公开(公告)号：US20090054129A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US11843215

申请日：2007-08-22

申请人： Toshiyuki YOSHIMURA ,  Yuji Ono

发明人： Toshiyuki YOSHIMURA ,  Yuji Ono

IPC分类号： A63F9/24

CPC分类号： G07F17/32 ,  G07F17/3267 ,  G07F17/34

摘要： A gaming machine comprises a display unit that displays video reels using computer graphics. Symbols are moved and stopped on each video reel. A game controller unit selects a type of symbols and an arrangement of symbols at random, and provides a player with an award if a winning combination appears on a payline in the arrangement of symbols and the player has placed a bet on the payline. A display controller unit causes the display unit to move symbols on each video reel, and then stop symbols in the arrangement. The display controller unit further causes the display unit to change a symbol of the selected type to a special symbol while moving symbols. Special symbols appear in a prominent form, e.g., in a background color complementary to a background color of other symbols, or in a metallic color, or in a blinking, flashing, or sparkling pattern.

摘要翻译： 游戏机包括使用计算机图形显示视频卷轴的显示单元。 符号在每个视频卷轴上移动并停止。 游戏控制器单元随机选择符号类型和符号排列，并且如果在符号排列中在支付线上出现获胜组合并且玩家已经在支付线上下注赌注，则向游戏者提供奖励。 显示控制器单元使显示单元在每个视频卷轴上移动符号，然后停止在该布置中的符号。 显示控制器单元还使得显示单元在移动符号的同时将所选类型的符号改变为特殊符号。 特殊符号以突出的形式出现，例如以与其他符号的背景颜色互补的背景颜色，或以金属颜色，或以闪烁，闪烁或闪烁图案形式出现。

公开(公告)号：US20050033636A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10495051

申请日：2002-11-05

申请人： Shuhei Miura ,  Yasuyuki Tanaka ,  Yuji Ono

发明人： Shuhei Miura ,  Yasuyuki Tanaka ,  Yuji Ono

IPC分类号： G06Q10/00 ,  G06F17/60

CPC分类号： G06Q10/06 ,  G06Q10/10 ,  G06Q30/0273

摘要： The present invention includes a production managing server and a plurality of staff terminals. The production managing server manages production information for each staff member engaged in production of an advertisement. Each of the plurality of staff terminals transmits a report indicating completion of work contents to the production managing server. When receiving the report from any one of the terminals, the production managing server notifies the other staff terminals of an instruction to advance a subsequent process.

摘要翻译： 本发明包括生产管理服务器和多个员工终端。 生产管理服务器管理从事生产广告的每个员工的生产信息。 多个员工终端中的每一个向生产管理服务器发送表示工作内容的完成的报告。 当从任何一个终端接收到报告时，生产管理服务器通知其他人员终端进行后续处理的指令。

公开(公告)号：US5853486A

公开(公告)日：1998-12-29

申请号：US620535

申请日：1996-03-25

申请人： Yuji Ono ,  Katsuhiko Mihara

发明人： Yuji Ono ,  Katsuhiko Mihara

IPC分类号： C23C16/54 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67757 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/14

摘要： A treatment system is disclosed, which has a treatment apparatus for performing a predetermined treatment for a planar workpiece contained in a carrier, and a first air-tight carrier storage chamber for storing the carrier. The treatment apparatus may also have an air-tight second carrier storage chamber. An inert gas supply pipe and an exhaust pipe are connected to each of the treatment apparatus, the first carrier storage chamber, and the second carrier storage chamber. A open/close valve device is provided for each of the inert gas supply pipes and the exhaust pipes.

