公开(公告)号：US20120229814A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：US13417487

申请日：2012-03-12

申请人： Rolf FREIMANN ,  Bernd BOERBAND ,  Stefan SCHULTE ,  Albrecht HOF ,  Frank RIEPENHAUSEN ,  Matthias MANGER ,  Dietmar NEUGEBAUER ,  Helmut ISSLER ,  Armin BICH

发明人： Rolf FREIMANN ,  Bernd BOERBAND ,  Stefan SCHULTE ,  Albrecht HOF ,  Frank RIEPENHAUSEN ,  Matthias MANGER ,  Dietmar NEUGEBAUER ,  Helmut ISSLER ,  Armin BICH

IPC分类号： G01B11/24 ,  G02B3/02

CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B2290/15 ,  G01M11/005 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B3/02 ,  G02B5/10

摘要： Measuring a shape of an optical surface (14) of a test object (12) includes: providing an interferometric measuring device (16) generating a measurement wave (18); arranging the measuring device (16) and the test object (12) consecutively at different measurement positions relative to each other, such that different regions (20) of the optical surface (14) are illuminated by the measurement wave (18); measuring positional coordinates of the measuring device (16) at the different measurement positions in relation to the test object (12); obtaining surface region measurements by interferometrically measuring the wavefront of the measurement wave (18) after interaction with the respective region (20) of the optical surface (14) using the measuring device (16) in each of the measurement positions; and determining the actual shape of the optical surface (14) by computationally combining the sub-surface measurements based on the measured positional coordinates of the measuring device (16) at each of the measurement positions.

摘要翻译： 测量被测物体（12）的光学表面（14）的形状包括：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16）; 使测量装置（16）和测试对象（12）相对于彼此的不同测量位置连续布置，使得光学表面（14）的不同区域（20）被测量波（18）照亮; 测量所述测量装置（16）在与所述测试对象（12）相关的不同测量位置处的位置坐标; 通过在每个测量位置中使用测量装置（16）在与光学表面（14）的相应区域（20）相互作用之后干涉测量测量波（18）的波前来获得表面区域测量; 以及通过基于在每个测量位置处测量的测量装置（16）的测量的位置坐标计算地组合子表面测量来确定光学表面（14）的实际形状。

公开(公告)号：US08253947B2

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：US12518968

申请日：2007-11-06

申请人： Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Dietmar Neugebauer ,  Armin Bich ,  Monika Frey ,  Wolfgang Scherm ,  Stefan Otto ,  Rainer Maul ,  Helmut Krause

发明人： Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Dietmar Neugebauer ,  Armin Bich ,  Monika Frey ,  Wolfgang Scherm ,  Stefan Otto ,  Rainer Maul ,  Helmut Krause

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7096

摘要： A device for measuring lithography masks is provided, comprising a reticle carrier for the lithography mask to be measured, a measurement objective for reproducing on a detector a section of said lithography mask held by said reticle carrier, a measurement module for measuring the position of said reticle carrier relative to said measurement objective, and a correction module by means of which said reticle carrier can be moved in order to bring it into a predetermined position relative to said measurement objective, wherein said measurement objective and said measurement module are fastened directly to an instrument carrier in a locally fixed manner.

摘要翻译： 提供了一种用于测量光刻掩模的装置，包括用于待测量的光刻掩模的掩模版载体，用于在检测器上再现由所述标线载体保持的所述光刻掩模的一部分的测量目标，用于测量所述光刻掩模的位置的测量模块 标线载体相对于所述测量目标，以及校正模块，通过该校正模块可以使所述掩模版载体移动以使其相对于所述测量对象进入预定位置，其中所述测量对象和所述测量模块直接紧固到 仪器承运人以本地固定的方式。

公开(公告)号：US20110205549A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US12518968

申请日：2007-11-06

申请人： Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Dietmar Neugebauer ,  Armin Bich ,  Monika Frey ,  Wolfgang Scherm ,  Stefan Otto ,  Rainer Maul ,  Helmut Krause

发明人： Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Dietmar Neugebauer ,  Armin Bich ,  Monika Frey ,  Wolfgang Scherm ,  Stefan Otto ,  Rainer Maul ,  Helmut Krause

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7096

摘要： A device for measuring lithography masks is provided, comprising a reticle carrier for the lithography mask to be measured, a measurement objective for reproducing on a detector a section of said lithography mask held by said reticle carrier, a measurement module for measuring the position of said reticle carrier relative to said measurement objective, and a correction module by means of which said reticle carrier can be moved in order to bring it into a predetermined position relative to said measurement objective, wherein said measurement objective and said measurement module are fastened directly to an instrument carrier in a locally fixed manner.

