公开(公告)号：US20100095705A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12504276

申请日：2009-07-16

申请人： Robert S. Burkhalter ,  Lisa A. Lamberson ,  Robert M. Morena ,  Shyamala Shanmugam ,  Charlene M. Smith

发明人： Robert S. Burkhalter ,  Lisa A. Lamberson ,  Robert M. Morena ,  Shyamala Shanmugam ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： C03C19/00 ,  C03B19/00 ,  C03C8/08

CPC分类号： C03C8/08 ,  C03C3/21 ,  C03C8/16 ,  C03C8/20 ,  C03C8/24 ,  C03C27/06 ,  H01L51/5246

摘要： A dry glass-based fit, and methods of making a dry glass fit are disclosed. In one embodiment a dry glass frit comprises vanadium, phosphorous and a metal halide. The halide may be, for example, fluorine or chlorine. In another embodiment, a method of producing a dry glass frit comprises calcining a batch material for the frit, then melting the batch material in an inert atmosphere, such as a nitrogen atmosphere. In still another embodiment, a method of producing a dry glass frit comprises calcining a batch material for the frit, then melting the batch material in an air atmosphere, such as a nitrogen atmosphere

摘要翻译： 公开了基于干玻璃的配合以及制备干玻璃配合的方法。 在一个实施方案中，干玻璃料包含钒，磷和金属卤化物。 卤化物可以是例如氟或氯。 在另一个实施方案中，制备干玻璃料的方法包括煅烧用于玻璃料的批料，然后在惰性气氛如氮气气氛中熔化批料。 在另一个实施方案中，制备干玻璃料的方法包括煅烧用于玻璃料的批料，然后在空气气氛例如氮气氛中熔化批料

公开(公告)号：US06682859B2

公开(公告)日：2004-01-27

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

申请人： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

发明人： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

摘要： High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

摘要翻译： 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不具有OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低 氯水平。

公开(公告)号：US06844277B2

公开(公告)日：2005-01-18

申请号：US10099088

申请日：2002-03-15

申请人： Nicholas F. Borrelli ,  George B. Hares ,  Charlene M. Smith

发明人： Nicholas F. Borrelli ,  George B. Hares ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： C03B19/02 ,  C03B32/00 ,  C03C3/064 ,  C03C3/091 ,  C03C4/00 ,  C03C4/04 ,  C03C4/08 ,  C03C17/34 ,  C03C23/00 ,  G02B6/12 ,  G02B6/124 ,  G02B6/125 ,  G02B6/34 ,  C03C3/06

CPC分类号： G02B6/125 ,  C03B19/02 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/31 ,  C03C3/064 ,  C03C3/091 ,  C03C4/0085 ,  C03C4/04 ,  C03C4/085 ,  C03C17/3411 ,  C03C23/00 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/54 ,  G02B6/02114 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/124 ,  G02B2006/12147

摘要： The present invention relates generally to UV (ultraviolet) photosensitive bulk glass, and particularly to batch meltable alkali boro-alumino-silicate glasses. The photosensitive bulk glass of the invention exhibits photosensitivity to UV wavelengths below 300 nm.The photosensitivity of the alkali boro-alumino-silicate bulk glass to UV wavelengths below 300 nm provide for the making of refractive index patterns in the glass. With a radiation source below 300 nm, such a laser, refractive index patterns are formed in the glass. The inventive photosensitive optical refractive index pattern forming bulk glass allows for the formation of patterns in glass and devices which utilize such patterned glass.

摘要翻译： 本发明一般涉及UV（紫外线）感光体玻璃，特别涉及间歇可熔碱性硼铝硅酸盐玻璃。 本发明的感光体玻璃对于低于300nm的UV波长表现出光敏性。碱性硼铝硅酸盐体玻璃对低于300nm的UV波长的光敏性提供了在玻璃中制造折射率图案。 在300nm以下的辐射源下，这种激光器在玻璃中形成折射率图案。 本发明的感光光学折射率图案形成块状玻璃允许在玻璃中形成图案并利用这种图案化玻璃的装置。

公开(公告)号：US06806039B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US10242887

申请日：2002-09-13

申请人： Douglas C. Allan ,  Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Robert W. Sparrow