摘要翻译： 公开了一种处理系统，其具有用于对包含在载体中的平面工件进行预定处理的处理装置和用于存储载体的第一气密载体储存室。 处理装置也可以具有气密的第二载体储存室。 惰性气体供给管和排气管连接到处理装置，第一载体储存室和第二载体储存室中的每一个。 为每个惰性气体供给管和排气管提供开/关阀装置。

公开(公告)号：US5639234A

公开(公告)日：1997-06-17

申请号：US316333

申请日：1994-09-30

申请人： Yuji Ono ,  Katsuhiko Mihara

发明人： Yuji Ono ,  Katsuhiko Mihara

IPC分类号： C23C16/54 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  F27B9/04

CPC分类号： H01L21/67757 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

摘要： A treatment system is disclosed, which has a treatment apparatus for performing a predetermined treatment for a planar workpiece contained in a carrier, and an first air-tight carrier storage chamber for storing the carrier. The treatment apparatus may also have an air-tight second carrier storage chamber. An inert gas supply and exhaust are connected to each of the treatment apparatus, the first carrier storage chamber, and the second carrier storage chamber. A valve device is provided for the inert gas supply and exhaust.

摘要翻译： 公开了一种处理系统，其具有用于对包含在载体中的平面工件进行预定处理的处理装置和用于存储载体的第一气密载体存放室。 处理装置也可以具有气密的第二载体储存室。 惰性气体供给和排气连接到处理装置，第一载体储存室和第二载体储存室中的每一个。 为惰性气体供给和排气提供阀装置。

公开(公告)号：US5466691A

公开(公告)日：1995-11-14

申请号：US039100

申请日：1993-03-30

申请人： Tohru Nakao ,  Yuji Ono ,  Hiroshi Tanaka ,  Minoru Obata ,  Yasuto Morimoto

发明人： Tohru Nakao ,  Yuji Ono ,  Hiroshi Tanaka ,  Minoru Obata ,  Yasuto Morimoto

IPC分类号： C07D333/20 ,  C07D333/34 ,  C07D333/36 ,  C07D409/06 ,  C07D409/12 ,  C07D409/14 ,  C07D413/14 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  C07D471/20 ,  C07D495/04 ,  C07D409/00 ,  A61K31/445 ,  A61K31/495 ,  C07D411/00 ,  C07D419/00

CPC分类号： C07D409/06 ,  C07D333/20 ,  C07D333/34 ,  C07D333/36 ,  C07D409/12 ,  C07D409/14 ,  C07D413/14 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  C07D495/04

摘要： Thiophene compounds of the formula ##STR1## wherein each symbol is as defined in the specification, their pharmaceutically acceptable salts, pharmaceutical compositions containing said compound and additives for pharmaceuticals, and antipsychotics containing said compound as an active ingredient.The compound of the present invention has pharmacological actions required of antipsychotic, such as motility suppressing action, anti-apomorphine action, mothamphetamine antagonistic action, tetrabenazine-induced blepharoptosis enhancing action, and the like. The compound of the present invention is useful as an antipsychotic having less extrapyramidal side-effects or a non-benzodiazepine type antianxiety agent.

摘要翻译： PCT No.PCP / JP92 / 01002 Sec。 371日期1993年3月30日 102（e）1993年3月30日PCT提交1992年8月5日PCT公布。 出版物WO93 / 03025 日期：1993年2月18日。式（I）的噻吩化合物，其中每个符号如说明书中所定义，其药学上可接受的盐，含有所述化合物的药物组合物和药物添加剂以及含有所述化合物作为抗生素的抗精神病药 有效成分。 本发明的化合物具有抗精神病药所需的药理作用，例如运动抑制作用，抗阿朴吗啡作用，安非他明拮抗作用，丁苯那嗪诱导的睑下垂增生作用等。 本发明的化合物可用作具有较少锥体束外副作用的抗精神病药或非苯并二氮类抗焦虑剂。

公开(公告)号：US20120094014A1

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：US13265678

申请日：2010-04-21

申请人： Yuji Ono ,  Tomohiko Edura ,  Teruyuki Hayashi ,  Akitake Tamura ,  Misako Saito ,  Hirotaka Kuwada ,  Shimon Otsuki

