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    Release layer and resist material for master tool and stamper tool
    2.
    发明授权
    Release layer and resist material for master tool and stamper tool 失效
    主工具和压模工具的剥离层和抗蚀剂材料

    公开(公告)号：US07604836B2

    公开(公告)日：2009-10-20

    申请号：US11610294

    申请日：2006-12-13

    申请人： Xing-Cai Guo ,  Dan S. Kercher ,  Bruno Marchon ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    发明人： Xing-Cai Guo ,  Dan S. Kercher ,  Bruno Marchon ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    IPC分类号： B41L29/12

    CPC分类号： B29C59/022 ,  B29C37/0075 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82

    摘要： Methods of performing nanoimprint lithography are described. For one method, a master tool and a stamper tool are formed to provide nanometer-scale imprinting. A release layer comprised of a perfluoropolyether diacrylate material is formed on the master tool and the stamper tool. The master tool and the stamper tool are used to form patterns in resist material, such as hole or pillar patterns. The resist material as described herein has lower viscosity and lower surface tension than prior resist materials allowing for more uniform replication of the patterns.

    摘要翻译： 描述了进行纳米压印光刻的方法。 对于一种方法，形成主工具和压模工具以提供纳米级刻印。 在主工具和压模工具上形成由全氟聚醚二丙烯酸酯材料构成的脱模层。 主工具和压模工具用于形成抗蚀剂材料中的图案，例如孔或柱图案。 如本文所述的抗蚀剂材料具有比现有抗蚀剂材料更低的粘度和更低的表面张力，允许图案的更均匀的复制。

    RELEASE LAYER AND RESIST MATERIAL FOR MASTER TOOL AND STAMPER TOOL
    3.
    发明申请
    RELEASE LAYER AND RESIST MATERIAL FOR MASTER TOOL AND STAMPER TOOL 失效
    发布主要工具和压印工具的层和材料

    公开(公告)号：US20080145525A1

    公开(公告)日：2008-06-19

    申请号：US11610294

    申请日：2006-12-13

    申请人： Xing-Cai Guo ,  Dan S. Kercher ,  Bruno Marchon ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    发明人： Xing-Cai Guo ,  Dan S. Kercher ,  Bruno Marchon ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    IPC分类号： B28B7/36

    CPC分类号： B29C59/022 ,  B29C37/0075 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82

    摘要： Methods of performing nanoimprint lithography are described. For one method, a master tool and a stamper tool are formed to provide nanometer-scale imprinting. A release layer comprised of a perfluoropolyether diacrylate material is formed on the master tool and the stamper tool. The master tool and the stamper tool are used to form patterns in resist material, such as hole or pillar patterns. The resist material as described herein has lower viscosity and lower surface tension than prior resist materials allowing for more uniform replication of the patterns.

    摘要翻译： 描述了进行纳米压印光刻的方法。 对于一种方法，形成主工具和压模工具以提供纳米级刻印。 在主工具和压模工具上形成由全氟聚醚二丙烯酸酯材料构成的脱模层。 主工具和压模工具用于形成抗蚀剂材料中的图案，例如孔或柱图案。 如本文所述的抗蚀剂材料具有比现有抗蚀剂材料更低的粘度和更低的表面张力，允许图案的更均匀的复制。

    Medium patterning method and associated apparatus
    5.
    发明授权
    Medium patterning method and associated apparatus 有权
    介质图案化方法和相关设备

    公开(公告)号：US08871528B2

    公开(公告)日：2014-10-28

    申请号：US13250885

    申请日：2011-09-30

    申请人： Kurt A. Rubin ,  Dan S. Kercher

    发明人： Kurt A. Rubin ,  Dan S. Kercher

    IPC分类号： H01L43/12 ,  G11B5/855 ,  H01L21/266 ,  G11B5/74

    CPC分类号： H01L43/12 ,  G11B5/746 ,  G11B5/855 ,  H01L21/266

    摘要： According to one embodiment, a method for patterning a medium having a patterned hard mask applied thereon is disclosed herein. The patterned hard mark includes a plurality of apertures exposing portions of the medium. The method includes directing ions toward the medium, implanting a portion of the ions into the exposed portions of the medium, removing a layer of the patterned hard mask with another portion of the ions, and depositing hard mask material onto the patterned hard mask. Depositing hard mask material onto the exposed portions of the medium may follow implantation of the portion of the ions into the exposed portions of the medium.

