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公开(公告)号：US20090071540A1
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：US12246516
申请日：2008-10-07
CPC分类号： H01L21/31111 , C09K13/04 , H01L31/02168 , Y02E10/547
摘要： The present invention relates firstly to HF/fluoride-free etching and doping media which are suitable both for the etching of inorganic layers and also for the doping of underlying layers. The present invention secondly also relates to a process in which these media are employed.
摘要翻译： 本发明首先涉及适用于无机层的蚀刻以及掺杂下层的HF /无氟化物蚀刻和掺杂介质。 另外本发明还涉及使用这些介质的方法。
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公开(公告)号：US20110117335A1
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：US13013576
申请日：2011-01-25
CPC分类号： B41M5/267 , Y10T428/24851
摘要： The present invention relates to the sealing of inscriptions on plastics which have been produced by means of lasers on the plastic surface.
摘要翻译： 本发明涉及通过塑料表面上的激光产生的塑料上的铭文的密封。
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公开(公告)号：US20070154642A1
公开(公告)日：2007-07-05
申请号：US11547014
申请日：2005-03-11
申请人： Sylke Klein , Tanja Lueckert
发明人： Sylke Klein , Tanja Lueckert
CPC分类号： B41M5/267 , Y10T428/24851
摘要： The present invention relates to the sealing of inscriptions on plastics which have been produced by means of lasers on the plastic surface.
摘要翻译： 本发明涉及通过塑料表面上的激光产生的塑料上的铭文的密封。
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公开(公告)号：US20060141391A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：US11289769
申请日：2005-11-30
IPC分类号： G03C1/76
CPC分类号： B42D25/435 , B41M3/14 , B41M5/24 , B42D25/00 , B42D25/21 , B42D25/23 , B42D25/29 , B42D25/41 , B42D25/43 , B42D2033/20 , C09D11/03 , C09D11/037 , G06K1/121 , G06K19/06046
摘要： Disclosed are laser markings on a document of value and methods of preparing the same which are based on the interaction of the laser radiation with the printing-ink employed.
摘要翻译： 公开了一种基于激光辐射与所用印刷油墨的相互作用的价值文件上的激光标记及其制备方法。
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公开(公告)号：US20050247674A1
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：US10526497
申请日：2003-08-08
申请人： Armin Kubelbeck , Sylke Klein , Werner Stockum
发明人： Armin Kubelbeck , Sylke Klein , Werner Stockum
IPC分类号： C09K13/02 , H01L21/306 , B44C1/22 , C03C25/68
CPC分类号： H01L21/02019 , C09K13/02 , H01L21/30604 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： The invention relates to novel etching media in the form of etching pastes for etching selected areas or the entire area of silicon surfaces and layers, in addition to the use of said media.
摘要翻译： 本发明涉及蚀刻浆料形式的新型蚀刻介质，用于蚀刻选定区域或硅表面和层的整个区域，以及使用所述介质。
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公开(公告)号：US20110018252A1
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：US12745977
申请日：2008-11-12
CPC分类号： C09C1/3054 , C01P2004/20 , C01P2004/32 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09C1/0015 , C09C1/0021 , C09C1/028 , C09C1/3045 , C09C1/407 , C09C3/063 , C09C2200/301 , C09C2210/10 , C09C2210/20 , C09C2210/50 , C09K11/02 , C09K11/025 , C09K11/584
摘要： The present invention relates to a security pigment having an intrinsic hidden and/or forensic security feature, consisting of a transparent inorganic matrix and at least one particulate material embedded in the matrix, to the use of a security pigment of this type for the pigmentation of paints, coatings and the like, and to a method for the detection of a security pigment of this type.
摘要翻译： 本发明涉及一种具有本征隐藏和/或法医安全特征的安全性颜料，其特征在于由透明无机基质和嵌入基质中的至少一种颗粒材料组成，用于使用这种类型的安全颜料用于色素沉着 油漆，涂料等，以及这种类型的安全性颜料的检测方法。
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7.发明授权Printable medium for the etching of silicon dioxide and silicon nitride layers 有权用于蚀刻二氧化硅和氮化硅层的可印刷介质公开(公告)号：US07837890B2
公开(公告)日：2010-11-23
申请号：US11813632
申请日：2005-12-19
申请人： Werner Stockum , Armin Kuebelbeck , Sylke Klein
发明人： Werner Stockum , Armin Kuebelbeck , Sylke Klein
CPC分类号： C03C15/00 , C09K13/04 , H01L21/31111 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： The present invention relates to a novel printable etching medium having non-Newtonian flow behavior for the etching of surfaces in the production of solar cells and to the use thereof. In particular, the invention relates to corresponding particle-containing compositions by means of which extremely fine structures can be etched very selectively without damaging or attacking adjacent areas.
摘要翻译： 本发明涉及一种具有非牛顿流动特性的新型可印刷蚀刻介质，用于蚀刻太阳能电池生产中的表面及其用途。 特别地，本发明涉及相应的含有颗粒的组合物，通过该组合物非常精细地结构可被非常有选择地蚀刻而不损坏或攻击邻近区域。
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公开(公告)号：US20100068889A1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：US12447921
申请日：2007-10-05
申请人： Werner Stockum , Sylke Klein , Armin Kuebelbeck
发明人： Werner Stockum , Sylke Klein , Armin Kuebelbeck
IPC分类号： H01L21/306 , C09K13/02
CPC分类号： C09K13/02 , C09K3/1481 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： The present invention relates to particle-containing etching media in the form of etching pastes which are suitable for the full-area or selective etching of extremely fine lines or structures in silicon surfaces and layers and in glass-like surfaces formed from suitable silicon compounds. The present invention also relates to the use of the pastes according to the invention in processes for etching surfaces of this type.
摘要翻译： 本发明涉及蚀刻浆料形式的含微粒蚀刻介质，其适用于在硅表面和层中以及由合适的硅化合物形成的玻璃状表面中的极细线或结构的全面或选择性蚀刻。 本发明还涉及根据本发明的浆料在这种蚀刻表面的方法中的用途。
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公开(公告)号：US20070148810A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：US10579857
申请日：2004-10-22
申请人： Sylke Klein , Armin Kuebelbeck , Werner Stockum , Jun Nakanowatari , Kiyohiko Kawamoto , Katsumi Tanino
发明人： Sylke Klein , Armin Kuebelbeck , Werner Stockum , Jun Nakanowatari , Kiyohiko Kawamoto , Katsumi Tanino
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： C09K13/08 , H01L31/022425 , H05K1/095 , H05K1/097 , Y02E10/50
摘要： [Aims] To provide functional paste with etching activity and good electrical properties. [Means] Functional paste comprising a metal powder, an etching agent, a binder and an organic solvent.
摘要翻译： [目的]提供具有蚀刻活性和良好电性能的功能性糊剂。 包括金属粉末，蚀刻剂，粘合剂和有机溶剂的功能性糊剂。
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公开(公告)号：US08540891B2
公开(公告)日：2013-09-24
申请号：US10526497
申请日：2003-08-08
申请人： Armin Kübelbeck , Sylke Klein , Werner Stockum
发明人： Armin Kübelbeck , Sylke Klein , Werner Stockum
CPC分类号： H01L21/02019 , C09K13/02 , H01L21/30604 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： The invention relates to novel etching media in the form of etching pastes for etching selected areas or the entire area of silicon surfaces and layers, in addition to the use of said media.
摘要翻译： 本发明涉及蚀刻浆料形式的新型蚀刻介质，用于蚀刻选定区域或硅表面和层的整个区域，以及使用所述介质。
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