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    Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using
    21.
    发明授权
    Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using 失效
    深紫外线光刻胶组合物及其使用过程

    公开(公告)号：US4622283A

    公开(公告)日：1986-11-11

    申请号：US775222

    申请日：1985-09-12

    申请人： Gary M. Gray

    发明人： Gary M. Gray

    IPC分类号： G03F7/016 ,  G03C1/54 ,  G03C1/60 ,  G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/0163

    摘要： Positive deep ultra-violet photoresists which are base developable comprise base soluble polymers and as photosensitive solubilizing agents compounds of the formula ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 can each individually be alkyl, aryl, alkoxy alkyl, aralkyl or haloalkyl radicals or R.sup.1 and R.sup.2 taken together can be an alkylene radical.

    摘要翻译： 可显影的阳极深紫外光致抗蚀剂包括碱溶性聚合物和作为光敏增溶剂的化合物，其中R 1和R 2可以各自独立地为烷基，芳基，烷氧基烷基，芳烷基或卤代烷基，或者取R1或R2 一起可以是亚烷基。

    Photosensitive composition with o-quinonediazide compound and condensate of dihydric phenol and aldehyde or ketone
    25.
    发明授权
    Photosensitive composition with o-quinonediazide compound and condensate of dihydric phenol and aldehyde or ketone 失效
    具有邻醌二叠氮化合物和二元酚和醛或酮缩合物的光敏组合物

    公开(公告)号：US4536464A

    公开(公告)日：1985-08-20

    申请号：US550420

    申请日：1983-11-10

    申请人： Akira Nagashima ,  Akira Hasegawa ,  Toshiaki Aoai ,  Teruo Nagano

    发明人： Akira Nagashima ,  Akira Hasegawa ,  Toshiaki Aoai ,  Teruo Nagano

    IPC分类号： C08G8/20 ,  C08K5/28 ,  G03C1/72 ,  G03F7/008 ,  G03F7/023 ,  G03C1/60 ,  G03C1/54 ,  G03F7/08

    CPC分类号： G03F7/0236 ,  C08G8/20 ,  C08K5/28 ,  G03C1/72

    摘要： The photosensitive composition suitable as a posi-posi photosensitive composition for photosensitive lithographic printing plates is composed of a high molecular compound shown by following general formula I or II and an o-naphthoquinonediazide compound; ##STR1## wherein R.sub.1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and R.sub.2 and R.sub.3 each is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.When the photosensitive composition is used as a photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate and the plate is developed by rubbing with a sponge containing a developer, the photosensitive composition at the exposed areas is completely removed leaving no patches of the composition.

    摘要翻译： 适合作为光敏平版印刷版的磷光敏组合物的光敏组合物由以下通式I或II所示的高分子化合物和邻萘醌二叠氮化合物组成; 其中R 1是氢原子，具有1至8个碳原子的烷基，R 2和R 3各自是氢原子或具有1至4个碳原子的烷基。 当感光性组合物用作感光性平版印刷版的感光层时，通过用含有显影剂的海绵进行摩擦而使印版显影，曝光区域的感光性组合物被完全除去，不存在组合物的斑块。

    Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers
    27.
    发明授权
    Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers 失效
    单次曝光阳性接触多层可光致膨胀的光刻元件与两个醌二叠层

    公开(公告)号：US4504566A

    公开(公告)日：1985-03-12

    申请号：US623130

    申请日：1984-06-22

    申请人： Thomas E. Dueber

    发明人： Thomas E. Dueber

    IPC分类号： G03F1/56 ,  G03F7/023 ,  G03C1/495 ,  G03C1/54 ,  G03C1/60

    CPC分类号： G03F1/56 ,  G03F7/023

    摘要： Multilayer photosolubilizable litho element comprising (1) support, (2) photosolubilizable dye or pigment-containing layer having an optical density in the visible region of the spectrum of at least 2.0 comprising a quinone diazide and at least one acidic polymeric binder, and (3) photosolubilizable layer comprising a quinone diazide compound and at least two acidic polymeric binders having carboxylic acid substituents, one binder having an acid number below 110, preferably poly(methylmethacrylate/methacrylic acid). The element is useful as a single exposure positive contact litho film.

    摘要翻译： 多层可光升白的光刻元件包括（1）在（2）包含醌二叠氮化物和至少一种酸性聚合物粘合剂的光谱的至少2.0的可见光区域中支持（2）可光升白的染料或含颜料的层， ）可光致膨胀层，其包含醌二叠氮化合物和至少两个具有羧酸取代基的酸性聚合物粘合剂，一个酸值低于110的粘合剂，优选聚（甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸）。 该元件可用作单次曝光正接触光刻膜。

    Light-sensitive mixture comprising a naphthoquinonediazidesulfonic acid ester and process for preparing said ester
    28.
    发明授权
    Light-sensitive mixture comprising a naphthoquinonediazidesulfonic acid ester and process for preparing said ester 失效
    包含萘醌二叠氮磺酸酯的光敏混合物和制备所述酯的方法