    摘要翻译： 根据一个实施例，本文公开了一种用于对其上施加有图案化硬掩模的介质进行图案化的方法。 图案化的硬标记包括暴露介质的部分的多个孔。 该方法包括将离子引向介质，将一部分离子注入到介质的暴露部分中，用另一部分离子去除图案化硬掩模层，以及将硬掩模材料沉积到图案化的硬掩模上。 将硬掩模材料沉积在介质的暴露部分上可以将部分离子注入到介质的暴露部分中。

    SYSTEM AND METHOD OF FABRICATING MEDIA
    6.
    发明申请
    SYSTEM AND METHOD OF FABRICATING MEDIA 审中-公开
    制作媒体的系统和方法

    公开(公告)号：US20120325771A1

    公开(公告)日：2012-12-27

    申请号：US13604235

    申请日：2012-09-05

    申请人： Xiaoping Bian ,  Qing Dai ,  Dan S. Kercher ,  Mark F. Mercado ,  Qi-fan Xiao ,  Jane J. Zhang

    发明人： Xiaoping Bian ,  Qing Dai ,  Dan S. Kercher ,  Mark F. Mercado ,  Qi-fan Xiao ,  Jane J. Zhang

    IPC分类号： G11B5/84

    CPC分类号： G11B5/8408

    摘要： A method of fabricating media comprises forming recording media on a substrate. An overcoat is deposited on the recording media opposite the substrate. The overcoat has a first surface finish. The overcoat is etched to remove material and provide the overcoat with a second surface finish that is smoother than the first surface finish. The depositing and etching may occur sequentially in an in-situ, dry vacuum process. The second surface finish may not be mechanically processed after etching to further planarize the overcoat.

    摘要翻译： 制造介质的方法包括在基底上形成记录介质。 在与衬底相对的记录介质上沉积外涂层。 外套具有第一表面光洁度。 蚀刻外涂层以除去材料，并为外涂层提供比第一表面光洁度更平滑的第二表面光洁度。 沉积和蚀刻可以在原位干燥的真空过程中顺序地进行。 蚀刻后第二表面光洁度可能不能机械加工，以进一步平整外涂层。

    MEDIUM PATTERNING METHOD AND ASSOCIATED APPARATUS
    7.
    发明申请
    MEDIUM PATTERNING METHOD AND ASSOCIATED APPARATUS 有权
    中等图案方法和相关设备

    公开(公告)号：US20130084653A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：US13250885

    申请日：2011-09-30

    申请人： Kurt A. Rubin ,  Dan S. Kercher

    发明人： Kurt A. Rubin ,  Dan S. Kercher

    IPC分类号： H01L43/12 ,  H01L21/3065

    CPC分类号： H01L43/12 ,  G11B5/746 ,  G11B5/855 ,  H01L21/266

    摘要： According to one embodiment, a method for patterning a medium having a patterned hard mask applied thereon is disclosed herein. The patterned hard mark includes a plurality of apertures exposing portions of the medium. The method includes directing ions toward the medium, implanting a portion of the ions into the exposed portions of the medium, removing a layer of the patterned hard mask with another portion of the ions, and depositing hard mask material onto the patterned hard mask. Depositing hard mask material onto the exposed portions of the medium may follow implantation of the portion of the ions into the exposed portions of the medium.

    摘要翻译： 根据一个实施例，本文公开了一种用于对其上施加有图案化硬掩模的介质进行图案化的方法。 图案化的硬标记包括暴露介质的部分的多个孔。 该方法包括将离子引向介质，将一部分离子注入到介质的暴露部分中，用另一部分离子去除图案化硬掩模层，以及将硬掩模材料沉积到图案化的硬掩模上。 将硬掩模材料沉积在介质的暴露部分上可以将部分离子注入到介质的暴露部分中。

    Self-releasing resist material for nano-imprint processes
    9.
    发明授权
    Self-releasing resist material for nano-imprint processes 有权
    用于纳米压印工艺的自发光抗蚀材料

