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    Gaseous dielectrics with low global warming potentials
    11.
    发明授权
    Gaseous dielectrics with low global warming potentials 有权
    具有低全球变暖潜能的气体电介质

    公开(公告)号：US08080185B2

    公开(公告)日：2011-12-20

    申请号：US12871169

    申请日：2010-08-30

    申请人： Matthew H. Luly ,  Robert G. Richard

    发明人： Matthew H. Luly ,  Robert G. Richard

    IPC分类号： H01B3/20

    CPC分类号： H01B3/56

    摘要： A dielectric gaseous compound which exhibits the following properties: a boiling point in the range between about −20° C. to about −273° C.; non-ozone depleting; a GWP less than about 22,200; chemical stability, as measured by a negative standard enthalpy of formation (dHf

    摘要翻译： 介电气体化合物，其具有以下特性：沸点在约-20℃至约-273℃的范围内; 非臭氧消耗; 全球变暖潜水值低于22,200; 化学稳定性，由负的标准形成焓（dHf <0）测量; 毒性水平使得当电介质气体泄漏时，有效稀释浓度不超过其PEL; 并且介电强度大于空气。

    HYDROGEN FLUORIDE COMPOSITIONS
    12.
    发明申请
    HYDROGEN FLUORIDE COMPOSITIONS 有权
    氢氟化合物

    公开(公告)号：US20110152432A1

    公开(公告)日：2011-06-23

    申请号：US13035429

    申请日：2011-02-25

    申请人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

    发明人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

    IPC分类号： C08K3/16 ,  C01B7/19

    CPC分类号： C08K3/16

    摘要： The present technology provides compositions that are intimate mixtures of hydrogen fluoride and a polyacrylate-polyacrylamide cross-linked copolymer, as well as methods and preparing and using such compositions. The compositions are less hazardous and, therefore, more conveniently stored, transported, and handled in comparison to pure hydrogen fluoride. Further, the hydrogen fluoride may be readily recovered from the compositions of the invention for use.

    摘要翻译： 本技术提供了氟化氢和聚丙烯酸酯 - 聚丙烯酰胺交联共聚物的紧密混合物的组合物，以及方法和制备和使用这些组合物。 与纯氟化氢相比，组合物的危险性较小，因此比较方便地储存，运输和处理。 此外，可以容易地从本发明的组合物中回收氟化氢以供使用。

    Hydrogen fluoride compositions
    13.
    发明授权
    Hydrogen fluoride compositions 有权
    氟化氢组合物

    公开(公告)号：US07914761B2

    公开(公告)日：2011-03-29

    申请号：US12132741

    申请日：2008-06-04

    申请人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

    发明人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

    IPC分类号： C01B7/19 ,  C08K3/00 ,  B29C73/16 ,  C01B7/07

    CPC分类号： C08K3/16

    摘要： The present invention provides compositions that are intimate mixtures of hydrogen fluoride and a polyacrylate-polyacrylamide cross-linked copolymer. The compositions of the invention are less hazardous and, therefore, more conveniently stored, transported, and handled in comparison to pure hydrogen fluoride. Further, the hydrogen fluoride may be readily recovered from the compositions of the invention for use.

    摘要翻译： 本发明提供了氟化氢和聚丙烯酸酯 - 聚丙烯酰胺交联共聚物的紧密混合物的组合物。 与纯氟化氢相比，本发明的组合物危险性较低，因此比较方便地储存，运输和处理。 此外，可以容易地从本发明的组合物中回收氟化氢以供使用。

    COMPOSITIONS CONTAINING SULFUR HEXAFLUORIDE AND USES THEREOF
    14.
    发明申请
    COMPOSITIONS CONTAINING SULFUR HEXAFLUORIDE AND USES THEREOF 有权
    含有硫化氢的组合物及其用途