    公开(公告)号：US4424270A

    公开(公告)日：1984-01-03

    申请号：US333338

    申请日：1981-12-22

    申请人： Fritz Erdmann ,  Ulrich Simon

    发明人： Fritz Erdmann ,  Ulrich Simon

    IPC分类号： G03C1/72 ,  C08G8/00 ,  C08G8/28 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03C1/54 ,  G03F7/08

    CPC分类号： G03F7/023

    摘要： A light-sensitive mixture comprising a water-insoluble binder soluble in aqueous alkaline solutions, and the reaction product of a naphthoquinonediazidesulfonyl halide with a mixture composed of a low molecular weight compound having a definite structure and molecular size containing at least one phenolic hydroxyl group, and of a polymeric compound having recurring units, each of which contains at least one phenolic hydroxyl group. The mixture is useful in producing printing plates and photoresists and has the advantage that the naphthoquinonediazidesulfonic acid ester contained therein is non-explosive.

    摘要翻译： 一种感光性混合物，其包含可溶于碱性水溶液的水不溶性粘合剂，以及萘醌二叠氮基磺酰卤与由具有确定结构和分子尺寸至少含有一个酚羟基的低分子量化合物组成的混合物的反应产物， 以及具有重复单元的高分子化合物，其各自含有至少一个酚羟基。 该混合物可用于制备印刷版和光致抗蚀剂，并且其中所含的萘醌二叠氮磺酸酯是非爆炸性的。

    Diazonium salts and a diazo-type material comprising these diazonium salts
    29.
    发明授权
    Diazonium salts and a diazo-type material comprising these diazonium salts 失效
    重氮盐和包含这些重氮盐的重氮型材料

    公开(公告)号：US4400458A

    公开(公告)日：1983-08-23

    申请号：US302286

    申请日：1981-09-14

    申请人： Fred Walkow ,  Peter Czerney ,  Horst Hartmann ,  Jorg Marx

    发明人： Fred Walkow ,  Peter Czerney ,  Horst Hartmann ,  Jorg Marx

    IPC分类号： C07D311/16 ,  G03C1/54 ,  C07C113/04

    CPC分类号： C07D311/16 ,  G03C1/54

    摘要： It is the purpose and object of the present invention to make better use of the emission range of light sources and to create the diazonium salts necessary for such purpose. The diazonium salts of the present invention of the general formula ##STR1## wherein Y is ##STR2## R.sub.1, R.sub.2 are equal or different and are, alkyl having 1 to 10 carbon atoms, aryl having 6 to 10 carbon atoms in a mono or polycylic ring;R.sub.3 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, cyano;R.sub.4 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy; andX.sup.e is an anion,can be employed with all known couplers and additives in diazotype materials. They have an absorption range of 480 to 550 nm.

    摘要翻译： 本发明的目的和目的是更好地利用光源的发射范围并产生为此目的所必需的重氮盐。 其中Y是R 1，R 2的本发明的重氮盐相同或不同，并且是具有1至10个碳原子的烷基，在单或多环中具有6至10个碳原子的芳基 环; R3是氢，卤素，烷基，烷氧基，氰基; R4是氢，卤素，烷基，烷氧基; 并且Xe是阴离子，可以与所有已知的成色剂和添加剂一起用于重氮类材料。 它们的吸收范围为480至550nm。

    Process for forming an image
    30.
    发明授权
    Process for forming an image 失效
    形成图像的过程

    公开(公告)号：US4396700A

    公开(公告)日：1983-08-02

    申请号：US331742

    申请日：1981-12-17

    申请人： Masao Kitajima ,  Hiromichi Tachikawa ,  Fumiaki Shinozaki ,  Tomoaki Ikeda

    发明人： Masao Kitajima ,  Hiromichi Tachikawa ,  Fumiaki Shinozaki ,  Tomoaki Ikeda

    IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/34 ,  G03C1/54 ,  G03C1/71 ,  G03C5/18 ,  G03C11/12

    CPC分类号： G03F7/346

    摘要： A process for forming an image is disclosed wherein a photosensitive image-forming material comprising a diazonium compound or an azide compound is exposed and developed by a peeling development method wherein a development carrier sheet having thereon a layer of an adhesive composition is adhered to the image-forming material, before or after exposure, and, after exposure, peeled from the image-forming material whereby the exposed areas of the photosensitive layer are adhered to the carrier sheet thereby forming a relief image, and the unexposed areas remaining adhered to the support also forming a relief image.

    摘要翻译： 公开了一种用于形成图像的方法，其中包含重氮化合物或叠氮化合物的感光成像材料通过剥离显影方法曝光和显影，其中其上具有粘合剂组合物层的显影载体片材粘附到图像上 在曝光之前或之后，曝光后，从图像形成材料剥离，由此感光层的曝光区域粘附到载体片上，从而形成浮雕图像，并且未曝光区域保持粘附到支撑体 也形成浮雕形象。