公开(公告)号：US20050153233A1

公开(公告)日：2005-07-14

申请号：US10757119

申请日：2004-01-14

申请人： Xiaoming Wu ,  Larry Rhodes ,  Lawrence Seger

发明人： Xiaoming Wu ,  Larry Rhodes ,  Lawrence Seger

IPC分类号： C08G61/06 ,  G03F7/039 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08G61/06 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The disclosed invention relates to novel norborne-type monomers containing pendent lactone or sultone groups. The invention also relates to norborne-type polymers and copolymers containing pendent lactone or sultone groups. These polymers and copolymers are useful in making photoimagable materials. The photoimagable materials are particularly suitable for use in photoresist compositions useful in 193 and 157 nm photolithography.

摘要翻译： 所公开的发明涉及含有侧链内酯或磺内酯基团的新型去偶型单体。 本发明还涉及含有侧链内酯或磺内酯基团的去偶型聚合物和共聚物。 这些聚合物和共聚物可用于制备可光成像材料。 光可塑材料特别适合用于193和157nm光刻中的光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07858721B2

公开(公告)日：2010-12-28

申请号：US12387025

申请日：2009-04-27

申请人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Ho Kang

发明人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Ho Kang

IPC分类号： C08F232/02 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  C08G61/02 ,  C08G61/06 ,  C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106

摘要： Some embodiments in accordance with the present invention relate to norbornene-type polymers and to photosensitive dielectric resin compositions formed therefrom. Other embodiments relate to films formed from such compositions and to devices, such as electrical, electronic and optoelectronic devices, that encompass such films.

摘要翻译： 根据本发明的一些实施方案涉及降冰片烯型聚合物和由其形成的光敏介电树脂组合物。 其它实施方案涉及由这种组合物形成的膜以及包含这种膜的诸如电子，电子和光电子器件的器件。

公开(公告)号：US08580477B2

公开(公告)日：2013-11-12

申请号：US12563627

申请日：2009-09-21

申请人： Brian Knapp ,  Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Cheryl Burns ,  Sridevi Kaiti ,  Brian Kocher ,  Hendra Ng ,  Yogesh Patel ,  Masanobu Sakamoto ,  Xiaoming Wu ,  Linda Zhang

发明人： Brian Knapp ,  Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Cheryl Burns ,  Sridevi Kaiti ,  Brian Kocher ,  Hendra Ng ,  Yogesh Patel ,  Masanobu Sakamoto ,  Xiaoming Wu ,  Linda Zhang

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08L45/00

CPC分类号： C08L45/00 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106

摘要： Embodiments in accordance with the present invention encompass negative-tone, aqueous base developable, self-imageable polymer compositions useful for forming films that can be patterned to create structures for microelectronic devices, microelectronic packaging, microelectromechanical systems, optoelectronic devices and displays.

摘要翻译： 根据本发明的实施方案包括可用于形成可以被图案化以产生微电子器件，微电子封装，微机电系统，光电子器件和显示器的结构的膜的负性，水性碱显影性，可自我形成的聚合物组合物。

公开(公告)号：US20080194740A1

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：US11949328

申请日：2007-12-03

申请人： Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Brian Knapp ,  Hendra Ng ,  Larry F. Rhodes ,  Robert Shick ,  Wei Zhang ,  William DiMenna ,  Saikumar Jayaraman ,  Jianyong Jin ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Xiaoming Wu ,  Etsu Takeuchi

发明人： Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Brian Knapp ,  Hendra Ng ,  Larry F. Rhodes ,  Robert Shick ,  Wei Zhang ,  William DiMenna ,  Saikumar Jayaraman ,  Jianyong Jin ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Xiaoming Wu ,  Etsu Takeuchi

IPC分类号： C08K5/45 ,  C08G73/00 ,  C08K5/1545

CPC分类号： C08G61/04 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0388

摘要： A polymer includes a first type of repeat unit represented by Formula I: where X is selected from —CH2—, —CH2—CH2—, or —O—; m is an integer from 0 to about 5; and where for the first type of repeat unit one of R1, R2, R3, and R4 is one of a maleimide containing group and for the second type of repeat unit one of R1, R2, R3, and R4 is a hindered aromatic group, a C8 or greater alkyl group, a C4 or greater halohydrocarbyl or perhalocarbyl group, a C7 or greater aralkyl group, or a heteroatom hydrocarbyl or halohydrocarbyl group.