摘要翻译： 提供了一种用于测量光刻掩模的装置，包括用于待测量的光刻掩模的掩模版载体，用于在检测器上再现由所述标线载体保持的所述光刻掩模的一部分的测量目标，用于测量所述光刻掩模的位置的测量模块 标线载体相对于所述测量目标，以及校正模块，通过该校正模块可以使所述掩模版载体移动以使其相对于所述测量对象进入预定位置，其中所述测量对象和所述测量模块直接紧固到 仪器承运人以本地固定的方式。

公开(公告)号：US6155082A

公开(公告)日：2000-12-05

申请号：US403756

申请日：1999-10-29

申请人： Reinhold Schimko ,  Armin Bich

发明人： Reinhold Schimko ,  Armin Bich

IPC分类号： D04B15/90 ,  D04B15/88

CPC分类号： D04B15/90

摘要： In a flatbed knitting machine comprising at least two needle beds, at least one knitting system, at least one fabric take-off device and a take-off comb, the comb hooks (2) are covered by a take-off comb covering device (6) during at least one part of the rising motion of the take-off comb (1) so as to prevent previously knitted items from becoming caught up in the take-off comb.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP98 / 02568 Sec。 371 1999年10月29日第 102（e）1999年10月29日PCT PCT 1999年4月30日PCT公布。 出版物WO98 / 49380 日期：1998年11月5日在包括至少两个针床，至少一个针织系统，至少一个织物取出装置和起飞梳子的平针织机中，梳子钩（2） 在梳理器（1）的上升运动的至少一部分期间，将梳齿覆盖装置（6）放开，以防止先前编织的物品卡在起毛梳中。

公开(公告)号：US08593642B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13417487

申请日：2012-03-12

申请人： Rolf Freimann ,  Bernd Doerband ,  Stefan Schulte ,  Albrecht Hof ,  Frank Riepenhausen ,  Matthias Manger ,  Dietmar Neugebauer ,  Helmut Issler ,  Armin Bich

发明人： Rolf Freimann ,  Bernd Doerband ,  Stefan Schulte ,  Albrecht Hof ,  Frank Riepenhausen ,  Matthias Manger ,  Dietmar Neugebauer ,  Helmut Issler ,  Armin Bich

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B2290/15 ,  G01M11/005 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B3/02 ,  G02B5/10

摘要： Measuring a shape of an optical surface (14) of a test object (12) includes: providing an interferometric measuring device (16) generating a measurement wave (18); arranging the measuring device (16) and the test object (12) consecutively at different measurement positions relative to each other, such that different regions (20) of the optical surface (14) are illuminated by the measurement wave (18); measuring positional coordinates of the measuring device (16) at the different measurement positions in relation to the test object (12); obtaining surface region measurements by interferometrically measuring the wavefront of the measurement wave (18) after interaction with the respective region (20) of the optical surface (14) using the measuring device (16) in each of the measurement positions; and determining the actual shape of the optical surface (14) by computationally combining the surface region measurements based on the measured positional coordinates of the measuring device (16) at each of the measurement positions.

摘要翻译： 测量被测物体（12）的光学表面（14）的形状包括：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16）; 使测量装置（16）和测试对象（12）相对于彼此的不同测量位置连续布置，使得光学表面（14）的不同区域（20）被测量波（18）照亮; 测量所述测量装置（16）在与所述测试对象（12）相关的不同测量位置处的位置坐标; 通过在每个测量位置中使用测量装置（16）在与光学表面（14）的相应区域（20）相互作用之后干涉测量测量波（18）的波前来获得表面区域测量; 以及通过基于在每个测量位置处测量装置（16）的测量位置坐标计算地组合表面区域测量来确定光学表面（14）的实际形状。