公开(公告)号：US07892722B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US11129488

申请日：2005-05-16

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70341

摘要： A pattern forming method includes (a) a step of forming a resist film on a substrate, (b) a pre-wet step of spreading a pre-wet solution on the resist film and after a fixed time, removing the pre-wet solution, and (c) a step of subjecting the resist film on the substrate to exposure through an immersion liquid.

摘要翻译： 图案形成方法包括（a）在基板上形成抗蚀剂膜的步骤，（b）将预湿溶液铺展在抗蚀剂膜上的预湿步骤，并且在固定时间之后，除去预湿溶液 ，和（c）使基板上的抗蚀剂膜经过浸没液体曝光的步骤。

公开(公告)号：US07368220B2

公开(公告)日：2008-05-06

申请号：US11636483

申请日：2006-12-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03C1/76 ,  G03C1/492 ,  G03C1/494

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition, which comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) contains at least one of: (C1) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having an alicyclic structure; and (C2) a resin containing a repeating unit having at least one of a fluorine atom and a silicon atom in a side chain and a repeating unit having an unsubstituted alkyl group in a side chain; and a pattern forming method.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）在酸性作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）含有以下中的至少一种：（C1）具有氟原子和硅原子中的至少一个并具有脂环结构的树脂; 和（C2）含有侧链中具有氟原子和硅原子中的至少一个的重复单元的树脂和在侧链具有未取代的烷基的重复单元; 和图案形成方法。

公开(公告)号：US20070148589A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11636483

申请日：2006-12-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition, which comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) contains at least one of: (C1) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having an alicyclic structure; and (C2) a resin containing a repeating unit having at least one of a fluorine atom and a silicon atom in a side chain and a repeating unit having an unsubstituted alkyl group in a side chain; and a pattern forming method.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）在酸性作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）含有以下中的至少一种：（C1）具有氟原子和硅原子中的至少一个并具有脂环结构的树脂; 和（C2）含有侧链中具有氟原子和硅原子中的至少一个的重复单元的树脂和在侧链具有未取代的烷基的重复单元; 和图案形成方法。

公开(公告)号：US20070134588A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US11636482

申请日：2006-12-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C69/653 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

摘要： A positive resist composition comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent; and a pattern forming method using the positive resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）在酸的作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂; 以及使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US20060008748A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US11175161

申请日：2005-07-07

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A protective film-forming composition for immersion exposure having a dissolution rate in an alkali developer of from 20 to 300 mm/sec in the time when the protective film-forming composition is made a dry film.

摘要翻译： 在保护膜形成用组合物为干膜时，浸渍曝光用保护膜形成用组合物，其在碱性显影剂中的溶解速度为20〜300mm /秒。

公开(公告)号：US08697329B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US12046204

申请日：2008-03-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition, which comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) contains at least one of: (C1) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having an alicyclic structure; and (C2) a resin containing a repeating unit having at least one of a fluorine atom and a silicon atom in a side chain and a repeating unit having an unsubstituted alkyl group in a side chain; and a pattern forming method.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）在酸性作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）含有以下中的至少一种：（C1）具有氟原子和硅原子中的至少一个并具有脂环结构的树脂; 和（C2）含有侧链中具有氟原子和硅原子中的至少一个的重复单元的树脂和在侧链具有未取代的烷基的重复单元; 和图案形成方法。

公开(公告)号：US20080305433A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12193302

申请日：2008-08-18

申请人： Hiromi KANDA ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

发明人： Hiromi KANDA ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

IPC分类号： G03C1/053

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin which comes to have an enhanced solubility in an alkaline developing solution by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; (C) a fluorine-containing compound containing at least one group selected from the groups (x) to (z); and (F) a solvent, and a method of pattern formation with the composition: (x) an alkali-soluble group; (y) a group which decomposes by an action of an alkaline developing solution to enhance a solubility in an alkaline developing solution; and (z) a group which decomposes by an action of an acid.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用在碱性显影液中具有增强的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; （C）含有选自（x）〜（z）中的至少一种基团的含氟化合物; 和（F）溶剂，以及组合物的图案形成方法：（x）碱溶性基团; （y）通过碱性显影液的作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的基团; 和（z）通过酸的作用分解的基团。

公开(公告)号：US20080171287A1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：US12046204

申请日：2008-03-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition, which comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) contains at least one of: (C1) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having an alicyclic structure; and (C2) a resin containing a repeating unit having at least one of a fluorine atom and a silicon atom in a side chain and a repeating unit having an unsubstituted alkyl group in a side chain; and a pattern forming method.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）在酸性作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）含有以下中的至少一种：（C1）具有氟原子和硅原子中的至少一个并具有脂环结构的树脂; 和（C2）含有侧链中具有氟原子和硅原子中的至少一个的重复单元的树脂和在侧链具有未取代的烷基的重复单元; 和图案形成方法。

公开(公告)号：US20070172769A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US11656527

申请日：2007-01-23

申请人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

发明人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A pattern forming method which uses a positive resist composition comprises: (A) a fluorine-free resin capable of increasing its solubility in an alkaline developer under action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (C) a fluorine-containing resin having at least one group selected from the group consisting of (X) an alkali-soluble group, (XI) a group capable of decomposing under action of an alkali developer and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer and (XII) a group capable of decomposing under action of an acid and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer; and (D) a solvent, the method comprising: (i) a step of applying the positive resist composition to a substrate to form a resist coating; (ii) a step of exposing the resist coating to light via an immersion liquid; (iii) a step of removing the immersion liquid remaining on the resist coating; (iv) a step of heating the resist coating; and (v) a step of developing the resist coating.

摘要翻译： 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法包括：（A）能够在酸的作用下增加其在碱性显影剂中的溶解度的无氟树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; （C）具有选自（X）碱溶性基团（XI）中的至少一种基团的含氟树脂，（XI）能够在碱性显影剂的作用下分解的基团和增加树脂的溶解度（C ）和（XII）能够在酸的作用下分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团; 和（D）溶剂，所述方法包括：（i）将正性抗蚀剂组合物施加到基材以形成抗蚀剂涂层的步骤; （ii）通过浸没液体使抗蚀剂涂层曝光的步骤; （iii）去除残留在抗蚀剂涂层上的浸渍液体的步骤; （iv）加热抗蚀剂涂层的步骤; 和（v）开发抗蚀剂涂层的步骤。

公开(公告)号：US09057952B2

公开(公告)日：2015-06-16

申请号：US13345978

申请日：2012-01-09

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin which comes to have an enhanced solubility in an alkaline developing solution by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; (C) a fluorine-containing compound containing at least one group selected from the groups (x) to (z); and (F) a solvent, and a method of pattern formation with the composition: (x) an alkali-soluble group; (y) a group which decomposes by an action of an alkaline developing solution to enhance a solubility in an alkaline developing solution; and (z) a group which decomposes by an action of an acid.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用在碱性显影液中具有增强的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; （C）含有选自（x）〜（z）中的至少一种基团的含氟化合物; 和（F）溶剂，以及组合物的图案形成方法：（x）碱溶性基团; （y）通过碱性显影液的作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的基团; 和（z）通过酸的作用分解的基团。