发明人： Douglas C. Allan ,  Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Robert W. Sparrow

IPC分类号： C01F1122

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B1/02

摘要： The invention provides a UV below 200 nm lithography method utilizing mixed calcium strontium fluoride crystals. The invention includes providing a below 200 nm radiation source for producing

摘要翻译： 本发明提供使用混合的氟化锶氟化锶晶体的200nm以下的光刻方法。 本发明包括提供低于200nm的辐射源，用于产生<200nm光，提供多个混合的锶立方晶体氟化物晶体光学元件，其中氟化物晶体由具有不同光学极化性的钙锶阳离子的组合组成，例如 产生总体各向同性极化率，其使氟化物晶体空间色散最小化在200nm以下，通过立方氟化物晶体光学元件透射<200nm的光，用光形成光刻图案，减少光刻图案并用氟化物投影光刻图案 晶体光学元件到UV辐射敏感光刻打印介质上以形成印刷光刻图案。 本发明包括混合氟化物晶体，其光学元件坯料和光刻元件。

公开(公告)号：US06782716B2

公开(公告)日：2004-08-31

申请号：US10702266

申请日：2003-11-05

申请人： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

发明人： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： C03C1500

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  G03F1/60

摘要： High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

公开(公告)号：US06754002B2

公开(公告)日：2004-06-22

申请号：US09967841

申请日：2001-09-27

申请人： Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

发明人： Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

IPC分类号： G02B1314

CPC分类号： G03F7/70041 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

摘要： Lithographic methods are disclosed. In one such method, a pulsed ultraviolet radiation source for producing ultraviolet lithography radiation having a wavelength shorter than about 300 nm at a fluence of less than 10 mJ/cm2/pulse and a high purity fused silica lithography glass having a concentration of molecular hydrogen of between about 0.02×1018 molecules/cm3 and about 0.18×1018 molecules/cm3 are provided. A lithography pattern is formed with the ultraviolet lithography radiation; the lithography pattern is reduced to produce a reduced lithography pattern; and the reduced lithography pattern is projected onto a ultraviolet radiation sensitive lithography medium to form a printed lithography pattern. At least one of the forming, reducing, and projecting steps includes transmitting the ultraviolet lithography radiation through the high purity fused silica lithography glass. Lithography systems and high purity fused silica lithography glass are also described.

摘要翻译： 公开了平版印刷方法。 在一种这样的方法中，用于产生波长短于约300nm的波长小于10mJ / cm 2 /脉冲的紫外光刻辐射的脉冲紫外辐射源和具有浓度为 提供约0.02×10 18分子/ cm 3和约0.18×10 18分子/ cm 3之间的分子氢。 用紫外光刻法形成光刻图案; 光刻图案被减少以产生减小的光刻图案; 并且将还原的光刻图案投影到紫外线照射敏感光刻介质上以形成印刷光刻图案。 形成，还原和突出步骤中的至少一个步骤包括通过高纯度熔融石英光刻玻璃传输紫外光刻辐射。 还描述了平版印刷系统和高纯度熔融石英光刻玻璃。

公开(公告)号：US06649326B2

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：US10177065

申请日：2002-06-21

申请人： Douglas C. Allan ,  Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Robert W. Sparrow

发明人： Douglas C. Allan ,  Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Robert W. Sparrow

IPC分类号： G02B500

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B1/02 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70958 ,  Y10S501/905

摘要： The invention provides a UV below 200 nm lithography method. The invention includes providing a below 200 nm radiation source for producing

摘要翻译： 本发明提供200nm以下的光刻方法。 本发明包括提供低于200nm的辐射源，用于产生<200nm的光，提供多个混合的立方体氟化物晶体光学元件，其中氟化物晶体由具有不同光学极化性的碱土金属阳离子的组合组成， 总体各向同性极化率，其使氟化物晶体空间色散最小化在200nm以下，通过立方氟化物晶体光学元件透射<200nm的光，用光形成光刻图案，减少光刻图案并用立方晶体晶体投影光刻图案 光学元件到UV辐射敏感光刻印刷介质上以形成印刷光刻图案。 本发明包括制备混合氟化物晶体并由其形成光学元件。

