公开(公告)号：US20120270142A1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：US13358385

申请日：2012-01-25

申请人： Hi-Kuk LEE ,  Su-Yeon SIM ,  Sang-Hyun YUN ,  Cha-Dong KIM ,  Jung-In PARK ,  Byung-Uk KIM ,  Jin-Sun KIM ,  Tae-Hoon YEO ,  Hyoc-Min YOUN ,  Sang-Hoon LEE

发明人： Hi-Kuk LEE ,  Su-Yeon SIM ,  Sang-Hyun YUN ,  Cha-Dong KIM ,  Jung-In PARK ,  Byung-Uk KIM ,  Jin-Sun KIM ,  Tae-Hoon YEO ,  Hyoc-Min YOUN ,  Sang-Hoon LEE

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/031

CPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105 ,  G03F7/2053

摘要： A photosensitive composition and a method of manufacturing a substrate used for a display device are disclosed. The photosensitive composition includes an acrylic based copolymer, a photo-initiator, a photo-sensitizer and a solvent. Thus, a photosensitivity of the photosensitive composition for ultra violet light of a long wavelength may be improved.

摘要翻译： 公开了一种光敏组合物和用于显示装置的基板的制造方法。 光敏组合物包括丙烯酸类共聚物，光引发剂，光敏剂和溶剂。 因此，可以提高光敏组合物对长波长紫外线的光敏性。

公开(公告)号：US20100222473A1

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：US12714837

申请日：2010-03-01

申请人： Hyoc-min YOUN ,  Byung-uk KIM ,  Ki-hyuk KOO ,  Tae-hoon YEO ,  Joo-pyo YUN ,  Hong-dae SHIN ,  Sang Hoon LEE ,  Dong-myung KIM ,  Su-youn CHOI ,  Jin Sun KIM ,  Chang-Min WOO ,  Hong-Suk KIM

发明人： Hyoc-min YOUN ,  Byung-uk KIM ,  Ki-hyuk KOO ,  Tae-hoon YEO ,  Joo-pyo YUN ,  Hong-dae SHIN ,  Sang Hoon LEE ,  Dong-myung KIM ,  Su-youn CHOI ,  Jin Sun KIM ,  Chang-Min WOO ,  Hong-Suk KIM

IPC分类号： C08K5/3447 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/3435

CPC分类号： G03F7/031 ,  G02F1/133345

摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition, particularly to a photosensitive resin composition for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD, comprising 0.01 to 20 wt % of UV stabilizer or radical scavenger. The photosensitive resin composition of the present invention can be used for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD to improve active unfilled area upon over exposure in liquid crystal photo-alignment process, can easily control resolution of pattern, and is particularly suitable for forming a planarization layer of an interlayer organic insulating film.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别涉及用于形成TFT-LCD用层间有机绝缘膜的感光性树脂组合物，其含有0.01〜20重量％的UV稳定剂或自由基清除剂。 本发明的感光性树脂组合物可用于形成用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜，以在液晶光取向过程中过度曝光时改善活性未填充区域，可以容易地控制图案的分辨率，并且特别适用于 形成层间有机绝缘膜的平坦化层。

公开(公告)号：US08173729B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12714837

申请日：2010-03-01

申请人： Hyoc-min Youn ,  Byung-uk Kim ,  Ki-hyuk Koo ,  Tae-hoon Yeo ,  Joo-pyo Yun ,  Hong-dae Shin ,  Sang Hoon Lee ,  Dong-myung Kim ,  Su-youn Choi ,  Jin Sun Kim ,  Chang-Min Woo ,  Hong-Suk Kim

发明人： Hyoc-min Youn ,  Byung-uk Kim ,  Ki-hyuk Koo ,  Tae-hoon Yeo ,  Joo-pyo Yun ,  Hong-dae Shin ,  Sang Hoon Lee ,  Dong-myung Kim ,  Su-youn Choi ,  Jin Sun Kim ,  Chang-Min Woo ,  Hong-Suk Kim

IPC分类号： C08K5/3447 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/3435

CPC分类号： G03F7/031 ,  G02F1/133345

摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition, particularly to a photosensitive resin composition for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD, comprising 0.01 to 20 wt % of UV stabilizer or radical scavenger. The photosensitive resin composition of the present invention can be used for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD to improve active unfilled area upon over exposure in liquid crystal photo-alignment process, can easily control resolution of pattern, and is particularly suitable for forming a planarization layer of an interlayer organic insulating film.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别涉及用于形成TFT-LCD用层间有机绝缘膜的感光性树脂组合物，其含有0.01〜20重量％的UV稳定剂或自由基清除剂。 本发明的感光性树脂组合物可用于形成用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜，以在液晶光取向过程中过度曝光时改善活性未填充区域，可以容易地控制图案的分辨率，并且特别适用于 形成层间有机绝缘膜的平坦化层。