公开(公告)号：US4783369A

公开(公告)日：1988-11-08

申请号：US842118

申请日：1986-03-20

申请人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

发明人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

IPC分类号： C03C3/32 ,  C04B41/46 ,  C04B41/50 ,  C04B41/82 ,  C04B41/85 ,  C23C16/22 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26 ,  B32B9/00 ,  H01C1/012 ,  H05B3/10

CPC分类号： C04B41/009 ,  C03C3/32 ,  C04B41/466 ,  C04B41/50 ,  C04B41/82 ,  C04B41/85 ,  C23C16/22 ,  H05B3/145 ,  H05B3/148 ,  H05B3/26 ,  C04B2111/00844 ,  H05B2203/011 ,  H05B2203/013 ,  H05B2203/017 ,  Y10T428/30

摘要： A heat generating resistor having a functional thin film comprising an amorphous material containing halogen atoms and hydrogen atoms non-uniformly distributed in a matrix of carbon atoms formed on a substrate. Optionally, the thin film also contains silicon and/or germanium, and a substance for controlling the electroconductivity of the thin film. The optional ingredients are also non-uniformly distributed within the thin film.

摘要翻译： 一种具有功能性薄膜的发热电阻体，其特征在于，具有含有卤素原子的非晶质和不均匀分布在基板上形成的碳原子的基体中的氢原子。 可选地，薄膜还含有硅和/或锗，以及用于控制薄膜导电性的物质。 任选的成分也不均匀分布在薄膜内。

公开(公告)号：US20110263124A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13067840

申请日：2011-06-29

申请人： Shinichi Hirasawa ,  Shinya Watanabe

发明人： Shinichi Hirasawa ,  Shinya Watanabe

IPC分类号： H01L21/28

CPC分类号： H01L27/11521 ,  H01L29/40114 ,  H01L29/7881

摘要： A method of fabricating a semiconductor device according to one embodiment includes: forming a plurality of Si-based pattern portions above a semiconductor substrate, the plurality of Si-based pattern portions being adjacent in a direction substantially parallel to a surface of the semiconductor substrate via insulating films; forming a metal film above the plurality of Si-based pattern portions and the insulating films so as to contact with the plurality of Si-based pattern portions; processing whole areas or upper portions of the plurality of Si-based pattern portions into a plurality of silicide layers by a silicidation reaction between the plurality of Si-based pattern portions and the metal film by heat treatment; and removing the plurality of silicide layers formed above the insulating films by applying planarizing treatment to the plurality of silicide layers.

摘要翻译： 根据一个实施例的制造半导体器件的方法包括：在半导体衬底之上形成多个Si基图案部分，所述多个Si基图案部分在基本上平行于半导体衬底的表面的方向上相邻的方向 绝缘膜; 在所述多个Si基图案部分和所述绝缘膜之上形成金属膜以与所述多个Si基图案部分接触; 通过多个Si基图案部分和金属膜之间的硅化反应将多个Si基图案部分的整个区域或上部处理成多个硅化物层; 以及通过对所述多个硅化物层进行平坦化处理来去除在所述绝缘膜上形成的所述多个硅化物层。

公开(公告)号：US20100075501A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12537766

申请日：2009-08-07

申请人： Taichi ABE ,  Hirotaka Shida ,  Akihiro Takemura ,  Mitsuru Meno ,  Shinichi Hirasawa ,  Kenji Iwade ,  Takeshi Nishioka

发明人： Taichi ABE ,  Hirotaka Shida ,  Akihiro Takemura ,  Mitsuru Meno ,  Shinichi Hirasawa ,  Kenji Iwade ,  Takeshi Nishioka

IPC分类号： H01L21/304 ,  C09K13/00

CPC分类号： C09K13/06 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/7684

摘要： A chemical mechanical polishing aqueous dispersion is used to polish a polishing target that includes an interconnect layer that contains tungsten. The chemical mechanical polishing aqueous dispersion includes: (A) a cationic water-soluble polymer; (B) an iron (III) compound; and (C) colloidal silica particles. The content (MA) (mass %) of the cationic water-soluble polymer (A) and the content (MB) (mass %) of the iron (III) compound (B) satisfy the relationship “MA/MB=0.004 to 0.1”. The chemical mechanical polishing aqueous dispersion has a pH of 1 to 3.