摘要翻译： 聚合物包括由式I表示的第一类型的重复单元：其中X选自-CH 2 - ， - CH 2 -CH 2 > - 或-O-; m是0至约5的整数; 并且对于第一类型的重复单元，R 1，R 2，R 3和R 4中的一个，R 4， >是含有马来酰亚胺的基团之一，对于第二类型的重复单元，R 1，R 2，R 3和R 3中的一个，R 3，R 3， 受阻芳族基团，C 8或更高级烷基，C 4或更大的卤代烃基或全卤代羰基，C _{7个或更大的芳烷基，或杂原子烃基或卤代烃基。}

公开(公告)号：US08053515B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US11949328

申请日：2007-12-03

申请人： Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Brian Knapp ,  Hendra Ng ,  Larry F. Rhodes ,  Robert Shick ,  Wei Zhang ,  William DiMenna ,  Saikumar Jayaraman ,  Jianyong Jin ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Xiaoming Wu ,  Etsu Takeuchi

发明人： Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Brian Knapp ,  Hendra Ng ,  Larry F. Rhodes ,  Robert Shick ,  Wei Zhang ,  William DiMenna ,  Saikumar Jayaraman ,  Jianyong Jin ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Xiaoming Wu ,  Etsu Takeuchi

IPC分类号： C08G63/60

CPC分类号： C08G61/04 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0388

摘要： A polymer includes a first type of repeat unit represented by Formula I: where X is selected from —CH2—, —CH2—CH2—, or —O—; m is an integer from 0 to about 5; and where for the first type of repeat unit one of R1, R2, R3, and R4 is one of a maleimide containing group and for the second type of repeat unit one of R1, R2, R3, and R4 is a hindered aromatic group, a C8 or greater alkyl group, a C4 or greater halohydrocarbyl or perhalocarbyl group, a C7 or greater aralkyl group, or a heteroatom hydrocarbyl or halohydrocarbyl group.

摘要翻译： 聚合物包括由式I表示的第一类型的重复单元：其中X选自-CH 2 - ， - CH 2 -CH 2 - 或-O-; m是0至约5的整数; 并且对于第一类型的重复单元，R 1，R 2，R 3和R 4中的一个是含马来酰亚胺基团之一，并且对于第二类型的重复单元，R 1，R 2，R 3和R 4中的一个是受阻芳族基团， C8或更大的烷基，C4或更大的卤代烃基或全卤代羰基，C7或更高的芳烷基或杂原子烃基或卤代烃基。

公开(公告)号：US07524594B2

公开(公告)日：2009-04-28

申请号：US11171391

申请日：2005-07-01

申请人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Ho Kang

发明人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Ho Kang

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  C08G61/02 ,  C08G61/06 ,  C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106

摘要： Some embodiments in accordance with the present invention relate to norbornene-type polymers and to photosensitive dielectric resin compositions formed therefrom. Other embodiments relate to films formed from such compositions and to devices, such as electrical, electronic and optoelectronic devices, that encompass such films.

摘要翻译： 根据本发明的一些实施方案涉及降冰片烯型聚合物和由其形成的光敏介电树脂组合物。 其它实施方案涉及由这种组合物形成的膜以及包含这种膜的诸如电子，电子和光电子器件的器件。

公开(公告)号：US20110070543A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：US12563627

申请日：2009-09-21

申请人： Brian Knapp ,  Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Cheryl Burns ,  Sridevi Kaiti ,  Brian Kocher ,  Hendra Ng ,  Yogesh Patel ,  Masanobu Sakamoto ,  Xiaoming Wu ,  Linda Zhang

发明人： Brian Knapp ,  Edmund Elce ,  Andrew Bell ,  Cheryl Burns ,  Sridevi Kaiti ,  Brian Kocher ,  Hendra Ng ,  Yogesh Patel ,  Masanobu Sakamoto ,  Xiaoming Wu ,  Linda Zhang

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08L45/00 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106

摘要： Embodiments in accordance with the present invention encompass negative-tone, aqueous base developable, self-imageable polymer compositions useful for forming films that can be patterned to create structures for microelectronic devices, microelectronic packaging, microelectromechanical systems, optoelectronic devices and displays.

