公开(公告)号：US06605717B2

公开(公告)日：2003-08-12

申请号：US10118260

申请日：2002-04-09

申请人： Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

发明人： Hisao Ikeda ,  Motohiko Hidaka ,  Atsumi Aoki

IPC分类号： C07D25110

CPC分类号： C07D405/14

摘要： Optically active &bgr;-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate is obtained by a method of reacting isocyanuric acid with an optically active epihalohydrin, or a method of optically resolving a racemic modification of tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate by using an amylose or cellulose derivative. It is a method for producing a high melting point type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate obtained by mixing two enantiomers of optically active &bgr;-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate.

公开(公告)号：US20090246643A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12310449

申请日：2007-08-14

申请人： Yasuo Tomita ,  Naoaki Suzuki ,  Motohiko Hidaka ,  Kentaro Ohmori ,  Keisuke Odoi

发明人： Yasuo Tomita ,  Naoaki Suzuki ,  Motohiko Hidaka ,  Kentaro Ohmori ,  Keisuke Odoi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03H1/02 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2250/43 ,  G03H2260/12 ,  G11B7/24044

摘要： [Problems] The present invention provides a photosensitive composition capable of permanently forming a hologram having a low light scattering loss and high diffraction efficiency, and a forming method of a pattern.[Means for solving problems] A photosensitive composition used for forming a pattern by a pattern exposure containing (a) a polymerizable compound, (b) a photopolymerization initiator, and (c) organic-zirconia composite fine particles having a zirconia volume concentration of 20% by volume to 80% by volume; and a forming method of a pattern using the composition.

摘要翻译： 本发明提供能够永久性地形成光散射损耗低，衍射效率高的全息图的感光性组合物和图案的形成方法。 解决问题的手段用于通过图案曝光形成图案的感光性组合物，其包含（a）聚合性化合物，（b）光聚合引发剂，和（c）氧化锆体积浓度为20的有机 - 氧化锆复合微粒 按体积计80％; 以及使用该组合物的图案的成形方法。

公开(公告)号：US06641784B1

公开(公告)日：2003-11-04

申请号：US10048992

申请日：2002-02-19

申请人： Yoshio Okamoto ,  Motohiko Hidaka

发明人： Yoshio Okamoto ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： G01N3048

CPC分类号： C07D405/14 ,  C07B57/00 ,  C07B2200/07 ,  C07B2200/11 ,  C07D403/04 ,  C07D403/14 ,  C07D413/04 ,  C07D417/04 ,  C07D417/14 ,  C07D471/04 ,  C07D487/04

摘要： An optical resolver comprising an optically active substance made of tris-(2,3-epoxypropyl)isocyanurate, is presented. The optical resolver comprises an optically active tris-(epoxyalkyl)isocyanurate or its derivative, or an optically active derivative of a tris-(epoxyalkyl)isocyanurate. Particularly, the optical resolver comprises optically active tris-(2,3-epoxypropyl)isocyanurate or its derivative, or an optically active derivative of tris-(2,3-epoxypropyl)isocyanurate. Having supported on a carrier, an optically active tris-(2,3-epoxypropyl)isocyanurate or its derivative, or an optically active derivative of tris-(2,3-epoxypropyl)isocyanurate, can be made to be a packing for use in high-performance liquid chromatography, whereby efficient optical resolution can be carried out.

摘要翻译： 提供了包含由三 - （2,3-环氧丙基）异氰脲酸酯制成的光学活性物质的光学旋转变压器。 光学旋转变压器包括光学活性三（环氧烷基）异氰脲酸酯或其衍生物或三 - （环氧烷基）异氰脲酸酯的光学活性衍生物。 特别地，光学旋转变压器包括光学活性三（2,3-环氧丙基）异氰脲酸酯或其衍生物，或三 - （2,3-环氧丙基）异氰脲酸酯的光学活性衍生物。 负载在载体上的光学活性三（2,3-环氧丙基）异氰脲酸酯或其衍生物或三 - （2,3-环氧丙基）异氰脲酸酯的光学活性衍生物可以制成包装，用于 高效液相色谱法，可以进行有效的光学拆分。

公开(公告)号：US20080176146A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US11885865

申请日：2006-03-16

申请人： Yasuo Tomita ,  Kouji Furushima ,  Kazuhiko Akimoto ,  Katsumi Chikama ,  Motohiko Hidaka ,  Keisuke Odoi

发明人： Yasuo Tomita ,  Kouji Furushima ,  Kazuhiko Akimoto ,  Katsumi Chikama ,  Motohiko Hidaka ,  Keisuke Odoi

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/001 ,  G03F7/033

摘要： It is an object of the present invention to provide a photosensitive composition capable of forming permanent holograms with low light scattering loss and high diffraction efficiency, and a method for forming a pattern. A photosensitive composition and a pattern formation method using the photosensitive composition are characterized in that the photosensitive composition used to form a pattern by pattern exposure includes: (a) a polymerizable compound, (b) a photopolymerization initiator, and (c) organic fine particles.

