公开(公告)号：US06517415B2

公开(公告)日：2003-02-11

申请号：US09989498

申请日：2001-11-19

申请人： Boris Govzman ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chen ,  Sasson Somekh

发明人： Boris Govzman ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chen ,  Sasson Somekh

IPC分类号： B24B4900

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B37/0053

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing system includes a substrate sensing mechanism. The carrier head includes a base and a flexible member connected to the base to define a chamber. A lower surface of the flexible member provides a substrate receiving surface. The substrate sensing mechanism includes a sensor to measure a pressure in the chamber and generate an output signal representative thereof, and a processor configured to indicate whether the substrate is attached to the substrate receiving surface in response to the output signal.

公开(公告)号：US06450868B1

公开(公告)日：2002-09-17

申请号：US09535575

申请日：2000-03-27

申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen ,  Ming Kuie Tseng

发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen ,  Ming Kuie Tseng

IPC分类号： B24B4700

CPC分类号： B24B37/30 ,  F16J3/02

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a flexible membrane that applies a load to a substrate. A central portion of the flexible membrane is formed of a first material with a different rigidity than a second material that forms the annular portion of the flexible membrane.

摘要翻译： 用于化学机械抛光装置的载体头包括向基底施加载荷的柔性膜。 柔性膜的中心部分由与形成柔性膜的环形部分的第二材料刚度不同的第一材料形成。

公开(公告)号：US06436228B1

公开(公告)日：2002-08-20

申请号：US09080094

申请日：1998-05-15

申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： C23F102

CPC分类号： B24B37/32 ,  B24B37/28

摘要： A retainer is used with an apparatus for polishing a substrate. The substrate has upper and lower surfaces and a lateral, substantially circular, perimeter. The apparatus has a polishing pad with an upper polishing surface for contacting and polishing the lower face of the substrate. The retainer has an inward facing retaining face for engaging and retaining the substrate against lateral movement during polishing of the substrate. The retaining face engages a substrate perimeter at more than substantially a single discrete circumferential location along the perimeter.

摘要翻译： 保持器用于抛光衬底的装置。 衬底具有上表面和下表面以及侧面，基本上圆形的周边。 该装置具有抛光垫，该抛光垫具有用于接触和抛光基底下表面的上抛光表面。 保持器具有向内的保持面，用于在衬底的抛光期间接合和保持衬底以防止横向移动。 保持面在沿着周边的基本上一个单独的离散圆周位置处接合基底周边。

公开(公告)号：US06422927B1

公开(公告)日：2002-07-23

申请号：US09470820

申请日：1999-12-23

申请人： Steven M. Zuniga

发明人： Steven M. Zuniga

IPC分类号： B24B500

CPC分类号： B24B37/32 ,  B24B37/30 ,  B24B49/16

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus a flexible membrane that applies a load to a substrate in a loading area with a controllable size. One pressurizable chamber in the carrier head controls the size of the loading area, and another chamber controls the pressure applied to the substrate in the loading area.

摘要翻译： 一种用于化学机械抛光装置的载体头，该柔性膜在具有可控尺寸的装载区域中对基底施加载荷。 载体头中的一个可加压室控制装载区域的尺寸，另一个室控制在装载区域中施加到基板的压力。

公开(公告)号：US06398621B1

公开(公告)日：2002-06-04

申请号：US09296942

申请日：1999-04-22

申请人： Steven M. Zuniga ,  Ming-Kuei Tseng

发明人： Steven M. Zuniga ,  Ming-Kuei Tseng

IPC分类号： B24B4900

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B37/0053 ,  B24B49/00 ,  H01L21/681

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing system includes a flexible membrane with a substrate receiving surface, a sensor mechanism to determine if a substrate is properly attached to the carrier head, and means for preventing fluid that may be located between the substrate and the flexible membrane from interfering with the substrate detection mechanism.

摘要翻译： 用于化学机械抛光系统的载体头包括具有基底接收表面的柔性膜，用于确定基底是否适当地附接到载体头的传感器机构，以及用于防止可能位于基底和柔性体之间的流体的装置 膜干扰基板检测机制。

公开(公告)号：US06361419B1

公开(公告)日：2002-03-26

申请号：US09536249

申请日：2000-03-27

申请人： Steven M. Zuniga ,  Gopalakrishna B. Prahbu ,  Steven T. Mear

发明人： Steven M. Zuniga ,  Gopalakrishna B. Prahbu ,  Steven T. Mear

IPC分类号： B24B500

CPC分类号： B24B37/30

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a flexible membrane that applies a load to a substrate. A volume between the flexible membrane and a carrier structure provides a chamber. A body located in the chamber has a first portion that applies pressure to a first region of an upper surface of a central portion of the flexible membrane and a second portion that is separable and movable into contact with a second region of the upper surface of the central portion of the flexible membrane.