发明人： Yuji Ono ,  Tomohiko Edura ,  Teruyuki Hayashi ,  Akitake Tamura ,  Misako Saito ,  Hirotaka Kuwada ,  Shimon Otsuki

IPC分类号： B05D5/06 ,  B67D7/06 ,  C23C16/448

CPC分类号： C23C14/12 ,  C23C14/228 ,  C23C14/246

摘要： There is provided a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method capable of efficiently sublimating/melting a granular organic material with high mobility. The vapor deposition apparatus for forming a thin film on a substrate by vapor deposition includes a depressurizable material supply apparatus configured to supply a material gas, and a film forming apparatus configured to form a thin film on the substrate. The material supply apparatus includes a quantity control unit configured to control a quantity of a material, and a material gas generating unit configured to vaporize the material supplied from the quantity control unit.

摘要翻译： 提供了能够高度迁移率地有效地升华/熔化颗粒状有机材料的气相沉积设备和气相沉积方法。 用于通过气相沉积在基板上形成薄膜的气相沉积装置包括构造成供给材料气体的可降压材料供给装置和被配置为在基板上形成薄膜的成膜装置。 材料供给装置包括：配置为控制材料量的量控制单元和构造成使从量控制单元供给的材料蒸发的原料气体生成单元。

公开(公告)号：US20100071623A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12441934

申请日：2007-10-01

申请人： Shingo Watanabe ,  Yuji Ono ,  Koyu Hasegawa ,  Masahiro Ogawa ,  Kouichi Honda

发明人： Shingo Watanabe ,  Yuji Ono ,  Koyu Hasegawa ,  Masahiro Ogawa ,  Kouichi Honda

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/12 ,  C23C14/243

摘要： Disclosed is an evaporating apparatus for performing a film forming process on a target object to be processed by vapor deposition, wherein a processing chamber and a vapor generating chamber are disposed adjacent to each other, gas exhaust mechanisms for depressurizing an inside of the processing chamber and an inside of the vapor generating chamber are installed, a vapor discharge opening for discharging a vapor of the film forming material is disposed in the processing chamber, vapor generating units for vaporizing the film forming material and control valves for controlling a supply of the vapor of the film forming material are disposed in the vapor generating chamber, and flow paths, which are not exposed to an outside of the processing chamber and the vapor generating chamber, for supplying the vapor of the film forming material generated in the vapor generating units to the vapor discharge opening are installed.

摘要翻译： 本发明公开了一种用于对通过气相沉积处理的目标物体进行成膜处理的蒸发装置，其中处理室和蒸汽发生室彼此相邻设置，用于对处理室内部进行减压的排气机构， 蒸汽发生室内部安装有用于排出成膜材料的蒸汽的蒸汽排放口，用于蒸发成膜材料的蒸汽发生单元和用于控制成膜材料供应的控制阀 成膜材料设置在蒸汽发生室中，并且没有暴露于处理室和蒸气发生室的外部的流路用于将在蒸汽发生单元中产生的成膜材料的蒸汽供应到 安装蒸汽排放口。

公开(公告)号：US06792959B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10437891

申请日：2003-05-15

申请人： Yuji Ono ,  Ryoichi Ohkura

发明人： Yuji Ono ,  Ryoichi Ohkura

IPC分类号： B08B302

CPC分类号： H01L21/67051 ,  Y10S134/902

摘要： A single wafer type wet-cleaning technique for wet-cleaning wafers, individually, which are not stored in a cassette, at the front and back faces thereof simultaneously, in a sealed cleaning housing, whereby a plurality of chemical fluids are vertically and sequentially supplied from a number of upper side supply nozzles 25 and lower side supply nozzles 26 to the front and back faces of each wafer W to clean the same, and purified water is always caused to flow out of the lower side supply nozzles 26, 26, . . . , which do not supply chemical fluids, of the lower side supply nozzles, thereby preventing the occurrence of cross contamination of various chemical fluids between cleaning treatments.