    公开(公告)号：US20100171062A1

    公开(公告)日：2010-07-08

    申请号：US12728371

    申请日：2010-03-22

    申请人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

    发明人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

    IPC分类号： H02H99/00 ,  H01B3/16 ,  H05K5/06 ,  A62D1/00

    CPC分类号： H01B3/16 ,  A62C99/0018 ,  H01H2033/566

    摘要： A method for suppressing an electric arc or corona discharge includes providing a device capable of storing, transmitting, or generating an electrical current or field; and enveloping at least a portion of said device with a dielectric gas consisting essentially of: sulfur hexafluoride; a second component selected from the group consisting of nitrous oxide; carbon dioxide; trifluoromethane (R32); trifluoroiodomethane; octafluoropropane (R218); 1,1,1,2,2-pentafluoroethane (R125); propane (R290); 1,1,1,2-tetrafluoropropene (HFO-1234yf); 1,2,3,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yc); 1,1,3,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234zc); 1,1,1,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234ze); 1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234ye); 1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225ye); 1,1,2,3,3-pentafluoropropene (HFO-1225yc); 1,1,1,3,3-pentafluoropropene (HFO-1225zc); (Z)1,1,1,3-tetrafluoropropene (HFO-1234zeZ); (Z)1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yeZ); (E)1,1,1,3-tetrafluoropropene (HFO-1234zeE); (E)1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yeE); (Z)1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225yeZ); (E)1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225yeE) and combinations of two or more of these; and optionally, an additive selected from the group consisting of stabilizers, metal passivators, corrosion inhibitors, and lubricants.

    摘要翻译： 抑制电弧或电晕放电的方法包括提供能够存储，传输或产生电流或场的装置; 以及用基本上由六氟化硫组成的介电气体包封所述装置的至少一部分; 选自由一氧化二氮组成的组的第二组分; 二氧化碳; 三氟甲烷（R32）; 三氟碘甲烷 八氟丙烷（R218）; 1,1,1,2,2-五氟乙烷（R125）; 丙烷（R290）; 1,1,1,2-四氟丙烯（HFO-1234yf）; 1,2,3,5-四氟-2-丙烯（HFO-1234yc）; 1,1,3,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234zc）; 1,1,1,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234ze）; 1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234ye）; 1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225ye）; 1,1,2,3,3-五氟丙烯（HFO-1225yc）; 1,1,1,3,3-五氟丙烯（HFO-1225zc）; （Z）1,1,1,3-四氟丙烯（HFO-1234zeZ）; （Z）1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234yeZ）; （E）1,1,1,3-四氟丙烯（HFO-1234zeE）; （E）1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234yeE）; （Z）1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225yeZ）; （E）1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225yeE）及其两种或多种的组合; 和任选的选自稳定剂，金属钝化剂，腐蚀抑制剂和润滑剂的添加剂。

    COMPOSITIONS CONTAINING SULFUR HEXAFLUORIDE AND USES THEREOF
    18.
    发明申请
    COMPOSITIONS CONTAINING SULFUR HEXAFLUORIDE AND USES THEREOF 审中-公开
    含有硫化氢的组合物及其用途

    公开(公告)号：US20110232939A1

    公开(公告)日：2011-09-29

    申请号：US13156825

    申请日：2011-06-09

    申请人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

    发明人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

    IPC分类号： H05K5/00

    CPC分类号： H01B3/16 ,  A62C99/0018 ,  H01H2033/566

    摘要： A method for suppressing an electric arc or corona discharge includes providing a device capable of storing, transmitting, or generating an electrical current or field; and enveloping at least a portion of said device with a dielectric gas consisting essentially of: sulfur hexafluoride; a second component selected from the group consisting of nitrous oxide; carbon dioxide; trifluoromethane (R32); trifluoroiodomethane; octafluoropropane (R218); 1,1,1,2,2-pentafluoroethane (R125); propane (R290); 1,1,1,2-tetrafluoropropene (HFO-1234yf); 1,2,3,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yc); 1,1,3,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234zc); 1,1,1,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234ze); 1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234ye); 1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225ye); 1,1,2,3,3-pentafluoropropene (HFO-1225yc); 1,1,1,3,3-pentafluoropropene (HFO-1225zc); (Z)1,1,1,3-tetrafluoropropene (HFO-1234zeZ); (Z)1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yeZ); (E)1,1,1,3-tetrafluoropropene (HFO-1234zeE); (E)1,1,2,3-tetrafluoro-2-propene (HFO-1234yeE); (Z)1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225yeZ); (E)1,1,1,2,3-pentafluoropropene (HFO-1225yeE) and combinations of two or more of these; and optionally, an additive selected from the group consisting of stabilizers, metal passivators, corrosion inhibitors, and lubricants.