公开(公告)号：US06619073B2

公开(公告)日：2003-09-16

申请号：US10045238

申请日：2001-10-23

申请人： Nicholas F. Borrelli ,  Daniel R. Sempolinski ,  Thomas P. Seward ,  Charlene M. Smith

发明人： Nicholas F. Borrelli ,  Daniel R. Sempolinski ,  Thomas P. Seward ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： C03B1901

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C21/007 ,  Y10S65/90

摘要： The invention relates to optical glass having improved initial transmittance, formed by subjecting the glass to a hydrogen and/or deuterium treatment at a temperature, and for a duration of time sufficient to diffuse the hydrogen and/or deuterium into the glass.

公开(公告)号：US06295841B1

公开(公告)日：2001-10-02

申请号：US09254113

申请日：1999-02-25

申请人： Douglas C. Allan ,  William R. Powell ,  Nicholas F. Borrelli ,  Thomas P. Seward, III ,  Charlene M. Smith

发明人： Douglas C. Allan ,  William R. Powell ,  Nicholas F. Borrelli ,  Thomas P. Seward, III ,  Charlene M. Smith

IPC分类号： C03B1900

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B2207/32 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/50 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70216 ,  Y10S65/13

摘要： A fused silica glass which exhibits low compaction when exposed to high intensity excimer radiation, also exhibits low optical path distortion after exposure to a high intensity radiation dose. Also disclosed is a method for improving the select ratio of fused silica glass for photolithography, by predicting the optical path distortion of the glass under use by determining the intrinsic densification of the glass at a given number of pulses and fluence per pulse. Mathematical modeling methods are also disclosed for use in producing a fused silica stepper lens having low compaction under high intensity excimer radiation; and for determining optical path distortion caused by high energy radiation in fused silica glass.

摘要翻译： 当暴露于高强度准分子辐射时表现出低压实性的熔融石英玻璃在暴露于高强度辐射剂量之后也表现出低光程失真。 还公开了一种通过在给定数量的脉冲和每脉冲能量密度下确定玻璃的固有致密化，通过预测使用中的玻璃的光路畸变来提高用于光刻的熔融石英玻璃的选择比的方法。 还公开了数学建模方法用于生产在高强度准分子辐射下具有低压实性的熔融二氧化硅步进透镜; 并且用于确定由熔融石英玻璃中的高能量辐射引起的光路失真。

公开(公告)号：US06982232B2

公开(公告)日：2006-01-03

申请号：US10842979

申请日：2004-05-11

申请人： Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

发明人： Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

IPC分类号： C03C3/06

CPC分类号： G03F7/70041 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

摘要： Lithographic methods are disclosed. In one such method, a pulsed ultraviolet radiation source for producing ultraviolet lithography radiation having a wavelength shorter than about 300 nm at a fluence of less than 10 mJ/cm2/pulse and a high purity fused silica lithography glass having a concentration of molecular hydrogen of between about 0.02×1018 molecules/cm3 and about 0.18×1018 molecules/cm3 are provided. A lithography pattern is formed with the ultraviolet lithography radiation; the lithography pattern is reduced to produce a reduced lithography pattern; and the reduced lithography pattern is projected onto a ultraviolet radiation sensitive lithography medium to form a printed lithography pattern. At least one of the forming, reducing, and projecting steps includes transmitting the ultraviolet lithography radiation through the high purity fused silica lithography glass. Lithography systems and high purity fused silica lithography glass are also described.

摘要翻译： 公开了平版印刷方法。 在一种这样的方法中，用于产生具有小于约300nm的波长的紫外光刻辐射的脉冲紫外辐射源，其注量小于10mJ / cm 2 /脉冲和高纯度熔融石英光刻 分子氢浓度在约0.02×10 18分子/ cm 3至约0.18×10 18分子/ cm 3之间的玻璃 。 用紫外光刻法形成光刻图案; 光刻图案被减少以产生减小的光刻图案; 并且将还原的光刻图案投影到紫外线照射敏感光刻介质上以形成印刷光刻图案。 形成，还原和突出步骤中的至少一个步骤包括通过高纯度熔融石英光刻玻璃传输紫外光刻辐射。 还描述了平版印刷系统和高纯度熔融石英光刻玻璃。