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    Illumination systems incorporating a light guide and a reflective structure and related methods
    61.
    发明授权
    Illumination systems incorporating a light guide and a reflective structure and related methods 有权
    结合光导和反射结构的照明系统及相关方法

    公开(公告)号：US08872764B2

    公开(公告)日：2014-10-28

    申请号：US13538642

    申请日：2012-06-29

    申请人： Jyotindra Raj Shakya ,  Russel Allyn Martin ,  Ion Bita ,  Donald John Elloway ,  Rashmi Raghavendra Rao

    发明人： Jyotindra Raj Shakya ,  Russel Allyn Martin ,  Ion Bita ,  Donald John Elloway ,  Rashmi Raghavendra Rao

    IPC分类号： G09G5/00

    CPC分类号： G06F3/0412 ,  G02B26/001

    摘要： This disclosure provides systems and methods for illumination systems with one or more reflective structures over a light guide. In one aspect, each reflective structure can have an absorber structure with a width greater than a width of the reflective structure. The absorber structure can have overhanging portions that are in parallel with and laterally protrude past one or more edges of the reflective structure, or the absorber structure can have enclosing portions that substantially enclose the reflective structure. The reflective structures can include light-turning features, such as facets, and/or conductive wires, such as touch sensor wires.

    摘要翻译： 本公开提供了在光导上具有一个或多个反射结构的照明系统的系统和方法。 在一个方面，每个反射结构可以具有宽度大于反射结构的宽度的吸收体结构。 吸收体结构可以具有与反射结构的一个或多个边缘平行并横向突出的突出部分，或者吸收体结构可以具有基本上包围反射结构的封闭部分。 反射结构可以包括光转动特征，例如小面和/或导电线，例如触摸传感器线。

    Analog IMOD having a color notch filter
    63.
    发明授权
    Analog IMOD having a color notch filter 有权
    具有色陷波滤波器的模拟IMOD

    公开(公告)号：US08760751B2

    公开(公告)日：2014-06-24

    申请号：US13358769

    申请日：2012-01-26

    申请人： Jian J. Ma ,  Tallis Y. Chang ,  John H. Hong ,  Ion Bita

    发明人： Jian J. Ma ,  Tallis Y. Chang ,  John H. Hong ,  Ion Bita

    IPC分类号： G02B26/00 ,  G02B26/08

    CPC分类号： G02B26/0833 ,  G02B26/001 ,  H05K3/10 ,  Y10T29/49155

    摘要： This disclosure provides systems, methods and apparatus related to an electromechanical display device. In one aspect, an analog interferometric modulator (AIMOD) includes a reflective display pixel having a movable reflective layer and a stationary absorber layer, the reflective layer and absorber layer defining a cavity therebetween. A color notch filter may be employed to produce an improved white state. In some implementations, the color notch filter is positioned on a side of the substrate opposite the absorber layer. In some other implementations, the color notch filter is positioned between the substrate and the movable reflective layer.

    摘要翻译： 本公开提供了与机电显示装置相关的系统，方法和装置。 一方面，模拟干涉式调制器（AIMOD）包括具有可移动反射层和固定吸收层的反射显示像素，所述反射层和吸收层在其间限定空腔。 可以使用彩色陷波滤波器来产生改善的白色状态。 在一些实施方案中，色陷波滤波器位于与吸收层相对的基板的一侧。 在一些其他实现中，色陷波滤波器位于基板和可移动反射层之间。

    FRONTLIGHT DEVICE WITH INTEGRATED ELECTRICAL WIRING
    65.
    发明申请
    FRONTLIGHT DEVICE WITH INTEGRATED ELECTRICAL WIRING 审中-公开
    具有集成电气接线的合适的设备

    公开(公告)号：US20130321433A1

    公开(公告)日：2013-12-05

    申请号：US13605731

    申请日：2012-09-06

    申请人： Ion Bita ,  Russel A. Martin ,  Marek Mienko ,  Jyotindra R. Shakya

    发明人： Ion Bita ,  Russel A. Martin ,  Marek Mienko ,  Jyotindra R. Shakya

    IPC分类号： G06T1/00 ,  G02B6/00 ,  G02B26/00 ,  H01J9/20

    CPC分类号： G06F3/044 ,  G06F2203/04111

    摘要： This disclosure provides systems, methods, and apparatus related to a the design of arrays of electrodes in a device which includes a light-guiding layer in optical contact with the electrodes. In one aspect, a device includes an array of electrodes, the electrodes include at least one edge having a non-linear shape. Specific design constraints may be placed on the shape of the non-linear edge of the electrodes.

    摘要翻译： 本公开提供了与设备中的电极阵列的设计相关的系统，方法和装置，其包括与电极光学接触的导光层。 在一个方面，一种器件包括电极阵列，电极包括至少一个具有非线性形状的边缘。 具体的设计约束可以放置在电极的非线性边缘的形状上。

    LIGHT GUIDE WITH AT LEAST PARTIALLY NON-TRANSMISSIVE COATING ON LEDGE REGION
    66.
    发明申请
    LIGHT GUIDE WITH AT LEAST PARTIALLY NON-TRANSMISSIVE COATING ON LEDGE REGION 有权
    在LED区域具有至少部分非透射涂层的光导体

    公开(公告)号：US20130176317A1

    公开(公告)日：2013-07-11

    申请号：US13344771

    申请日：2012-01-06

    申请人： Kebin Li ,  Ion Bita

    发明人： Kebin Li ,  Ion Bita

    IPC分类号： G06T1/00 ,  H01J9/00 ,  F21V7/04

    CPC分类号： G02B6/0035 ,  G02B6/0038 ,  G02B6/0055 ,  G02B6/0058

    摘要： This disclosure provides systems, methods and apparatus related to an illumination system for a display device. In one aspect, the illumination system includes a light guide having a view region, which directly overlies display elements of a display, and a ledge region between the view region and a light source that injects light into the light guide. The ledge region is coated with an at least partially non-transmissive layer. The layer can be at least partially absorptive and/or at least partially reflective. In some implementations, the layer can include microstructures configured to turn steep-angle light such that it is redirected across the light guide at a shallower angle. In some implementations, the boundary between the ledge region and the view region of the light guide can have a nonlinear shape.