摘要翻译： 本发明的目的是提供能够形成具有低光散射损耗和高衍射效率的永久性全息图的光敏组合物，以及形成图案的方法。 使用该感光性组合物的感光性组合物和图案形成方法的特征在于，用于通过图案曝光形成图案的感光性组合物包括：（a）可聚合化合物，（b）光聚合引发剂，和（c）有机细颗粒 。

公开(公告)号：US06414146B1

公开(公告)日：2002-07-02

申请号：US10057939

申请日：2002-01-29

申请人： Toshiaki Takeyama ,  Motohiko Hidaka ,  Kazuhiko Akimoto

发明人： Toshiaki Takeyama ,  Motohiko Hidaka ,  Kazuhiko Akimoto

IPC分类号： C07D25134

CPC分类号： C07D411/14 ,  C08G18/3874

摘要： An isocyanurate compound of the formula (1), wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, a method for producing said iscyanurate compound, characterized by reacting carbon disulfide with a triglycidyl isocyanurate compound, and a trithiol isocyanurate compound and a method for producing the same.

摘要翻译： 式（1）的异氰脲酸酯化合物，其中R是氢原子或甲基，制备所述异氰尿酸酯化合物的方法，其特征在于使二硫化碳与三缩水甘油基异氰脲酸酯化合物和三硫醇异氰脲酸酯化合物反应， 一样。

公开(公告)号：US08426111B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US11918135

申请日：2006-04-11

申请人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  H01L21/0271

摘要： There is provided an underlayer coating that is used as an underlayer of photoresists in lithography process of the manufacture of semiconductor devices and that has a high dry etching rate in comparison to the photoresists, does not intermix with the photoresists, and is capable of flattening the surface of a semiconductor substrate having holes of a high aspect ratio; and an underlayer coating forming composition for forming the underlayer coating.The underlayer coating forming composition for forming by light irradiation an underlayer coating used as an underlayer of a photoresist in a lithography process of the manufacture of semiconductor devices, comprises a polymerizable substance and a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 提供了在半导体器件的制造的光刻工艺中用作光致抗蚀剂的底层的底层涂层，并且与光致抗蚀剂相比具有高的干蚀刻速率，不与光致抗蚀剂混合，并且能够使 具有高纵横比的孔的半导体衬底的表面; 以及用于形成下层涂层的下层涂层形成组合物。 在制造半导体器件的光刻工艺中，通过光照射形成用于光致抗蚀剂的底层的底层涂层组合物包含可聚合物质和光聚合引发剂。

公开(公告)号：US20090130594A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US11918135

申请日：2006-04-11

申请人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoshi Takei ,  Tetsuya Shinjo ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  B05D3/06 ,  B32B37/02

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  H01L21/0271

摘要： There is provided an underlayer coating that is used as an underlayer of photoresists in lithography process of the manufacture of semiconductor devices and that has a high dry etching rate in comparison to the photoresists, does not intermix with the photoresists, and is capable of flattening the surface of a semiconductor substrate having holes of a high aspect ratio; and an underlayer coating forming composition for forming the underlayer coating.The underlayer coating forming composition for forming by light irradiation an underlayer coating used as an underlayer of a photoresist in a lithography process of the manufacture of semiconductor devices, comprises a polymerizable substance and a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 提供了在半导体器件的制造的光刻工艺中用作光致抗蚀剂的底层的底层涂层，并且与光致抗蚀剂相比具有高的干蚀刻速率，不与光致抗蚀剂混合，并且能够使 具有高纵横比的孔的半导体衬底的表面; 以及用于形成下层涂层的下层涂层形成组合物。 在制造半导体器件的光刻工艺中，通过光照射形成用于光致抗蚀剂的底层的底层涂层组合物包含可聚合物质和光聚合引发剂。

公开(公告)号：US6124381A

公开(公告)日：2000-09-26

申请号：US973982

申请日：1997-12-15

申请人： Satoru Miyake ,  Kenichi Osawa ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka

发明人： Satoru Miyake ,  Kenichi Osawa ,  Toshinari Koda ,  Motohiko Hidaka

IPC分类号： C08G59/42 ,  C08G59/58 ,  C08G59/68 ,  C08K5/18

CPC分类号： C08G59/686 ,  C08G59/42 ,  C08G59/58

摘要： An epoxy/acid anhydride composition characterized by containing, as a curing accelerator, a substituted triazine of the formula [I] ##STR1## (wherein X is an amino group, C.sub.1-18 monoalkylamino group, di C.sub.1-18 alkylamino group, morpholino group, piperidino group, methyl group or phenyl group; R.sup.1 and R.sup.2 independently each represent C.sub.1-12 alkyl group, C.sub.1-12 hydroxyalkyl group, C.sub.4-8 cycloalkyl group, C.sub.5-9 cycloalkylmethyl group or C.sub.5-9 methylcycloalkyl group) in an epoxy/acid anhydride composition in which an epoxy compound and an acid anhydride-curing agent are contained, and an epoxy/acid anhydride resin composition prepared by thermosetting the epoxy/acid anhydride composition.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP96 / 01612 Sec。 371 1997年12月15日第 102（e）日期1997年12月15日PCT提交1996年6月13日PCT公布。 出版物WO97 / 00277 PCT 日本1997年1月3日一种环氧/酸酐组合物，其特征在于含有作为固化促进剂的式[I]的取代三嗪（其中X为氨基，C1-18单烷基氨基，二C1-18烷基氨基， 吗啉代基，哌啶子基，甲基或苯基; R 1和R 2各自独立地表示C 1-12烷基，C 1-12羟基烷基，C 4-8环烷基，C 5-9环烷基甲基或C 5-9甲基环烷基） 包含环氧化合物和酸酐固化剂的环氧/酸酐组合物和通过将环氧/酸酐组合物热固化制备的环氧/酸酐树脂组合物。