公开(公告)号：US20080204690A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：US11979839

申请日：2007-11-08

申请人： Gabriel Berger ,  Tamer Coskun ,  Sangbong Park ,  Jang Fung Chen

发明人： Gabriel Berger ,  Tamer Coskun ,  Sangbong Park ,  Jang Fung Chen

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70216 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70675

摘要： A method of generating a model for simulating the imaging performance of an optical imaging system having a pupil. The method includes the steps of defining the optical imaging system and a process to be utilized by the optical imaging system; and defining a model equation representing the imaging performance of the optical imaging system and the process, where the model equation including a calibrated pupil kernel. The calibrated pupil kernel representing a linear model of the pupil performance.

摘要翻译： 一种生成用于模拟具有瞳孔的光学成像系统的成像性能的模型的方法。 该方法包括以下步骤：定义光学成像系统和由光学成像系统利用的过程; 并且定义表示光学成像系统和过程的成像性能的模型方程，其中模型方程式包括校准的瞳孔核心。 校准瞳孔代表瞳孔表现的线性模型。

公开(公告)号：US07242459B2

公开(公告)日：2007-07-10

申请号：US11044711

申请日：2005-01-28

申请人： Xuelong Shi ,  Jang Fung Chen

发明人： Xuelong Shi ,  Jang Fung Chen

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F1/36 ,  G03F1/68 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70525

摘要： A method for generating models for simulating the imaging performance of a plurality of exposure tools. The method includes the steps of: generating a calibrated model for a first exposure tool capable of estimating an image to be produced by the first exposure tool for a given photolithography process, where the calibrated model includes a first set of basis functions; generating a model of a second exposure tool capable of estimating an image to be produced by the second exposure tool for the photolithography process, where the model includes a second set of basis functions; and representing the second set of basis functions as a linear combination of the first set of basis functions so as to generate an equivalent model function corresponding to the second exposure tool, where the equivalent model function produces a simulated image corresponding to the image generated by the second exposure tool for the photolithography process.

摘要翻译： 一种用于产生用于模拟多个曝光工具的成像性能的模型的方法。 该方法包括以下步骤：产生用于第一曝光工具的校准模型，该第一曝光工具能够对于给定的光刻工艺估计由第一曝光工具产生的图像，其中校准模型包括第一组基础函数; 生成第二曝光工具的模型，其能够估计由用于光刻工艺的第二曝光工具产生的图像，其中模型包括第二组基础功能; 并且将所述第二组基函数表示为所述第一组基函数的线性组合，以便生成与所述第二曝光工具相对应的等效模型函数，其中所述等效模型函数产生与由所述第二曝光工具生成的图像相对应的模拟图像 用于光刻工艺的第二曝光工具。

公开(公告)号：US07211815B2

公开(公告)日：2007-05-01

申请号：US10659715

申请日：2003-09-11

申请人： Doug Van Den Broeke ,  Chungwei Hsu ,  Jang Fung Chen

发明人： Doug Van Den Broeke ,  Chungwei Hsu ,  Jang Fung Chen

IPC分类号： G01N21/86 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/34

摘要： A method of generating masks for printing a pattern including a plurality of features having varying critical dimensions. The method includes the steps of: (1) obtaining data representing the pattern; (2) defining a plurality of distinct zones based on the critical dimensions of the plurality of features; (3) categorizing each of the features into one of the plurality of distinct zones; and (4) modifying the mask pattern for each feature categorized into a predefined distinct zone of the plurality of distinct zones.

摘要翻译： 一种生成用于打印包括具有不同临界尺寸的多个特征的图案的掩模的方法。 该方法包括以下步骤：（1）获取表示图案的数据; （2）基于所述多个特征的临界尺寸来定义多个不同区域; （3）将每个特征分类为多个不同区域中的一个; 以及（4）对于分类为所述多个不同区域中的预定义的不同区域的每个特征修改所述掩模图案。

公开(公告)号：US07116411B2

公开(公告)日：2006-10-03

申请号：US10926400

申请日：2004-08-26

申请人： Sangbong Park ,  Jang Fung Chen ,  Armin Liebchen

发明人： Sangbong Park ,  Jang Fung Chen ,  Armin Liebchen

IPC分类号： G01B9/00 ,  G03B27/32 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70458 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525

摘要： A method of optimizing a process for use with a plurality of lithography systems. The method includes the steps of: (a) determining a calibrated resist model for a given process and a target pattern utilizing a first lithography system; (b) selecting a second lithography system to be utilized to image the target pattern utilizing the given process, the second lithography system capable of being configured with one of a plurality of diffractive optical elements, each of the plurality of diffractive optical elements having corresponding variable parameters for optimizing performance of the given diffractive optical element; (c) selecting one of the plurality of diffractive optical elements and simulating the imaging performance of the second lithography system utilizing the selected one of the plurality of diffractive optical elements, the calibrated resist model and the target pattern; and (d) optimizing the imaging performance of the selected one of the plurality of diffractive optical elements by executing a genetic algorithm which identifies the values of the parameters of the selected one of the plurality of diffractive optical elements that optimizes the imaging of the target pattern.

