公开(公告)号：US4535052A

公开(公告)日：1985-08-13

申请号：US645115

申请日：1984-08-28

申请人： Albert G. Anderson ,  Thomas E. Dueber

发明人： Albert G. Anderson ,  Thomas E. Dueber

IPC分类号： C08F2/50 ,  G03F7/031 ,  G03C1/94 ,  G03C1/68

CPC分类号： G03F7/031 ,  C08F2/50 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/126

摘要： Photopolymerizable compositions comprising(a) at least one ethylenically unsaturated compound,(b) at least one organic polymeric binder,(c) optionally at least one photoinitiator and(d) at least one constrained N-alkylamino aryl ketone compound as defined, e.g., bis(9-julolidyl ketone), bis-(N-ethyl-1,2,3,4-tetrahydro-6-quinolyl)ketone, etc. The compositions, in layer form, are useful in photoresists, including projection speed photoresists, printing plates, drafting and toning films, etc.

摘要翻译： 至少一种烯键式不饱和化合物，（b）至少一种有机聚合物粘合剂，（c）任选的至少一种光引发剂和（d）至少一种约束的N-烷基氨基芳基酮化合物的光聚合组合物， 双（9-果胶烯酮），双（N-乙基-1,2,3,4-四氢-6-喹啉基）酮等。层形式的组合物可用于光致抗蚀剂，包括投影速度光致抗蚀剂， 印版，起草和调色膜等

公开(公告)号：US4351893A

公开(公告)日：1982-09-28

申请号：US221887

申请日：1980-12-31

申请人： Albert G. Anderson

发明人： Albert G. Anderson

IPC分类号： C07C45/46 ,  C07D215/12 ,  C07D295/112 ,  C07D455/04 ,  G03F7/031 ,  G03C1/68

CPC分类号： C07D295/112 ,  C07C45/46 ,  C07D215/12 ,  C07D455/04 ,  G03F7/031 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121

摘要： Sensitizers for photopolymerizable compositions, the sensitizers being .alpha.,.beta.-unsaturated ketones derived from acetyltetrahydronaphthalene or acetylindane and dialkylaminoaryl aldehyde; and the photopolymerizable compositions comprising said sensitizers.

摘要翻译： 用于可光聚合组合物的敏化剂，敏化剂是α，衍生自乙酰四氢萘或乙酰基二氢化茚和二烷基氨基芳基醛的β-不饱和酮; 和包含所述敏化剂的光聚合组合物。

公开(公告)号：US20130035272A1

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：US13354145

申请日：2012-01-19

申请人： Wai Mun Lee ,  Hua Cui ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

发明人： Wai Mun Lee ,  Hua Cui ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

IPC分类号： C11D7/60 ,  C11D3/60 ,  G03F7/42

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/43 ,  C11D7/3209 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02074

摘要： Semiconductor processing compositions comprising amidoxime compounds having two or more amidoxime functional groups and their use in semiconductor processing to remove photoresist, polymeric materials, etching residues and copper oxides from semiconductor substrates, particularly substrates comprising copper, low-k dielectric material, titanium nitride, and/or titanium oxynitride.

摘要翻译： 包含具有两个或更多个偕胺肟官能团的偕胺肟化合物的半导体处理组合物及其在半导体处理中用于从半导体衬底，特别是包含铜，低k电介质材料，氮化钛和/或氧化物的衬底去除光致抗蚀剂，聚合物材料，蚀刻残余物和铜氧化物的用途 /或氮氧化钛。

公开(公告)号：US20090107520A1

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：US12260358

申请日：2008-10-29

申请人： Wai Mun Lee ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

发明人： Wai Mun Lee ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

IPC分类号： C23G1/00 ,  C11D1/66

CPC分类号： G03F7/422 ,  C01B21/1445 ,  C11D3/32 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02041

摘要： The present invention is a composition and cleaning method for use in semiconductor processes wherein the compositions comprises at least one amidoxime compound.

摘要翻译： 本发明是用于半导体工艺的组合物和清洁方法，其中组合物包含至少一种偕胺肟化合物。

公开(公告)号：US06271340B1

公开(公告)日：2001-08-07

申请号：US09341282

申请日：1999-11-05

申请人： Albert G. Anderson ,  Alexei Gridnev ,  Graeme Moad ,  Ezio Rizzardo ,  San Hoa Thang

发明人： Albert G. Anderson ,  Alexei Gridnev ,  Graeme Moad ,  Ezio Rizzardo ,  San Hoa Thang

IPC分类号： C08G7356

CPC分类号： C07D235/02 ,  C07D233/38 ,  C08F2/38 ,  C08F4/00 ,  C08F220/14 ,  C08F293/005 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2438/02 ,  C08F212/08

摘要： This invention concerns the preparation of polymers of low polydispersity and/or controlled molecular weight and architecture employing living free radical polymerization initiated by an alkoxyamine initiator or nitroxide plus, optionally a free radical initiator, the polymer produced thereby; selected nitroxide and alkoxyamine initiators; and a process for making the initiators; the polymeric products being useful in protective coatings.