    摘要翻译： 抑制电弧或电晕放电的方法包括提供能够存储，传输或产生电流或场的装置; 以及用基本上由六氟化硫组成的介电气体包封所述装置的至少一部分; 选自由一氧化二氮组成的组的第二组分; 二氧化碳; 三氟甲烷（R32）; 三氟碘甲烷 八氟丙烷（R218）; 1,1,1,2,2-五氟乙烷（R125）; 丙烷（R290）; 1,1,1,2-四氟丙烯（HFO-1234yf）; 1,2,3,5-四氟-2-丙烯（HFO-1234yc）; 1,1,3,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234zc）; 1,1,1,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234ze）; 1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234ye）; 1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225ye）; 1,1,2,3,3-五氟丙烯（HFO-1225yc）; 1,1,1,3,3-五氟丙烯（HFO-1225zc）; （Z）1,1,1,3-四氟丙烯（HFO-1234zeZ）; （Z）1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234yeZ）; （E）1,1,1,3-四氟丙烯（HFO-1234zeE）; （E）1,1,2,3-四氟-2-丙烯（HFO-1234yeE）; （Z）1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225yeZ）; （E）1,1,1,2,3-五氟丙烯（HFO-1225yeE）及其两种或多种的组合; 和任选的选自稳定剂，金属钝化剂，腐蚀抑制剂和润滑剂的添加剂。

    Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds
    20.
    发明授权
    Method of etching and cleaning using fluorinated carbonyl compounds 失效
    使用氟化羰基化合物进行蚀刻和清洗的方法

    公开(公告)号：US06635185B2

    公开(公告)日：2003-10-21

    申请号：US09001325

    申请日：1997-12-31

    申请人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

    发明人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

    IPC分类号： H01L213065

    CPC分类号： H01L21/32136 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32137 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

    摘要： A method comprising etching a material under plasma etching conditions using an etching composition which has a GWP of no greater than about 3000 and which comprises at least one etchant compound having a formula selected from the group consisting of F—CO—[(CR1R2)m—CO]n—F and F—CO—R3—CO—F, and wherein: m=0, 1, 2, 3, 4, or 5; n=1; R1 & R2 represent H, F or CxHyFz; wherein: x=1 or 2; and y+z=2x+1; R3 represents CR4═CR5, R6R7C═C or C≡C; wherein: R4-7 represent H, F, or CxHyFz; wherein: x=1 or 2; and y+z=2x+1; and also including the cleaning of a surface by use of an etchant compound, and further including an etching composition which includes said etchant compound and also an etchant-modifier.

    摘要翻译： 一种方法，包括使用GWP不大于约3000的蚀刻组合物在等离子体蚀刻条件下蚀刻材料，并且其包含至少一种具有选自F-CO - [（CR 1） > R 2）m-CO] n F和F-CO-R 3 -CO-F，并且其中：m = 0,1,2,3,4或5; n = 1; R 1 >＆R <2>表示H，F或CxHyFz; 其中：x = 1或2; andy + z = 2x + 1; R 3表示CR 4 = CR 5，R 6 R 7 C = C或C = C; 其中：R 4-7表示H，F或CxHyFz; 其中：x = 1或2; andy + z = 2x + 1;并且还包括通过使用蚀刻剂化合物清洁表面，并且还包括包括所述蚀刻剂化合物和蚀刻剂改性剂的蚀刻组合物。