摘要翻译： 一种优化用于多个光刻系统的工艺的方法。 该方法包括以下步骤：（a）使用第一光刻系统确定用于给定过程的校准抗蚀剂模型和目标图案; （b）选择待利用的第二光刻系统，以利用所述给定的处理对所述目标图案进行成像，所述第二光刻系统能够被配置为具有多个衍射光学元件中的一个衍射光学元件，所述多个衍射光学元件中的每一个具有对应的变量 用于优化给定衍射光学元件的性能的参数; （c）选择多个衍射光学元件中的一个并利用所选择的多个衍射光学元件中的所选择的一个衍射光学元件，校准的抗蚀剂模型和目标图案来模拟第二光刻系统的成像性能; 以及（d）通过执行遗传算法来优化所述多个衍射光学元件中所选择的一个衍射光学元件的成像性能，所述遗传算法识别所述多​​个衍射光学元件中所选择的一个的参数的值，其优化所述目标图案的成像 。

公开(公告)号：US09158190B2

公开(公告)日：2015-10-13

申请号：US13587773

申请日：2012-08-16

申请人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

发明人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/62 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70508

摘要： System and method for applying mask data patterns to substrate in a lithography manufacturing process are disclosed. In one embodiment, a parallel imaging writer system includes a plurality of spatial light modulator (SLM) imaging units, where each of the plurality of SLM imaging units includes one or more illumination sources, one or more alignment sources, one or more projection lenses, and a plurality of micro mirrors configured to project light from the one or more illumination sources to the corresponding one or more projection lens. The parallel imaging writer system further includes a controller configured to control the plurality of SLM imaging units, where the controller tunes each of the SLM imaging unit individually in writing a mask data to a substrate.

摘要翻译： 公开了在光刻制造工艺中将掩模数据图案应用于衬底的系统和方法。 在一个实施例中，并行成像写入器系统包括多个空间光调制器（SLM）成像单元，其中多个SLM成像单元中的每一个包括一个或多个照明源，一个或多个对准源，一个或多个投影透镜， 以及多个微反射镜，其配置成将来自所述一个或多个照明源的光投射到相应的一个或多个投影透镜。 并行成像写入器系统还包括被配置为控制多个SLM成像单元的控制器，其中控制器将掩模数据写入衬底中来分别调整每个SLM成像单元。

公开(公告)号：US20120264066A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US12475114

申请日：2009-05-29

申请人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

发明人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F7/70383 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70791

摘要： System and method for applying mask data patterns to substrate in a lithography manufacturing process are disclosed. In one embodiment, the method includes providing a parallel imaging writer system which has a plurality of spatial light modulator (SLM) imaging units arranged in one or more parallel arrays; receiving a mask data pattern to be written to a substrate, processing the mask data pattern to form a plurality of partitioned mask data patterns corresponding to different areas of the substrate, assigning one or more SLM imaging units to handle each of the partitioned mask data pattern, controlling the plurality of SLM imaging units to write the plurality of partitioned mask data patterns to the substrate in parallel, controlling movement of the plurality of SLM imaging units to cover the different areas of the substrate, and controlling movement of the substrate to be in synchronization with continuous writing of the plurality of partitioned mask data patterns.

摘要翻译： 公开了在光刻制造工艺中将掩模数据图案应用于衬底的系统和方法。 在一个实施例中，该方法包括提供并行成像写入器系统，其具有布置在一个或多个并行阵列中的多个空间光调制器（SLM）成像单元; 接收要写入衬底的掩模数据图案，处理掩模数据图案以形成对应于衬底的不同区域的多个分割掩模数据模式，分配一个或多个SLM成像单元以处理每个分区掩模数据模式 控制所述多个SLM成像单元并行地将多个分割的掩模数据图案写入到所述基板，控制所述多个SLM成像单元的移动以覆盖所述基板的不同区域，并且控制所述基板的移动 与多个分割的掩模数据模式的连续写入同步。

公开(公告)号：US08253923B1

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：US12337504

申请日：2008-12-17

申请人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

发明人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70508

摘要： System and method for applying mask data patterns to substrate in a lithography manufacturing process are disclosed. In one embodiment, the imaging system includes a plurality of spatial light modulator (SLM) imaging units, where each of the plurality of SLM imaging units includes one or more illumination sources, one or more alignment sources, one or more projection lenses, and a plurality of micro minors configured to project light from the one or more illumination sources to the corresponding one or more projection lens. The imaging system further includes a controller configured to control the plurality of SLM imaging units, where the controller tunes each of the SLM imaging unit individually in writing a mask data to a substrate in a lithography manufacturing process.