摘要翻译： 使用化学机械抛光水性分散体来抛光包括含有钨的互连层的抛光对象。 化学机械抛光水分散体包括：（A）阳离子水溶性聚合物; （B）铁（III）化合物; 和（C）胶体二氧化硅颗粒。 阳离子水溶性聚合物（A）的含量（质量％）（质量％）和铁（III）化合物（B）的含量（MB）（质量％）满足关系式“MA / MB = 0.004〜0.1 “。 化学机械抛光水性分散体的pH为1〜3。

公开(公告)号：US20090239373A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：US12477332

申请日：2009-06-03

申请人： Hirotaka Shida ,  Yukiteru Matsui ,  Atsushi Shigeta ,  Shinichi Hirasawa ,  Hirokazu Kato ,  Masako Kinoshita ,  Takeshi Nishioka ,  Hiroyuki Yano

发明人： Hirotaka Shida ,  Yukiteru Matsui ,  Atsushi Shigeta ,  Shinichi Hirasawa ,  Hirokazu Kato ,  Masako Kinoshita ,  Takeshi Nishioka ,  Hiroyuki Yano

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/7681 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76835

摘要： A chemical mechanical polishing method comprises polishing an organic film using a slurry including polymer particles having a surface functional group and a water-soluble polymer.

摘要翻译： 化学机械抛光方法包括使用包含具有表面官能团的聚合物颗粒和水溶性聚合物的浆料来抛光有机膜。

公开(公告)号：US6022100A

公开(公告)日：2000-02-08

申请号：US558416

申请日：1995-11-16

申请人： Masanori Takenouchi ,  Shinichi Hirasawa ,  Kunihiko Maeoka ,  Hiroto Takahashi ,  Toshiharu Inui ,  Kazuhiro Nakajima ,  Hidemi Kubota

发明人： Masanori Takenouchi ,  Shinichi Hirasawa ,  Kunihiko Maeoka ,  Hiroto Takahashi ,  Toshiharu Inui ,  Kazuhiro Nakajima ,  Hidemi Kubota

IPC分类号： B41J2/14 ,  B41J2/05

CPC分类号： B41J2/1404 ,  B41J2002/14379 ,  B41J2002/14387 ,  B41J2202/11

摘要： A recording head includes a liquid ejecting outlet, a liquid passage communicating with the ejection outlet, and a heat generating resistor for supplying heat to the liquid in a heat acting portion in the liquid to create a bubble in the liquid passage to eject the liquid through the ejection outlet. A cross-sectional area of the liquid passage increases from the heat acting zone toward the ejection outlet, and this improves performance while also improving head durability.

摘要翻译： 记录头包括液体喷射出口，与喷射出口连通的液体通道和用于向液体中的热作用部分中的液体供应热量的发热电阻器，以在液体通道中产生气泡以将液体喷射通过 喷出口。 液体通道的横截面积从热作用区向喷射出口增加，这提高了性能，同时也提高了头部的耐久性。

公开(公告)号：US5311214A

公开(公告)日：1994-05-10

申请号：US783820

申请日：1991-10-29

申请人： Shinichi Hirasawa ,  Koichi Sato ,  Koji Terasawa ,  Akira Miyakawa ,  Tsutomu Abe ,  Yoshifumi Hattori

发明人： Shinichi Hirasawa ,  Koichi Sato ,  Koji Terasawa ,  Akira Miyakawa ,  Tsutomu Abe ,  Yoshifumi Hattori

IPC分类号： B41J2/165 ,  B41J2/19

CPC分类号： B41J2/16552 ,  B41J2/16523 ,  B41J2/19

摘要： A recovery process for an ink jet recording head of a recording apparatus and a device for performing the recovery process are disclosed. The ink jet recording apparatus includes a recording head with a plurality of discharge ports and a liquid chamber common to the discharge ports. The liquid chamber is supplied with ink through an ink supply path from an ink tank. The recovery device includes a device for introducing air into the liquid chamber of the recording head, a cap unit for covering the discharge ports of the recording head, and a pumping device for applying suction to the cap unit to suck the introduced air and ink through the discharge ports.

