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    Metrology tool, system comprising a lithographic apparatus and a metrology tool, and a method for determining a parameter of a substrate
    1.
    发明申请
    Metrology tool, system comprising a lithographic apparatus and a metrology tool, and a method for determining a parameter of a substrate 有权
    计量工具，包括光刻设备和计量工具的系统以及用于确定衬底参数的方法

    公开(公告)号：US20070279742A1

    公开(公告)日：2007-12-06

    申请号：US11802257

    申请日：2007-05-21

    申请人： Reinder Plug ,  Arie Den Boef ,  Karel Van Der Mast

    发明人： Reinder Plug ,  Arie Den Boef ,  Karel Van Der Mast

    IPC分类号： G02B27/64

    CPC分类号： G03F7/70758 ,  G03F7/70766

    摘要： A metrology tool is arranged to measure a parameter of a substrate that has been provided with a pattern in a lithographic apparatus. The metrology tool includes a base frame, a substrate table constructed and arranged to hold the substrate, a sensor constructed and arranged to measure a parameter of the substrate, a displacement system configured to displace the substrate table or the sensor with respect to the other in a first direction, a balance mass, and a bearing configured to movably support the first balance mass so as to be substantially free to translate in a direction opposite of the first direction in order to counteract a displacement of the substrate table or sensor in the first direction.

    摘要翻译： 计量工具被布置成测量在光刻设备中已经设置有图案的衬底的参数。 测量工具包括基架，构造和布置成保持基板的基板台，构造和布置成测量基板的参数的传感器，构造成将基板台或传感器相对于彼此移位的位移系统 第一方向，平衡块和轴承，其构造成可移动地支撑所述第一平衡块，以便在与所述第一方向相反的方向上基本上自由地平移，以抵消所述第一平衡块中的所述基板台或传感器在所述第一方向 方向。

    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation
    2.
    发明授权
    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation 有权
    用于补偿无掩模光刻系统中印刷图案的缝合干扰的方法和系统，其利用重叠而没有明确的衰减

    公开(公告)号：US07259831B2

    公开(公告)日：2007-08-21

    申请号：US11396542

    申请日：2006-04-04

    申请人： Azat Latypov ,  Karel Van der Mast

    发明人： Azat Latypov ,  Karel Van der Mast

    IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/70475 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70291

    摘要： A method and system are provided for printing a pattern on a photosensitive surface using a maskless lithography system including a spatial light modulator (SLM). The method includes defining two or more exposure areas within a predetermined region of the surface, each area corresponding to selected pixels of the SLM. An overlap region is formed between the two or more exposure areas, the overlapping region being defined by respective overlapping edges of the exposure areas, the overlapping edges corresponding to overlapping pairs of the selected pixels from each area. The pixels within each pair are alternately activated such that only one of the pixels within the pair is used to produce the pattern.

    摘要翻译： 提供了一种用于使用包括空间光调制器（SLM）的无掩模光刻系统在感光表面上印刷图案的方法和系统。 该方法包括在表面的预定区域内定义两个或更多个曝光区域，每个区域对应于SLM的所选像素。 在两个或多个曝光区域之间形成重叠区域，重叠区域由曝光区域的相应重叠边缘限定，重叠边缘对应于来自每个区域的所选像素的重叠对。 每对中的像素被交替地激活，使得只有一对中的像素之一用于产生图案。

    Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same
    4.
    发明申请
    Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same 有权
    用于产生掩模图案的平版印刷设备，方法和计算机程序产品以及使用其的设备制造方法

    公开(公告)号：US20060040187A1

    公开(公告)日：2006-02-23

    申请号：US10919532

    申请日：2004-08-17

    申请人： Kars Troost ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Karel Van Der Mast

    发明人： Kars Troost ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Karel Van Der Mast

    IPC分类号： G03C5/00 ,  G06F17/50 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F7/70283 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70441

    摘要： Grayscale Optical Proximity Correction device features are added to a mask pattern by convoluting the device features with a two-dimensional correction kernel or two one-dimensional correction kernels to generate grayscale OPC features. The resulting pattern may be used in a projection lithography apparatus having a programmable patterning means that is adapted to generate three or more intensity levels. An iterative process of simulating an aerial image that would be produced by the pattern, comparing the simulation to the desired pattern, and adjusting the OPC features may be used to generate an optimum pattern for projection

    摘要翻译： 灰度光学接近校正设备特征通过使用二维校正内核或两个一维校正内核卷积设备特征来添加到掩模图案中，以生成灰度OPC功能。 所得到的图案可以用在具有适于产生三个或更多个强度水平的可编程图案形成装置的投影光刻设备中。 可以使用模拟由图案产生的空间图像，将模拟与期望图案进行比较并调整OPC特征的迭代过程来产生用于投影的最佳图案

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    6.
    发明申请
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US20060132742A1

    公开(公告)日：2006-06-22

    申请号：US11013939

    申请日：2004-12-17

    申请人： Karel Van Der Mast ,  Kars Troost

    发明人： Karel Van Der Mast ,  Kars Troost

    IPC分类号： G03B27/68

    CPC分类号： G03F7/70183 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70425

    摘要： A system and method are provided including different moveable lenses within a projection system that can be placed in the path of a radiation beam to change a magnification of the projection system. By changing the magnification of the projection system an area of a substrate exposed per pixel can be adjusted, and a throughput of the system optimized.

    摘要翻译： 提供了一种系统和方法，其包括在投影系统内的不同的可移动透镜，其可以放置在辐射束的路径中以改变投影系统的放大率。 通过改变投影系统的放大倍数，可以调整每像素曝光的衬底的面积，并优化系统的吞吐量。

    Imaging apparatus
    8.
    发明申请
    Imaging apparatus 有权
    成像设备

    公开(公告)号：US20050062948A1

    公开(公告)日：2005-03-24

    申请号：US10496630

    申请日：2002-11-27

    申请人： Karel Van Der Mast ,  Arno Bleeker

    发明人： Karel Van Der Mast ,  Arno Bleeker

    IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B11/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70516 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70425

    摘要： An imaging apparatus comprising: a radiation system for providing a projection beam of radiation; a support structure for supporting programmable patterning means, the programmable patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern; a substrate table for holding a substrate; a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate, wherein the apparatus further comprises: beam splitting means, provided between the programmable patterning means and the substrate table, serving to divert aside a portion of the patterned beam; image detection means, for analyzing said portion of the patterned beam.

    摘要翻译： 一种成像装置，包括：辐射系统，用于提供投影射束; 用于支持可编程图案形成装置的支撑结构，所述可编程图案形成装置用于根据期望图案对投影光束进行图案化; 用于保持衬底的衬底台; 用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统，其中所述装置还包括：分束装置，设置在所述可编程图案形成装置和所述基板台之间，用于将所述图案化光束的一部分转移; 图像检测装置，用于分析图案化束的所述部分。