摘要翻译： 公开了在光刻制造工艺中将掩模数据图案应用于衬底的系统和方法。 在一个实施例中，成像系统包括多个空间光调制器（SLM）成像单元，其中多个SLM成像单元中的每一个包括一个或多个照明源，一个或多个对准源，一个或多个投影透镜，以及 多个微型未成体被配置成将来自一个或多个照明源的光投射到相应的一个或多个投影透镜。 成像系统还包括被配置为控制多个SLM成像单元的控制器，其中控制器在光刻制造过程中单独地将每个SLM成像单元以掩模数据写入基板。

公开(公告)号：US08111921B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US11898646

申请日：2007-09-13

申请人： Duan-Fu Stephen Hsu ,  Jung Chul Park ,  Douglas Van Den Broeke ,  Jang Fung Chen

发明人： Duan-Fu Stephen Hsu ,  Jung Chul Park ,  Douglas Van Den Broeke ,  Jang Fung Chen

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06F17/50 ,  H04N7/16

CPC分类号： G06T7/0004 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70475

摘要： A method for decomposing a target circuit pattern containing features to be imaged into multiple patterns. The process includes the steps of separating the features to be printed into a first pattern and a second pattern; performing a first optical proximity correction process on the first pattern and the second pattern; determining an imaging performance of the first pattern and the second pattern; determining a first error between the first pattern and the imaging performance of the first pattern, and a second error between the second pattern and the imaging performance of said second pattern; utilizing the first error to adjust the first pattern to generate a modified first pattern; utilizing the second error to adjust the second pattern to generate a modified second pattern; and applying a second optical proximity correction process to the modified first pattern and the modified second pattern.

摘要翻译： 一种用于将包含要成像的特征的目标电路图案分解为多个图案的方法。 该方法包括将待印刷的特征分离成第一图案和第二图案的步骤; 对所述第一图案和所述第二图案执行第一光学邻近校正处理; 确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能; 确定所述第一图案和所述第一图案的成像性能之间的第一误差，以及所述第二图案和所述第二图案的成像性能之间的第二误差; 利用第一误差来调整第一图案以产生修改的第一图案; 利用第二误差来调整第二图案以产生修改的第二图案; 以及对修改的第一图案和修改的第二图案应用第二光学邻近校正处理。

公开(公告)号：US20120026478A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：US13225404

申请日：2011-09-02

申请人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

发明人： Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70475 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70508

摘要： System and method for manufacturing three-dimensional integrated circuits are disclosed. In one embodiment, the method includes providing an imaging writer system that includes a plurality of spatial light modulator (SLM) imaging units arranged in one or more parallel arrays, receiving mask data to be written to one or more layers of the three-dimensional integrated circuit, processing the mask data to form a plurality of partitioned mask data patterns corresponding to the one or more layers of the three-dimensional integrated circuit, assigning one or more SLM imaging units to handle each of the partitioned mask data pattern, and controlling the plurality of SLM imaging units to write the plurality of partitioned mask data patterns to the one or more layers of the three-dimensional integrated circuits in parallel. The method of assigning performs at least one of scaling, alignment, inter-ocular displacement, rotational factor, or substrate deformation correction.

摘要翻译： 公开了用于制造三维集成电路的系统和方法。 在一个实施例中，该方法包括提供一种成像写入器系统，该系统包括布置在一个或多个并行阵列中的多个空间光调制器（SLM）成像单元，接收要写入三维集成的一个或多个层的掩模数据 处理掩模数据以形成与三维集成电路的一层或多层相对应的多个划分的掩模数据模式，分配一个或多个SLM成像单元以处理每个分割的掩模数据模式，并且控制 多个SLM成像单元将多个划分的掩模数据图案并行地写入三维集成电路的一个或多个层。 分配方法执行缩放，对准，眼内位移，旋转因子或基底变形校正中的至少一个。

公开(公告)号：US08040573B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US11889587

申请日：2007-08-14

申请人： Xuelong Shi ,  Jang Fung Chen ,  Douglas Van Den Broeke

发明人： Xuelong Shi ,  Jang Fung Chen ,  Douglas Van Den Broeke

IPC分类号： G10K7/06 ,  H04N1/00

CPC分类号： G03F7/705

摘要： A method of determining calibration test patterns to be utilized to calibrate a model for simulating the imaging performance of an optical imaging system. The method includes the steps of defining design rules associated with a given imaging process; defining a model equation representing the imaging performance of the optical imaging system; determining a boundary of an imaging signal space based on the design rules; selecting calibration patterns based on the boundary of the imaging signal space such that the calibration patterns are on the boundary or within the boundary of the imaging signal space; and storing the selected calibration test patterns, where the calibration test patterns are utilized to calibrate the model for simulating the imaging performance of the optical imaging system.

摘要翻译： 确定用于校准用于模拟光学成像系统的成像性能的模型的校准测试图案的方法。 该方法包括定义与给定成像过程相关联的设计规则的步骤; 定义表示光学成像系统的成像性能的模型方程; 基于设计规则确定成像信号空间的边界; 基于成像信号空间的边界选择校准图案，使得校准图案位于成像信号空间的边界或边界内; 并存储所选择的校准测试图案，其中使用校准测试图案来校准用于模拟光学成像系统的成像性能的模型。