摘要翻译： 在密封的清洁壳体中单独湿式清洁晶片的单片式湿式清洁技术，其单独地不存储在盒中，其前表面和后表面上并未存储在盒中，由此多个化学流体被垂直并顺序地供应 从多个上侧供给喷嘴25和下侧供给喷嘴26到各晶片W的正面和背面进行清洗，净化水总是从下侧供给喷嘴26,26流出。 。 。 ，其不供给下侧供应喷嘴的化学流体，从而防止在清洁处理之间发生各种化学流体的交叉污染。

公开(公告)号：US06763839B2

公开(公告)日：2004-07-20

申请号：US09871250

申请日：2001-06-01

申请人： Ryoichi Ohkura ,  Yuji Ono ,  Hiroshi Yamaguchi ,  Miyuki Takaishi ,  Hideo Kamikochi

发明人： Ryoichi Ohkura ,  Yuji Ono ,  Hiroshi Yamaguchi ,  Miyuki Takaishi ,  Hideo Kamikochi

IPC分类号： B08B300

CPC分类号： H01L21/67196 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781 ,  Y10S134/902

摘要： A substrate cleaning system for cleaning wafers using a sheet-type wet cleaning treatment. The system has a sealable system body, a loading/unloading booth having a substrate carry-in section in which a plurality of substances are stocked to be carried in before a cleaning treatment is applied to them and a substrate carry-out section in which a plurality of substrates are stocked to be carried out after the cleaning treatment is applied, a processing booth provided with at least one sheet-type substrate cleaning chamber in which the cleaning treatment can be applied to a plurality of substrates by a plurality of cleaning solutions, and a robot booth provided with a transport robot for transporting the substrates one by one between the processing booth and the loading/unloading booth, the respective booths having partition walls.

摘要翻译： 一种用于使用片式湿式清洗处理来清洗晶片的基板清洁系统。 该系统具有可密封的系统主体，一个装载/卸载舱，具有一个基板输入部分，在该部分中多个物质被储存在其上施加清洁处理之前被运载;以及基板执行部分，其中 在施加清洁处理之后，多个基板被储存以进行，设置有至少一个片状基板清洁室的处理室，其中可以通过多个清洁溶液将清洁处理应用于多个基板， 以及设置有运送机器人的机器人展位台，用于在处理室和装卸台之间逐一运送基板，各个展位具有分隔壁。

公开(公告)号：US06750774B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US09907749

申请日：2001-07-19

申请人： Kengo Yano ,  Tadashi Onozuka ,  Yuji Ono

发明人： Kengo Yano ,  Tadashi Onozuka ,  Yuji Ono

IPC分类号： G08B2100

CPC分类号： B62J1/12 ,  B62J99/00 ,  B62J2099/002 ,  B62K2207/00

摘要： In view of a possibility that a conventional structure which mounts a pressure-sensitive riding detection sensor on a seat bottom plate and mounts a seat cushion on the riding detection sensor lowers the sensitivity of the riding detection sensor, the present invention arranges the riding detection sensor such that the riding detection sensor can have favorable sensitivity. A lower seat cushion is arranged on a seat bottom plate of a seat, and a seat switch is supported on the lower seat cushion. A seat cushion body which is made thin by the thickness of the lower seat cushion is mounted on the seat switch, and a seat skin covers an upper surface of the seat cushion body.

摘要翻译： 考虑到将座椅底板上的压敏骑乘检测传感器安装在骑乘检测传感器上并将座垫安装在骑乘检测传感器上的传统结构的可能性降低了骑乘检测传感器的灵敏度，本发明安排骑乘检测传感器 使得骑乘检测传感器能够具有良好的灵敏度。 在座椅的座椅底板上设置有下座垫，座椅开关支撑在下座垫上。 通过下座垫的厚度变薄的座垫主体安装在座椅开关上，座椅皮肤覆盖座垫主体的上表面。