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    Imidyl compounds
    1.
    发明授权
    Imidyl compounds 失效
    咪唑基化合物

    公开(公告)号：US4193927A

    公开(公告)日：1980-03-18

    申请号：US898754

    申请日：1978-04-21

    申请人： Marcus Baumann ,  Vratislav Kvita ,  Martin Roth ,  John S. Waterhouse

    发明人： Marcus Baumann ,  Vratislav Kvita ,  Martin Roth ,  John S. Waterhouse

    IPC分类号： C07D207/44 ,  C07D207/452 ,  C07D209/48 ,  C07F7/18 ,  C07F7/21 ,  C08G69/26 ,  C07D403/10

    CPC分类号： C07D207/452 ,  C07D209/48 ,  C07F7/182 ,  C07F7/21 ,  C08G69/265

    摘要： The imidyl compounds, according to the invention, of the formula I are suitable for the manufacture of polymers which can be crosslinked by light, which polymers can be, for example, polyesters, polyamides, polyamide-imides, polyimides, polyester-polyamides, polyester-amide-imides, polyethers, polyamines, polysaccharides and polysiloxanes. Polymers of this type are suitable for carrying out photochemical processes. Compared with known polymers, the polymers based on the imidyl compounds according to the invention have the advantage that they are photochemically substantially more sensitive. In addition, this sensitivity can also be further increased effectively by a combination with sensitizers.

    摘要翻译： 根据本发明的式I的亚氨基化合物适用于制造可通过光交联的聚合物，该聚合物可以是例如聚酯，聚酰胺，聚酰胺 - 酰亚胺，聚酰亚胺，聚酯 - 聚酰胺，聚酯 酰胺 - 酰亚胺，聚醚，聚胺，多糖和聚硅氧烷。 这种聚合物适用于进行光化学处理。 与已知的聚合物相比，基于本发明的亚氨基化合物的聚合物具有光电化学上更加敏感的优点。 此外，通过与敏化剂的组合，也可以有效地进一步提高该灵敏度。

    Photopolymerizable resins
    4.
    发明授权
    Photopolymerizable resins 失效
    光聚合树脂

    公开(公告)号：US4392930A

    公开(公告)日：1983-07-12

    申请号：US393894

    申请日：1982-06-30

    申请人： Roderick D. Hathaway ,  Edward Irving ,  John S. Waterhouse

    发明人： Roderick D. Hathaway ,  Edward Irving ,  John S. Waterhouse

    IPC分类号： C08F2/46 ,  C08F2/48 ,  C08F20/36 ,  G03F7/027 ,  C08F8/00

    CPC分类号： C08F20/36 ,  C08F2/48 ,  G03F7/027

    摘要： Diacrylates or dimethacrylates, which are compatible with water before exposure to actinic radiation but after such exposure form hard, insoluble, coatings which are resistant to organic solvents and to water, are made by reaction with (meth)acrylic acid, or with a dicarboxylic acid and a hydroxy group-containing (meth)acrylate, of epoxide groups in an advanced diepoxide resin containing groups of formula ##STR1## where R.sup.4 denotes a divalent (cyclo)aliphatic or araliphatic radical,each R.sup.15 denotes an alkyl group or each pair of R.sup.15 denotes a group of formula --CH.sub.2).sub.2 --, --C(R.sup.16 R.sup.17)CO--, --CH.sub.2 CH(CH.sub.3)--, --CH.sub.2 --.sub.3, or --CO--.sub.2, wherein R.sup.16 and R.sup.17 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, or, conjointly, a cycloaliphatic ring, andc is zero or 1.

    摘要翻译： 二氯丙烯酸酯或二甲基丙烯酸酯在暴露于光化辐射之前与水相容，但是在这种曝光后，由于与（甲基）丙烯酸反应，或与二羧酸反应制成耐受有机溶剂和水的硬，不溶性涂料 和含羟基的（甲基）丙烯酸酯，其含有式（IMAGE）基团的高级二环氧树脂，其中R 4表示二价（环）脂族或芳脂族基，每个R 15表示烷基或每对R 15 表示式-CH 2）2 - ， - C（R 16 R 17）CO - ， - CH 2 CH（CH 3） - ， - CH 2 -3或-CO-2的基团，其中R 16和R 17各自表示氢原子，烷基 ，或联合地为脂环族环，c为0或1。

    Image formation process
    5.
    发明授权
    Image formation process 失效
    图像形成过程

    公开(公告)号：US4368253A

    公开(公告)日：1983-01-11

    申请号：US340670

    申请日：1982-01-19

    申请人： George E. Green ,  John S. Waterhouse

    发明人： George E. Green ,  John S. Waterhouse

    IPC分类号： G03F7/30 ,  C08F2/00 ,  C08F2/48 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  G03C5/00

    CPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/124

    摘要： A method for forming an image by a positive resist process comprises:(1) exposing imagewise to actinic radiation a photoresist composition comprising:(a) a film-forming organic material having at least one substituted benzoin group of formula: ##STR1## where R.sup.1 denotes a hydrogen atom, an alkyl, cycloalkyl, cycloalkylalkyl, or aralkyl group or a group --(CH.sub.2).sub.b X; R.sup.2 denotes a hydrogen atom or an alkyl, cycloalkyl, cycloalkylalkyl, aryl or aralkyl group; R.sup.3 denotes a halogen atom or an alkyl, alkoxy, cycloalkyl, cycloalkylalkyl or phenyl group; X denotes a halogen atom, an alkoxy group, a phenoxy group, a group --COOR.sup.4 or a group --OOCR.sup.4, where R.sup.4 denotes an alkyl group; a denotes zero or 1; b denotes an integer of from 1 to 4; m and n each denote zero or 1, the sum of m+n being 1; p and q each denote zero or 1, the sum of p+q being 1; and c and d each denote zero or an integer of from 1 to 3; and(b) a compound which is polymerizable under the influence of a free radical catalyst to form a higher molecular weight material which is more soluble in a developer than the composition prior to exposure, so that the solubility of the composition in a developer is increased in the exposed portion; and(2) treating the composition with a developer to remove the exposed portion.