摘要翻译： 本发明涉及使用由烷氧基胺引发剂或氮氧化物加任选的自由基引发剂引发的由其制备的聚合物引发的活性自由基聚合的低多分散性和/或受控分子量和结构的聚合物的制备; 选择的氮氧化物和烷氧基胺引发剂; 和制备引发剂的方法; 聚合物产品可用于保护涂层。

公开(公告)号：US4487856A

公开(公告)日：1984-12-11

申请号：US475077

申请日：1983-03-14

申请人： Albert G. Anderson ,  Edward G. Howard, Jr.

发明人： Albert G. Anderson ,  Edward G. Howard, Jr.

IPC分类号： C09K5/06 ,  C08K9/00

CPC分类号： C09K5/06

摘要： Heat storage composite consisting essentially of about 2-55% of an organic latent heat material and about 45-98% of a filled ethylene polymer.

摘要翻译： 基本上由约2-55％的有机潜热材料和约45-98％的填充的乙烯聚合物组成的储热复合材料。

公开(公告)号：US08802609B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13354145

申请日：2012-01-19

申请人： Wai Mun Lee ,  Hua Cui ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

发明人： Wai Mun Lee ,  Hua Cui ,  Mark A. Scialdone ,  Albert G. Anderson

IPC分类号： C11D3/60 ,  C11D11/00 ,  C11D7/32 ,  C11D3/43 ,  H01L21/02

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/43 ,  C11D7/3209 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02074

摘要： Semiconductor processing compositions comprising amidoxime compounds having two or more amidoxime functional groups and their use in semiconductor processing to remove photoresist, polymeric materials, etching residues and copper oxides from semiconductor substrates, particularly substrates comprising copper, low-k dielectric material, titanium nitride, and/or titanium oxynitride.

摘要翻译： 包含具有两个或更多个偕胺肟官能团的偕胺肟化合物的半导体处理组合物及其在半导体处理中用于从半导体衬底，特别是包含铜，低k电介质材料，氮化钛和/或氧化物的衬底去除光致抗蚀剂，聚合物材料，蚀刻残余物和铜氧化物的用途 /或氮氧化钛。

公开(公告)号：US06908539B2

公开(公告)日：2005-06-21

申请号：US10187502

申请日：2002-07-02

申请人： Albert G. Anderson ,  Allisa Gam

发明人： Albert G. Anderson ,  Allisa Gam

IPC分类号： C08G18/28 ,  C08G18/58 ,  C08G18/80 ,  C09D5/44 ,  C09D163/00 ,  C09D175/04 ,  C09D201/02 ,  C25D13/10

CPC分类号： C08G18/2875 ,  C08G18/581 ,  C08G18/807 ,  C09D5/4453

摘要： An improved aqueous cathodic electrocoating composition having a binder of an epoxy-amine adduct and a polyisocyanate crosslinking agent; wherein the improvement is the use of a polyisocyanate crosslinking agent having at least one crosslinkable morpholine dione group per molecule. Electrodeposited finishes are formed that have reduced volatile emissions and film weight loss when heated to cure.

公开(公告)号：US06388004B1

公开(公告)日：2002-05-14

申请号：US09851547

申请日：2001-05-09

申请人： Albert G. Anderson ,  Alexei Gridnev

发明人： Albert G. Anderson ,  Alexei Gridnev

IPC分类号： C08J303

CPC分类号： C07D235/02 ,  C07D233/38 ,  C08F2/38 ,  C08F4/00 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F212/08

摘要： The present invention concerns the preparation of polymers of low polydispersity and/or controlled molecular weight and architecture employing living free radical polymerization initiated by an alkoxyamine initiator or nitroxide plus, optionally, a free radical initiator, the polymer produced thereby; selected nitroxide and alkoxyamine initiators; and a process for making the initiators; the polymeric products being useful in protective coatings.

公开(公告)号：US4962979A

公开(公告)日：1990-10-16

申请号：US306126

申请日：1989-02-03

申请人： Albert G. Anderson ,  David F. Eaton ,  Wilson Tam ,  Ying Wang

发明人： Albert G. Anderson ,  David F. Eaton ,  Wilson Tam ,  Ying Wang

IPC分类号： G02F1/361

CPC分类号： G02F1/3619

摘要： There are disclosed a nonlinear optical element capable of second harmonic generation comprising a crystalline inclusion complex of a lattice-forming host compound crystallized with continuous channel cavities in the presence of a nonlinearly polarizable guest compound in a noncentrosymmetric space group, said guest compound having specified properties, and both said guest and host being selected from specified classes; a nonlinear optical device; a method of generating second harmonic radiation; and an electro-optic modulator.

摘要翻译： 公开了一种能够进行二次谐波生成的非线性光学元件，其包含在非对称空间群中存在非线性可极化的客体化合物的结晶的连续通道空穴的晶格形成主体化合物的结晶包合络合物，所述客体化合物具有特定的性质 ，并且所述客人和主机都从指定的类中选择; 非线性光学装置; 一种产生二次谐波辐射的方法; 和电光调制器。