摘要翻译： 根据本发明的实施方案包括可用于形成可以被图案化以产生微电子器件，微电子封装，微机电系统，光电子器件和显示器的结构的膜的负性，水性碱显影性，可自我形成的聚合物组合物。

公开(公告)号：US20090215976A1

公开(公告)日：2009-08-27

申请号：US12387025

申请日：2009-04-27

申请人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Daoji Gan ,  Etsu Takeuchi ,  Seok Ho Kang

发明人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Raja Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Daoji Gan ,  Etsu Takeuchi ,  Seok Ho Kang

IPC分类号： C08G77/04 ,  C08G63/66

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  C08G61/02 ,  C08G61/06 ,  C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106

摘要： Some embodiments in accordance with the present invention relate to norbornene-type polymers and to photosensitive dielectric resin compositions formed therefrom. Other embodiments relate to films formed from such compositions and to devices, such as electrical, electronic and optoelectronic devices, that encompass such films.

公开(公告)号：US20060008734A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US11171391

申请日：2005-07-01

申请人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Kang

发明人： Dino Amoroso ,  Brian Bedwell ,  Andrew Bell ,  Edmund Elce ,  Rajesh Puthenkovilakom ,  Ramakrishna Ravikiran ,  Robert Shick ,  Xiaoming Wu ,  Hiroaki Makabe ,  Yasunori Takahashi ,  Etsu Takeuchi ,  Daoji Gan ,  Seok Kang

IPC分类号： G03C1/492

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  C08G61/02 ,  C08G61/06 ,  C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106

摘要： Some embodiments in accordance with the present invention relate to norbornene-type polymers and to photosensitive dielectric resin compositions formed therefrom. Other embodiments relate to films formed from such compositions and to devices, such as electrical, electronic and optoelectronic devices, that encompass such films.

公开(公告)号：US09441115B2

公开(公告)日：2016-09-13

申请号：US14358026

申请日：2011-11-14

申请人： Xiaoming Wu ,  Yong Lu ,  Hong Liu ,  Yinfeng Wu ,  Qianyuan Liu

发明人： Xiaoming Wu ,  Yong Lu ,  Hong Liu ,  Yinfeng Wu ,  Qianyuan Liu

IPC分类号： C09D5/08 ,  C23C22/60 ,  C23C22/68 ,  H05K3/28

CPC分类号： C09D5/086 ,  C23C22/60 ,  C23C22/68 ,  H05K3/282 ,  H05K2203/0786 ,  H05K2203/0793

摘要： The present invention relates to a water-based pore sealing agent enhancing PCB coating anti-oxidation and anti-corrosion properties, consisting of, by weight, 4-12 parts of a corrosion inhibitor, 15-25 parts of a mixed surfactants system, 10-20 parts of an ion chelating agent, 6-15 parts of a pH regulator, 20-40 parts of a builder, and the rest being purified water. When used to perform pore sealing on a PCB, the water-based pore sealing agent is diluted with purified water first to be diluted 10-100 times, preferably, 100/8-100/3 times. The pH value is 7-11, and is preferably 7.5-9.5. The surface tension is 18-28 dyn/cm. The pore sealing treatment uses a immersion process, and preferably ultrasonic waves are added at the same time to assist in cleaning the pores. For the pore sealing treatment, the temperature is 20-60° C., and the time is 60-150 seconds. After pore sealing, the temperature for drying the coated piece is 80-150° C., and the time is 60-120 seconds. The PCB treated with the water-based pore sealing agent of the present invention undergoes the neutral salt spray test, the nitric acid vapor test, the mixed gas test, and the sulfur dioxide and bonding tensile strength test, and the results have indicated that the anti-oxidation and anti-corrosion properties of the coating thereof are significantly enhanced.

摘要翻译： 本发明涉及一种提高PCB涂层抗氧化和抗腐蚀性能的水性密封剂，由重量比为4-12份的缓蚀剂组成，15-25份混合表面活性剂体系，10 -20份离子螯合剂，6-15份pH调节剂，20-40份助洗剂，其余为纯化水。 当用于在PCB上进行孔密封时，首先用净化水稀释水基密封剂以稀释10-100倍，优选为100 / 8-100 / 3倍。 pH值为7-11，优选为7.5-9.5。 表面张力为18-28dyn / cm。 孔密封处理使用浸渍法，优选同时加入超声波以辅助清洁毛孔。 对于孔密封处理，温度为20-60℃，时间为60-150秒。 孔密封后，涂层的干燥温度为80-150℃，时间为60-120秒。 用本发明的水性密封剂处理的PCB经过中性盐雾试验，硝酸蒸汽试验，混合气体试验，二氧化硫和接合拉伸强度试验，结果表明， 其涂层的抗氧化和抗腐蚀性能显着提高。