    摘要翻译： 通过正性抗蚀剂工艺形成图像的方法包括：（1）将光致抗蚀剂组合物成像曝光于光化学辐射，所述光致抗蚀剂组合物包含：（a）成膜有机材料，其具有至少一个下式的取代的苯偶姻基团：其中 R1表示氢原子，烷基，环烷基，环烷基烷基或芳烷基或基团 - （CH2）bX; R2表示氢原子或烷基，环烷基，环烷基烷基，芳基或芳烷基; R3表示卤素原子或烷基，烷氧基，环烷基，环烷基烷基或苯基; X表示卤素原子，烷氧基，苯氧基，-COOR4基或-OOCR4基，其中R4表示烷基; a表示零或1; b表示1〜4的整数， m和n分别表示零或1，m + n的和为1; p和q各自表示0或1，p + q的和为1; c和d分别表示0或1〜3的整数， 和（b）在自由基催化剂的影响下可聚合的化合物，以形成比曝光前组合物更易溶于显影剂的较高分子量的材料，使组合物在显影剂中的溶解度增加 在暴露部分; 和（2）用显影剂处理组合物以除去暴露部分。

    Imidyl compounds
    8.
    发明授权
    Imidyl compounds 失效
    咪唑基化合物

    公开(公告)号：US4172836A

    公开(公告)日：1979-10-30

    申请号：US898748

    申请日：1978-04-21

    申请人： Marcus Baumann ,  Vratislav Kvita ,  Martin Roth ,  John S. Waterhouse

    发明人： Marcus Baumann ,  Vratislav Kvita ,  Martin Roth ,  John S. Waterhouse

    IPC分类号： C07D207/44 ,  C07D207/452 ,  C07D209/48 ,  C07F7/18 ,  C07F7/21 ,  C08G69/26 ,  C07D207/12 ,  C07D403/04 ,  C07D403/10

    CPC分类号： C07D207/452 ,  C07D209/48 ,  C07F7/182 ,  C07F7/21 ,  C08G69/265

    摘要： The imidyl compounds, according to the invention, of the formula I are suitable for the manufacture of polymers which can be crosslinked by light, which polymers can be, for example, polyesters, polyamides, polyamide-imides, polyimides, polyester-polyamides, polyester-amide-imides, polyethers, polyamines, polysaccharides and polysiloxanes. Polymers of this type are suitable for carrying out photochemical processes. Compared with known polymers, the polymers based on the imidyl compounds according to the invention have the advantage that they are photochemically substantially more sensitive. In addition, this sensitivity can also be further increased effectively by a combination with sensitisers.

    摘要翻译： 根据本发明的式I的亚氨基化合物适用于制造可通过光交联的聚合物，该聚合物可以是例如聚酯，聚酰胺，聚酰胺 - 酰亚胺，聚酰亚胺，聚酯 - 聚酰胺，聚酯 酰胺 - 酰亚胺，聚醚，聚胺，多糖和聚硅氧烷。 这种聚合物适用于进行光化学处理。 与已知的聚合物相比，基于本发明的亚氨基化合物的聚合物具有光电化学上更加敏感的优点。 此外，通过与敏化剂的组合，也可以有效地进一步提高该灵敏度。

    Photopolymerizable diepoxides containing a nitrogen heterocycle
    9.
    发明授权
    Photopolymerizable diepoxides containing a nitrogen heterocycle 失效
    含有氮杂环的光聚合二环氧化物

    公开(公告)号：US4124760A

    公开(公告)日：1978-11-07

    申请号：US815332

    申请日：1977-07-13

    申请人： George E. Green ,  Bernard P. Stark ,  John S. Waterhouse

    发明人： George E. Green ,  Bernard P. Stark ,  John S. Waterhouse

    IPC分类号： C08G59/00 ,  C08G59/26 ,  C08G59/28 ,  C07D405/14

    CPC分类号： C08G59/26

    摘要： Diepoxides which may be photopolymerized in the presence or absence of a photosensitizer contain a group having conjugated unsaturation attached to a nitrogen heterocycle, such as a hydantoin or barbituric acid residue, forming part of an advanced diepoxide. The resultant photopolymer may be crosslinked by heating in the presence of a curing agent for epoxide resins.The diepoxides are of use in the production of printing plates and printed circuits, especially multilayer printed circuits.

    摘要翻译： 在光敏剂存在或不存在下可以光聚合的二环氧化物包含具有连接到氮杂环上的共轭不饱和键的基团，例如乙内酰脲或巴比妥酸残基，形成高级双环氧化物的一部分。 所得光聚合物可以在用于环氧树脂的固化剂的存在下加热而交联。