摘要翻译： 公开了一种用于记录装置的喷墨记录头的恢复处理和用于执行恢复处理的装置。 喷墨记录装置包括具有多个排出口的记录头和排出口共用的液体室。 液体室通过墨水供应路径从墨水盒供应墨水。 回收装置包括用于将空气引入记录头的液体室的装置，用于覆盖记录头的排出口的盖单元和用于向盖单元施加吸力以抽吸引入的空气和油墨的抽吸装置 排放口。

公开(公告)号：US4897674A

公开(公告)日：1990-01-30

申请号：US256119

申请日：1988-10-11

申请人： Shinichi Hirasawa

发明人： Shinichi Hirasawa

IPC分类号： B41J2/045 ,  B41J2/055 ,  B41J2/14 ,  B41J2/16

CPC分类号： B41J2/1632 ,  B41J2/1404 ,  B41J2/1604 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1631 ,  B41J2002/14403

摘要： A liquid jet recording head having orifices for discharging liquid droplets therefrom, a liquid chamber for retaining liquid therein, and liquid flow paths connecting the orifices to the liquid chamber. The cross-sectional area of the flow paths gradually decreases from the liquid chamber toward the orifices. Also provided are an energy generating portion in the liquid flow paths and generating energy to be impared to the liquid, and small walls provided upstream of the energy generating portion, whereby the flow of the liquid from the liquid chamber to the energy generating portion is suppressed.

摘要翻译： 一种液体喷射记录头，其具有用于从其中排出液滴的孔口，用于将液体保持在其中的液体室以及将孔口连接到液体室的液体流动路径。 流路的横截面积从液体室朝向孔逐渐减小。 还提供了液体流路中的能量产生部分，并且产生能够被液体流动的能量，以及设置在能量产生部分上游的小壁，从而液体从液体室流向能量产生部分的流动被抑制 。

公开(公告)号：US4870388A

公开(公告)日：1989-09-26

申请号：US22533

申请日：1987-03-04

申请人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

发明人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C16/26 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26

CPC分类号： H05B3/26 ,  C23C14/0057 ,  C23C16/26 ,  H05B3/145 ,  H05B2203/011 ,  H05B2203/013 ,  H05B2203/017

摘要： A heat-generating resistor having a functional thin film comprising an amorphous material containing halogen atoms in a matrix of carbon atoms formed on a substrate.

摘要翻译： 一种具有功能性薄膜的发热电阻体，该功能性薄膜包含在基板上形成的碳原子基质中含有卤素原子的无定形材料。

公开(公告)号：US4851808A

公开(公告)日：1989-07-25

申请号：US841269

申请日：1986-03-19

申请人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

发明人： Masao Sugata ,  Tatsuo Masaki, deceased ,  Hirokazu Komuro ,  Shinichi Hirasawa ,  Yasuhiro Yano

IPC分类号： C23C16/26 ,  H01C7/00 ,  H01L49/02 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26

CPC分类号： C23C16/26 ,  H01C7/006 ,  H01L49/02 ,  H05B3/141 ,  H05B3/146 ,  H05B3/26 ,  H05B2203/011 ,  H05B2203/013 ,  H05B2203/017

摘要： A heat-generating resistor, having a functional thin film comprising an amorphous material containing hydrogen atoms in a matrix of carbon atoms formed on a substrate.

摘要翻译： 一种发热电阻器，具有功能性薄膜，该功能性薄膜包含在基板上形成的碳原子基质中含有氢原子的无定形材料。