    公开(公告)号：US08262975B2

    公开(公告)日：2012-09-11

    申请号：US12268823

    申请日：2008-11-11

    申请人： Margaret E. Best ,  Xing-Cai Guo ,  Thomas E. Karis ,  Dan S. Kercher ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    发明人： Margaret E. Best ,  Xing-Cai Guo ,  Thomas E. Karis ,  Dan S. Kercher ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    IPC分类号： B27N3/08

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08G65/007 ,  C08G65/3322 ,  C08G2650/48 ,  C08L33/08 ,  C09D171/02 ,  C08L2666/04

    摘要： Nanoimprint lithography using resist material with the addition of a surfactant is described. A template release layer is formed on a pattern of a template. A non-ionic surfactant is added to a resist material to form a mixed resist material. The resist material may comprise a hydrocarbon material having an unsaturated bond, such as an acrylate material. The surfactant may comprise polyalkylene glycol or an organically modified polysiloxane. A resist layer is then formed on a substrate from the mixed resist material. The surfactant added to the resist material forms a resist release layer on the surface of the resist layer. The template is then pressed into the resist layer, where the template release layer and the resist release layer are between the pattern of the template and the resist layer.

    摘要翻译： 描述了使用加入表面活性剂的抗蚀剂材料的纳米压印光刻。 模板释放层形成在模板的图案上。 将非离子表面活性剂加入到抗蚀剂材料中以形成混合的抗蚀剂材料。 抗蚀剂材料可以包括具有不饱和键的烃材料，例如丙烯酸酯材料。 表面活性剂可以包含聚亚烷基二醇或有机改性的聚硅氧烷。 然后在混合的抗蚀剂材料的基板上形成抗蚀剂层。 添加到抗蚀剂材料中的表面活性剂在抗蚀剂层的表面上形成抗蚀剂剥离层。 然后将模板压入抗蚀剂层，其中模板释放层和抗蚀剂剥离层在模板的图案和抗蚀剂层之间。

    SELF-RELEASING RESIST MATERIAL FOR NANO-IMPRINT PROCESSES
    10.
    发明申请
    SELF-RELEASING RESIST MATERIAL FOR NANO-IMPRINT PROCESSES 有权
    用于纳米印刷工艺的自发性材料

    公开(公告)号：US20100117256A1

    公开(公告)日：2010-05-13

    申请号：US12268823

    申请日：2008-11-11

    申请人： Margaret E. Best ,  Xing-Cai Guo ,  Thomas E. Karis ,  Dan S. Kercher ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    发明人： Margaret E. Best ,  Xing-Cai Guo ,  Thomas E. Karis ,  Dan S. Kercher ,  Charles M. Mate ,  Tsai-Wei Wu

    IPC分类号： B32B37/02 ,  C08L71/08 ,  C08L83/04

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08G65/007 ,  C08G65/3322 ,  C08G2650/48 ,  C08L33/08 ,  C09D171/02 ,  C08L2666/04

    摘要： Nanoimprint lithography using resist material with the addition of a surfactant is described. A template release layer is formed on a pattern of a template. A non-ionic surfactant is added to a resist material to form a mixed resist material. The resist material may comprise a hydrocarbon material having an unsaturated bond, such as an acrylate material. The surfactant may comprise polyakylene glycol or an organically modified polysiloxane. A resist layer is then formed on a substrate from the mixed resist material. The surfactant added to the resist material forms a resist release layer on the surface of the resist layer. The template is then pressed into the resist layer, where the template release layer and the resist release layer are between the pattern of the template and the resist layer.

    摘要翻译： 描述了使用加入表面活性剂的抗蚀剂材料的纳米压印光刻。 模板释放层形成在模板的图案上。 将非离子表面活性剂加入到抗蚀剂材料中以形成混合的抗蚀剂材料。 抗蚀剂材料可以包括具有不饱和键的烃材料，例如丙烯酸酯材料。 表面活性剂可以包括聚亚烷基二醇或有机改性的聚硅氧烷。 然后在混合的抗蚀剂材料的基板上形成抗蚀剂层。 添加到抗蚀剂材料中的表面活性剂在抗蚀剂层的表面上形成抗蚀剂剥离层。 然后将模板压入抗蚀剂层，其中模板释放层和抗蚀剂剥离层在模板的图案和抗蚀剂层之间。