 ,  B41J2/04581 ,  B41J2/04588 ,  B41J2/0459 ,  B41J2/04593 ,  B41J2/125 ,  B41J3/28 ,  B41J3/543 ,  B41J25/001 ,  B41J25/003 ,  B41J25/005 ,  B41J29/15 ,  B41J29/393

摘要： In a first aspect, a first apparatus is provided for inkjet printing. The first apparatus includes an inkjet head support that includes a plurality of inkjet heads. A first inkjet head of the plurality of inkjet heads is adapted to be independently moveable in both directions along a lateral axis relative to a second inkjet head of the plurality of inkjet heads. The first apparatus also includes a system controller adapted to control an independent lateral movement of the first inkjet head relative to the second inkjet head. Numerous other aspects are provided.

摘要翻译： 在第一方面，提供了用于喷墨打印的第一装置。 第一装置包括包括多个喷墨头的喷墨头支撑件。 多个喷墨头中的第一喷墨头适于独立地沿相对于多个喷墨头的第二喷墨头的横向轴向两个方向移动。 第一装置还包括适于控制第一喷墨头相对于第二喷墨头的独立横向移动的系统控制器。 提供了许多其他方面。

公开(公告)号：US20090255911A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：US12422189

申请日：2009-04-10

申请人： Sriram Krishnaswami ,  Shinichi Kurita ,  Bassam Shamoun ,  Benjamin M. Johnston ,  John M. White ,  Jiafa Fan ,  Inchen Huang ,  Antoine P. Manens ,  Wei-Sheng Lei ,  Wei-Yung Hsu

发明人： Sriram Krishnaswami ,  Shinichi Kurita ,  Bassam Shamoun ,  Benjamin M. Johnston ,  John M. White ,  Jiafa Fan ,  Inchen Huang ,  Antoine P. Manens ,  Wei-Sheng Lei ,  Wei-Yung Hsu

IPC分类号： B23K26/38 ,  B23K26/02 ,  B23K26/067 ,  B23K26/08

CPC分类号： B23K26/067 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/082 ,  B23K26/083 ,  B23K26/16 ,  B23K26/361 ,  B23K26/364 ,  B23K26/40 ,  B23K2101/34 ,  B23K2101/36 ,  B23K2103/16 ,  B23K2103/172

摘要： Laser scribing can be performed on a workpiece (104) such as substrates with layers formed thereon for use in a solar panel without need to rotate the workpiece (104) during the scribing process. A series of lasers (602, 622) can be used to concurrently remove material from multiple positions on the workpiece (104). Each laser (602, 622) can have at least one scanning device (614, 630, 632) positioned along a beam path thereof in order to adjust a position of the laser output relative to the workpiece (104). By adjusting the beam or pulse positions using the scanning devices (614, 630, 632) while translating the workpiece (104), substantially any pattern can be scribed into at least one layer of the workpiece (104) without the need for any rotation of the workpiece (104).

摘要翻译： 可以对工件（104）进行激光划线，例如在其上形成有层的基板，用于太阳能电池板，而不需要在划线过程中旋转工件（104）。 可以使用一系列激光器（602,622）来同时从工件（104）上的多个位置去除材料。 每个激光器（602,622）可以具有沿其光束路径定位的至少一个扫描装置（614,630,632），以便调节激光输出相对于工件（104）的位置。 通过在平移工件（104）的同时通过使用扫描装置（614,630,632）调节光束或脉冲位置，基本上任何图案都可以划分成工件（104）的至少一层，而不需要任何旋转 工件（104）。

公开(公告)号：US20090122099A1

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：US12354759

申请日：2009-01-15

申请人： John M. White ,  Emanuel Beer ,  Hongbin Ji ,  Chang-Tsung Lin ,  Shinichi Kurita

发明人： John M. White ,  Emanuel Beer ,  Hongbin Ji ,  Chang-Tsung Lin ,  Shinichi Kurita

IPC分类号： B41J29/393

CPC分类号： B41J29/393

摘要： Methods and apparatus for inkjet drop positioning are provided. A first method includes determining an intended deposition location of an ink drop on a substrate, depositing the ink drop on the substrate using an inkjet printing system, detecting a deposited location of the deposited ink drop on the substrate, comparing the deposited location to the intended location, determining a difference between the deposited location and the intended location, and compensating for the difference between the deposited location and the intended location by adjusting a parameter of an inkjet printing system. Numerous other aspects are provided.

摘要翻译： 提供了用于喷墨滴定位的方法和装置。 第一种方法包括确定墨滴在基底上的预期沉积位置，使用喷墨印刷系统将墨滴沉积在基底上，检测沉积的墨滴在基底上的沉积位置，将沉积位置与预期的位置进行比较 确定存放位置与预期位置之间的差异，以及通过调整喷墨打印系统的参数来补偿存放位置与预期位置之间的差异。 提供了许多其他方面。

公开(公告)号：US20090090883A1

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：US12333043

申请日：2008-12-11

申请人： Ke Ling Lee ,  Shinichi Kurita ,  Emanuel Beer

发明人： Ke Ling Lee ,  Shinichi Kurita ,  Emanuel Beer

IPC分类号： F16K25/00

CPC分类号： F16K3/0227 ,  F16K51/02 ,  H01J37/32844 ,  H01J2237/166 ,  H01L21/67126 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605 ,  Y10S277/919 ,  Y10S277/92 ,  Y10T137/8242

摘要： Embodiments described herein provide a method and apparatus for grounding a chamber isolation valve. In one embodiment, a grounded chamber isolation valve for a plasma processing system is described. The chamber isolation valve includes a door and a bracing member movably attached to and opposing the door, and at least one electrically conductive member in electrical communication with the door, the at least one electrically conductive member comprising one or more reaction bumpers disposed on the bracing member that are adapted to contact at least one grounded component of the plasma processing system when the door is in the closed position.

摘要翻译： 本文描述的实施例提供了用于使腔室隔离阀接地的方法和装置。 在一个实施例中，描述了用于等离子体处理系统的接地室隔离阀。 室隔离阀包括门和可移动地附接到门并与其相对的支撑构件，以及至少一个与门电连通的导电构件，所述至少一个导电构件包括设置在支撑上的一个或多个反应缓冲器 当门处于关闭位置时，适于接触等离子体处理系统的至少一个接地部件的构件。

公开(公告)号：US20090058941A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US12202190

申请日：2008-08-29

申请人： Shinichi Kurita ,  Benjamin Johnston

发明人： Shinichi Kurita ,  Benjamin Johnston

IPC分类号： B41J2/14

CPC分类号： B41J2/14201 ,  B41J2202/09 ,  B41J2202/14

摘要： Methods, systems and apparatus are provided for use with an inkjet printing system. In some embodiments, an apparatus is provided, comprising an adapter including one or more supply lines, wherein the one or more supply lines are adapted to transmit at least one of ink and solvent to a print head. Numerous other aspects are provided.

摘要翻译： 提供了与喷墨打印系统一起使用的方法，系统和装置。 在一些实施例中，提供了一种装置，其包括适配器，其包括一个或多个供应管线，其中所述一个或多个供应管线适于将油墨和溶剂中的至少一个传送到打印头。 提供了许多其他方面。