    摘要翻译： 本公开提供了与显示装置的照明系统相关的系统，方法和装置。 在一个方面，照明系统包括具有直视在显示器的显示元件上的视野区域的光导和在观察区域和将光注入到光导中的光源之间的凸缘区域。 凸缘区域涂覆有至少部分不透射的层。 该层可以是至少部分吸收的和/或至少部分反射的。 在一些实施方案中，该层可以包括构造成转动陡峭角度的光的微结构，使得其以更浅的角度被重定向穿过光导。 在一些实施方案中，凸缘区域和导光体的视野区域之间的边界可以具有非线性形状。

    STRUCTURES FOR DIRECTING INCIDENT LIGHT ONTO THE ACTIVE AREAS OF DISPLAY ELEMENTS
    67.
    发明申请
    STRUCTURES FOR DIRECTING INCIDENT LIGHT ONTO THE ACTIVE AREAS OF DISPLAY ELEMENTS 审中-公开
    将有害光引导到显示元件的主动区域的结构

    公开(公告)号：US20130127922A1

    公开(公告)日：2013-05-23

    申请号：US13300522

    申请日：2011-11-18

    申请人： Evgeni Poliakov ,  Ion Bita ,  Kollengode S. Narayanan

    发明人： Evgeni Poliakov ,  Ion Bita ,  Kollengode S. Narayanan

    IPC分类号： G02B26/00 ,  B05D5/06 ,  G09G5/10

    CPC分类号： G02B5/0215 ,  G02B3/0006 ,  G02B5/0236 ,  G02B5/0278 ,  G02B26/001

    摘要： This disclosure provides systems, methods and apparatus for improving brightness, contrast, and viewable angle of a reflective display. In one aspect, a display includes a structure having a steering layer including steering features. The steering features are configured to direct light away from inactive regions of a display and towards active regions of the display. The structure may also include a diffuser for scattering light incident on the display and reflected by the display.

    摘要翻译： 本公开提供了用于改善反射显示器的亮度，对比度和可视角度的系统，方法和装置。 一方面，显示器包括具有包括转向特征的转向层的结构。 转向特征被配置为将光引导离开显示器的非活动区域并且朝向显示器的活动区域。 该结构还可以包括用于散射入射在显示器上并由显示器反射的光的扩散器。

    Display device with diffractive optics
    68.
    发明授权
    Display device with diffractive optics 有权
    具有衍射光学元件的显示装置

    公开(公告)号：US08368981B2

    公开(公告)日：2013-02-05

    申请号：US12419263

    申请日：2009-04-06

    申请人： Russell Wayne Gruhlke ,  Ion Bita ,  Marek Mienko ,  Gang Xu

    发明人： Russell Wayne Gruhlke ,  Ion Bita ,  Marek Mienko ,  Gang Xu

    IPC分类号： G02B5/32

    CPC分类号： G02B6/0035 ,  G02B6/0061 ,  G03H2001/0419 ,  G03H2001/2228

    摘要： Light modulator displays may be illuminated using a light guide comprising diffractive optics that directs light onto the light modulators. The light guide may comprise, for example, a holographic light turning element that turns light propagating within the light guide onto the array of light modulators. In some embodiments, the holographic element has multiple holographic functions. For example, the holographic element may additionally collimate ambient light or diffuse light reflected form the light modulators.

    摘要翻译： 光调制器显示器可以使用包括将光引导到光调制器上的衍射光学器件的光导照射。 光导可以包括例如将光导内的光传播到光调制器阵列上的全息光转向元件。 在一些实施例中，全息元件具有多个全息功能。 例如，全息元件可另外校准环境光或从光调制器反射的漫射光。

    Etching processes used in MEMS production
    69.
    发明授权
    Etching processes used in MEMS production 失效
    用于MEMS生产的蚀刻工艺

    公开(公告)号：US08323516B2

    公开(公告)日：2012-12-04

    申请号：US12210042

    申请日：2008-09-12

    申请人： Ion Bita ,  Evgeni Gousev ,  Ana Londergan ,  Xiaoming Yan

    发明人： Ion Bita ,  Evgeni Gousev ,  Ana Londergan ,  Xiaoming Yan

    IPC分类号： H01B13/00

    CPC分类号： H01L21/32135 ,  B01D53/002 ,  B01D2257/11 ,  B01D2257/2027 ,  H01L21/31116

    摘要： The efficiency of an etching process may be increased in various ways, and the cost of an etching process may be decreased. Unused etchant may be isolated and recirculated during the etching process. Etching byproducts may be collected and removed from the etching system during the etching process. Components of the etchant may be isolated and used to general additional etchant. Either or both of the etchant or the layers being etched may also be optimized for a particular etching process.

    摘要翻译： 可以以各种方式增加蚀刻工艺的效率，并且可以降低蚀刻工艺的成本。 未蚀刻的蚀刻剂可以在蚀刻过程中被隔离并再循环。 蚀刻副产物可以在蚀刻过程中从蚀刻系统中收集和去除。 蚀刻剂的组分可以被分离并用于一般的另外的蚀刻剂。 蚀刻剂或被蚀刻的层中的任一个或两者也可以针对特定的蚀刻工艺进行优化。