公开(公告)号：US20080264483A1

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：US11875367

申请日：2007-10-19

申请人： Marvin S. Keshner ,  Paul McClelland ,  Rajeewa R. Arya

发明人： Marvin S. Keshner ,  Paul McClelland ,  Rajeewa R. Arya

IPC分类号： H01L31/04

CPC分类号： H01L31/20 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/02366 ,  Y02E10/50

摘要： An amorphous silicon photovoltaic cell exhibiting improved light trapping, and a method for generating electricity from sunlight therewith. The cell comprises a plurality of layers, including a transparent superstrate; a specular, first transparent conductor positioned below the transparent superstrate; at least one p-i-n structure having an active layer positioned below the first transparent conductor; a second transparent conductor positioned below the p-i-n structure; and a layer of transparent material positioned below the second transparent conductor. The layer of transparent material may be textured amorphous silicon having a relatively high dielectric constant. The cell may further include a back coating positioned below the layer of transparent material, and a back reflector positioned below the back coating layer.

摘要翻译： 表现出改善的光捕获的非晶硅光伏电池，以及由阳光发电的方法。 该电池包括多个层，包括透明的覆层; 位于透明覆盖层下方的镜面第一透明导体; 至少一个p-i-n结构，其具有位于所述第一透明导体下方的有源层; 位于p-i-n结构下方的第二透明导体; 以及位于第二透明导体下方的透明材料层。 透明材料层可以是具有相对较高介电常数的织构化非晶硅。 电池还可以包括位于透明材料层下方的背涂层，以及位于背涂层下方的后反射器。

公开(公告)号：US07291380B2

公开(公告)日：2007-11-06

申请号：US10888450

申请日：2004-07-09

申请人： Peter S. Nyholm ,  Curt Lee Nelson ,  Niranjan Thirukkovalur ,  Paul McClelland

发明人： Peter S. Nyholm ,  Curt Lee Nelson ,  Niranjan Thirukkovalur ,  Paul McClelland

IPC分类号： B32B3/00 ,  H05K1/02 ,  B05D1/36

CPC分类号： C23C18/22 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1612 ,  C23C18/204 ,  C23C18/208 ,  C23C18/285 ,  C23C18/30 ,  C25D5/022 ,  C25D5/34 ,  C25D5/54 ,  H05K3/0032 ,  H05K3/184 ,  H05K3/185 ,  H05K3/381 ,  H05K2203/0577 ,  H05K2203/1173 ,  H05K2203/1415 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/12451 ,  Y10T428/12535 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/2804

摘要： A method of plating a substrate including coating a substrate surface, laser-treating a region of the coated surface, and plating the region.

摘要翻译： 一种电镀基板的方法，包括涂覆基板表面，激光处理涂覆表面的区域，以及电镀该区域。

公开(公告)号：US20070048456A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11553334

申请日：2006-10-26

申请人： Marvin Keshner ,  Paul McClelland

发明人： Marvin Keshner ,  Paul McClelland

IPC分类号： H01L21/20 ,  H05H1/24 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/509 ,  H05H2240/00

摘要： A substrate processing system includes a deposition chamber and a plurality of tubular electrodes positioned within the deposition chamber defining plasma regions adjacent thereto.

摘要翻译： 衬底处理系统包括沉积室和位于沉积室内的多个管状电极，其限定与其相邻的等离子体区域。