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    Heat treatable coated article with zirconium silicon oxynitride layer(s) and methods of making same
    12.
    发明申请
    Heat treatable coated article with zirconium silicon oxynitride layer(s) and methods of making same 有权
    具有锆氮氧化硅层的可热处理涂层制品及其制造方法

    公开(公告)号：US20060159933A1

    公开(公告)日：2006-07-20

    申请号：US11037453

    申请日：2005-01-19

    申请人： Bernd Disteldorf ,  Anton Dietrich ,  Ratchaneekorn Chonlamaitri

    发明人： Bernd Disteldorf ,  Anton Dietrich ,  Ratchaneekorn Chonlamaitri

    IPC分类号： B32B17/06 ,  C23C14/00 ,  B32B15/04 ,  B32B9/00 ,  B32B19/00

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/74 ,  C03C2217/78

    摘要： A coated article is provided so as to include a solar control coating having an infrared (IR) reflecting layer sandwiched between at least a pair of dielectric layers. The IR reflecting layer may be of or include NbZrOx, NbZr, NiCr, NiCrNx, or the like in certain embodiments of this invention. In particular, a zirconium silicon oxynitride (e.g., ZrSiOxNy) inclusive layer is provided which unexpectedly improves blocking (reflecting and/or absorption) of UV radiation in a manner which does not significantly degrade other optical properties of a coated article. Moreover, the ZrSiOxNy also has been found to improve (lower) the ΔE* value upon heat treatment, thereby permitting a coated article when heat treated (HT) to more closely match its non-HT counterpart with respect to glass side reflective color after such HT.

    摘要翻译： 提供一种涂覆制品，以便包括具有夹在至少一对电介质层之间的红外线（IR）反射层的太阳能控制涂层。 在本发明的某些实施方案中，IR反射层可以是或包括NbZrO x X，NbZr，NiCr，NiCrN x x等。 特别地，提供了一种包括锆的氮氧化锆（例如，ZrSiO x N N y）（包括层），其意外地改善了UV辐射的阻挡（反射和/或吸收） 这不会显着降低涂层制品的其它光学性能。 此外，也已经发现，ZrSiO x N N y Y在热处理时可以改善（降低）DeltaE *值，从而允许涂覆制品经热处理（HT）至 在这样的HT之后，其非HT对应物与玻璃侧反射颜色更紧密地匹配。

    Coated article with silicon oxynitride adjacent glass
    17.
    发明授权
    Coated article with silicon oxynitride adjacent glass 有权
    涂有氮氧化硅相邻玻璃的涂层制品

    公开(公告)号：US07267879B2

    公开(公告)日：2007-09-11

    申请号：US10636918

    申请日：2003-08-08

    申请人： Scott V. Thomsen ,  Anton Dietrich ,  Jose Nunez Regueiro

    发明人： Scott V. Thomsen ,  Anton Dietrich ,  Jose Nunez Regueiro

    IPC分类号： B32B17/06

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C03C17/3694 ,  C03C2217/78 ,  C23C14/0015 ,  C23C14/0084 ,  C23C14/0652

    摘要： A low-E coated article is provided, in certain example embodiments, with a layer including silicon oxynitride adjacent the glass substrate in order to improve chemical and/or mechanical durability of the coated article. In certain example embodiments, the coated article may be formed so as to have a fairly high visible transmission (TY or Tvis) to sheet resistance (Rs) ratio (i.e., a ratio Tvis/Rs). The higher this ratio, the better the coated article's combined functionality of providing for both good solar performance (e.g., ability to reflect and/or absorb IR radiation) and high visible transmission. Coated articles herein may be used in the context of insulating glass (IG) window units, architectural or residential monolithic window units, vehicle window units, and/or the like.

    摘要翻译： 在某些示例性实施方案中，提供低E涂层制品，其中包含邻近玻璃基底的氮氧化硅层，以改善涂覆制品的化学和/或机械耐久性。 在某些示例性实施例中，涂覆制品可以形成为具有相当高的可见透射率（TY或T vis）与薄层电阻（R SUB）之比（即 ，比例比例）。 该比例越高，涂层制品提供良好的太阳能性能（例如，反射和/或吸收IR辐射的能力）和高可见透射率的组合功能越好。 本文中的涂层制品可用于中空玻璃（IG）窗单元，建筑或住宅单片窗单元，车窗单元等的上下文中。

    Sputtering apparatus with rotating target and target cooling
    20.
    发明授权
    Sputtering apparatus with rotating target and target cooling 失效
    具有旋转目标和目标冷却的溅射装置

    公开(公告)号：US5262032A

    公开(公告)日：1993-11-16

    申请号：US918142

    申请日：1992-07-23

    申请人： Klaus Hartig ,  Anton Dietrich ,  Joachim Szczyrbowski

    发明人： Klaus Hartig ,  Anton Dietrich ,  Joachim Szczyrbowski

    IPC分类号： C23C14/34 ,  H01J37/34

    CPC分类号： H01J37/3497 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3405

    摘要： A sputtering apparatus is presented, especially one with a magnetron cathode and rotating target (1), and target cooling performed by a liquid coolant, preferably water, in which provision is made for the cooling to be concentrated on the area or areas of the rotating target (1) which are exposed to the heat produced by the plasma (12), and the magnets (28, 29, 30, 31) of the magnet assembly (23) form at least one cooling passage (34, 35).

    摘要翻译： 提出了一种溅射装置，特别是具有磁控管阴极和旋转靶（1）的溅射装置，并且由液体冷却剂（优选水）进行目标冷却，其中提供用于使冷却集中在旋转的区域或区域上 暴露于由等离子体（12）产生的热的靶（1）和磁体组件（23）的磁体（28,29,30,31）形成至少一个冷却通道（34,35）。