摘要翻译： 用于化学机械抛光装置的载体头包括向基底施加载荷的柔性膜。 柔性膜和载体结构之间的体积提供了一个室。 位于腔室中的主体具有第一部分，该第一部分对柔性膜的中心部分的上表面的第一区域施加压力，第二部分可分离并可移动地与第二部分接触， 柔性膜的中心部分。

公开(公告)号：US20130276979A1

公开(公告)日：2013-10-24

申请号：US13917250

申请日：2013-06-13

申请人： Steven M. Zuniga ,  Thomas H. Osterheld

发明人： Steven M. Zuniga ,  Thomas H. Osterheld

IPC分类号： B24B41/06

CPC分类号： B24B41/06 ,  B24B37/30 ,  B24B37/32

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a retaining ring having a flexible lower portion and a rigid upper portion.

摘要翻译： 用于化学机械抛光装置的承载头包括具有柔性下部和刚性上部的保持环。

公开(公告)号：US20120018093A1

公开(公告)日：2012-01-26

申请号：US13246614

申请日：2011-09-27

申请人： Steven M. Zuniga ,  Thomas H. Osterheld

发明人： Steven M. Zuniga ,  Thomas H. Osterheld

IPC分类号： C23F1/08

CPC分类号： B24B41/06 ,  B24B37/30 ,  B24B37/32

摘要： A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a retaining ring having a flexible lower portion and a rigid upper portion.

摘要翻译： 用于化学机械抛光装置的承载头包括具有柔性下部和刚性上部的保持环。

公开(公告)号：US20110212672A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：US13104711

申请日：2011-05-10

申请人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

发明人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

IPC分类号： B24D11/00

CPC分类号： B24B37/30 ,  Y10T428/24174 ,  Y10T428/24182

摘要： A carrier head that has a base assembly, a retaining ring assembly, a carrier ring, and a flexible membrane is described. The flexible membrane has a main portion and an outer annular portion, wherein a junction between the main portion and the outer annular portion comprises a peripheral edge hinge and an annular recess above the hinge along the outer wall of the outer annular portion.

摘要翻译： 描述了具有基座组件，保持环组件，载体环和柔性膜的承载头。 柔性膜具有主要部分和外部环形部分，其中主要部分和外部环形部分之间的接合处包括周边边缘铰链和沿着外部环形部分的外壁的铰链上方的环形凹部。

公开(公告)号：US20110143520A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US12636410

申请日：2009-12-11

申请人： Steven M. Zuniga ,  Derek G. Aqui ,  Andrew J. Nagengast ,  Kirk G. Liebscher ,  John M. Alexander ,  Keenan Leon Guerrero

发明人： Steven M. Zuniga ,  Derek G. Aqui ,  Andrew J. Nagengast ,  Kirk G. Liebscher ,  John M. Alexander ,  Keenan Leon Guerrero

IPC分类号： H01L21/70 ,  H01L21/677 ,  H01L21/673

CPC分类号： H01L21/67092 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68771

摘要： A system for treating distinct batches of workpieces to serial procedures comprises first and second multi-site structures. In each multi-site structure the sites are rotatable for alignment in turn with loading and unloading stations together constituting treatment or process stations. Workpieces of a batch are loaded onto all of the treatment sites and then simultaneously and identically treated by operation of treatment stations with which the process sites are aligned. After treatment in the first structure, workpieces of a batch are transferred from the unloading stations of the first structure to the loading stations of the second structure for further processing.

摘要翻译： 用于将不同批次的工件处理为串行程序的系统包括第一和第二多站点结构。 在每个多站点结构中，站点可旋转以依次与装载站和卸载站一起构成处理站或处理站。 将批料的​​工件加载到所有处理部位上，然后通过与处理部位对齐的处理站的操作同时并且相同地处理。 在第一结构中处理之后，批次的工件从第一结构的卸载站传送到第二结构的装载站，用于进一步处理。