公开(公告)号：US07253875B1

公开(公告)日：2007-08-07

申请号：US11366803

申请日：2006-03-03

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Ronald Van Der Ham ,  Niek Jacobus Johannes Roset

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70908

摘要： A lithographic apparatus includes a measurement system to measure the position and/or movement of a substrate support relative to a reference frame. The measurement system includes a target mounted to one of the substrate support and the reference frame, a radiation source mounted to the other one of the substrate support and the reference frame and a sensor configured to detect a pattern of radiation propagating from the target, indicating the position or movement of the substrate support. The substrate support includes one or more gas outlets configured to provide a flow of gas that encapsulates the volume of space through which the beam of radiation propagates to the target.

摘要翻译： 光刻设备包括用于测量衬底支撑件相对于参考框架的位置和/或运动的测量系统。 测量系统包括安装到基板支撑件和参考框架中的一个的目标，安装到基板支撑件和参考框架中的另一个的辐射源以及被配置为检测从目标传播的辐射图案的传感器，指示 衬底支撑件的位置或运动。 衬底支撑件包括一个或多个气体出口，其构造成提供封装辐射束通过其传播到靶的空间体积的气体流。

公开(公告)号：US08411252B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12639457

申请日：2009-12-16

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.

摘要翻译： 提供衬底处理器。 衬底处理器包括被配置为承载衬底的支撑表面和被配置为预处理衬底的预调节单元。 衬底处理器被配置为相对于衬底台移动衬底。

公开(公告)号：US08174680B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12512220

申请日：2009-07-30

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： An apparatus, method, and system is provided to condition a substrate. The apparatus can include a substrate handler, an array of diodes, and a projection system. The substrate handler can include a conditioning device, a float device, and a displacing device. The array of diodes can be configured to provide a patterned radiation beam, where the projection system projects the patterned radiation beam onto a target portion of a conditioned substrate.

摘要翻译： 提供了一种装置，方法和系统来调节基板。 该装置可以包括基板处理器，二极管阵列和投影系统。 衬底处理器可以包括调节装置，浮子装置和置换装置。 二极管阵列可以被配置为提供图案化的辐射束，其中投影系统将图案化的辐射束投影到经调理的基底的目标部分上。

公开(公告)号：US07352438B2

公开(公告)日：2008-04-01

申请号：US11353232

申请日：2006-02-14

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Erik Roelof Loopsta ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Erik Roelof Loopsta ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： The mask in a lithographic apparatus is clamped on a first side using a first clamping device and on a second side, different from the first side, using a second clamping device. The clamping forces are preferably applied using thin membranes. The first clamp clamps the substrate in directions parallel to the plane of the patterning device, perpendicular to the plane of the patterning device and rotationally. The second clamping device clamps the patterning device only in directions parallel to the plane of the substrate.

摘要翻译： 光刻设备中的掩模使用第一夹紧装置夹紧在第一侧上，并使用第二夹紧装置夹紧在不同于第一侧的第二侧上。 夹紧力优选使用薄膜施加。 第一夹具将基板平行于图案形成装置的平面垂直于图案形成装置的平面并旋转夹紧基板。 第二夹紧装置仅在平行于基板的平面的方向上夹持图案形成装置。

公开(公告)号：US07126664B2

公开(公告)日：2006-10-24

申请号：US10888513

申请日：2004-07-12

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Thijs Harink ,  Paulus Martinus Maria Liebregts

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Thijs Harink ,  Paulus Martinus Maria Liebregts

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70841

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. A projection system is configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. A first vacuum environment contains the projection system, a second vacuum environment contains the patterning device support, and a separator separates the first and second vacuum environments. The separator includes an aperture for passing the projection beam from the first vacuum environment towards the patterning device and/or vice-versa. The patterning device forms at least part of a seal for substantially sealing the aperture of the separator.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括构造成支撑图案形成装置的支撑件，该图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 第一真空环境包含投影系统，第二真空环境包含图案形成装置支撑件，分离器分离第一和第二真空环境。 分离器包括用于使投影束从第一真空环境朝向图案形成装置传递的孔，和/或反之亦然。 图案形成装置形成用于基本上密封隔膜的孔的密封件的至少一部分。

公开(公告)号：US07061579B2

公开(公告)日：2006-06-13

申请号：US10735847

申请日：2003-12-16

申请人： Pertrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Michael Ten Bhomer

发明人： Pertrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Michael Ten Bhomer

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G02B7/028 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system that provides a beam of radiation, and a support structure that supports a patterning structure. The patterning structure is configured to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate support that supports a substrate, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a reference frame that provides a reference surface with respect to which a position of at least one of the substrate and the patterning structure is measured. The reference frame includes a material that has a coefficient of thermal expansion of greater than about 2.9×10−6/K.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括提供辐射束的照明系统和支撑图形结构的支撑结构。 图案形成结构被配置为在其横截面中赋予辐射束图案。 该装置还包括支撑基板的基板支撑件，将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统以及提供参考表面的参考框架，基准面相对于基板的至少一个基板 并且测量图案结构。 参考框架包括具有大于约2.9×10 -6 / K的热膨胀系数的材料。

公开(公告)号：US06977713B2

公开(公告)日：2005-12-20

申请号：US10729376

申请日：2003-12-08

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Pertrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Pertrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G21K5/02 ,  F16F15/04 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70858

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation, a support structure constructed to support a patterning device, which serves to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, a substrate table for holding a substrate, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a reference frame with a position sensor and the substrate being located thereon. The apparatus further includes a heat transport system having a heating element, in thermal interaction with at least one of the projection system and the reference frame, for heat transport to or from at least one of the projection system and the reference frame, wherein the heat transport system, is coupled to a further frame which is mechanically isolated from the reference frame.

摘要翻译： 光刻设备包括用于提供辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的支撑结构，其用于使投影光束在其横截面上具有图案，用于保持衬底的衬底台，用于保持衬底的突起 将图案化光束投影到基板的目标部分上的系统，以及具有位置传感器并且基板位于其上的参考框架。 该装置还包括具有加热元件的热​​传输系统，其与投影系统和参考框架中的至少一个进行热相互作用，用于传输到投影系统和参考框架中的至少一个的热传递，其中热量 传输系统耦合到与参考系机械隔离的另一帧。