公开(公告)号：US06724466B2

公开(公告)日：2004-04-20

申请号：US10107663

申请日：2002-03-26

申请人： Kazuya Ono ,  Andrew J. Hazelton

发明人： Kazuya Ono ,  Andrew J. Hazelton

IPC分类号： G03B2758

CPC分类号： G03F7/70766 ,  G03F7/70716

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (30) includes a stage (14), a stage mover assembly (16), a device table (18), a table mover assembly (20) and a damping assembly (22). The table mover assembly (20) moves the device table (18) along a Z axis, about an X axis and about a Y axis relative to the stage (14) and generates reaction forces. The damping assembly (22) is coupled to the table mover assembly (20). Uniquely, the damping assembly (22) reduces the reaction forces created by the table mover assembly (20) that are transferred to the stage (14).

摘要翻译： 用于移动和定位装置（30）的平台组件（10）包括台架（14），平台移动器组件（16），装置台（18），台动机组件（20）和阻尼组件（22） ）。 台式移动器组件（20）沿Z轴围绕X轴移动设备台（18），并相对于平台（14）绕Y轴移动并产生反作用力。 阻尼组件（22）联接到台式推动器组件（20）。 唯一地，阻尼组件（22）减小了由移动器组件（20）产生的反作用力，这些反作用力被传递到载物台（14）。

公开(公告)号：US06323567B1

公开(公告)日：2001-11-27

申请号：US09471296

申请日：1999-12-24

申请人： Andrew J. Hazelton ,  Kazuya Ono

发明人： Andrew J. Hazelton ,  Kazuya Ono

IPC分类号： H02K4100

CPC分类号： H02K9/19 ,  H02K41/03

摘要： A circulating system (10) for cooling a shaft-type linear motor (12) is provided herein. The motor (12) includes a magnet array (22) and a coil assembly (16). The circulating system (10) includes coil housing (36) that encircles the coil assembly (16) and defines a fluid passageway (46) between the coil housing (36) and the coil assembly (16). Fluid (44) from a fluid source (42) is forced through an inlet (38) into the fluid passageway (46). The flow rate of the fluid (44) is controlled to maintain an outer surface (111) of the coil housing (36) at a set temperature to control the effect of the motor (12) on the surrounding environment and the surrounding components.

摘要翻译： 本发明提供一种用于冷却轴型线性马达（12）的循环系统（10）。 马达（12）包括磁体阵列（22）和线圈组件（16）。 循环系统（10）包括环绕线圈组件（16）并限定在线圈壳体（36）和线圈组件（16）之间的流体通道（46）的线圈壳体（36）。 来自流体源（42）的流体（44）被迫通过入口（38）进入流体通道（46）。 控制流体（44）的流速以将线圈壳体（36）的外表面（111）保持在设定温度以控制电动机（12）对周围环境和周围部件的影响。

公开(公告)号：US06750625B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US09929025

申请日：2001-08-15

申请人： Michael Binnard ,  Kazuya Ono ,  Andrew J. Hazelton

发明人： Michael Binnard ,  Kazuya Ono ,  Andrew J. Hazelton

IPC分类号： G05B1118

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70825 ,  H01L21/682 ,  H02K41/03 ,  H02K2201/18

摘要： A high accuracy stage supported in six degrees of freedom by electromagnetic bearings. Movements in the horizontal plane of the stage are controlled by variable reluctance actuators which are mounted between the high accuracy stage and a coarse stage so as not to distort the high accuracy stage during movements thereof. The high accuracy stage is supported in three vertical degrees of freedom by electromagnetic actuators disposed between the coarse stage and the high accuracy stage and aided by a supplemental vertical support disposed adjacent to the actuators. Preferably, the high accuracy stage is suspended from a bar supported by the supplemental vertical support, which is preferably air bellows.

摘要翻译： 电磁轴承采用六自由度的高精度级。 在舞台的水平面中的运动由可变磁阻致动器控制，该致动器安装在高精度级与粗级之间，以便在其运动期间不会使高精度级失真。 高精度级通过设置在粗级和高精度级之间的电磁致动器在三个垂直自由度中得到支持，并且辅助于靠近致动器设置的辅助垂直支撑。 优选地，高精度级从由辅助垂直支撑件支撑的杆悬挂，该杆优选为空气波纹管。

公开(公告)号：US20120019792A1

公开(公告)日：2012-01-26

申请号：US13200982

申请日：2011-10-06

申请人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

发明人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A liquid immersion lithography apparatus includes a stage on which a wafer is held. A projection system projects a pattern image to an exposure region through an immersion liquid to expose the wafer on the stage. A plurality of supply openings are arranged to surround the exposure region, via which the liquid is supplied from above the exposure region. A plurality of recovery openings are arranged to surround the exposure region, via which the liquid is collected from above the exposure region. A part of the supply openings are selected so as to supply the liquid ahead of the exposure region in a direction in which the stage moves.

摘要翻译： 液浸光刻设备包括其上保持晶片的台。 投影系统通过浸没液将图案图像投影到曝光区域，以露出台上的晶片。 多个供应开口布置成围绕曝光区域，液体从曝光区域的上方供应。 多个恢复开口被布置成围绕曝光区域，通过该曝光区域从曝光区域上方收集液体。 选择供给开口的一部分，以便在台架移动的方向上将曝光区域前方的液体供给。

公开(公告)号：US07929111B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11819447

申请日：2007-06-27

申请人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

发明人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic projection apparatus that is arranged to project a pattern from a patterning device onto a substrate using a projection system has a liquid supply system arranged to supply a liquid to a space between the projection system and the substrate. The apparatus also includes a liquid collecting system that includes a liquid collection member having a mesh member through which a liquid is collected from a surface of an object opposite to the liquid collection member.

摘要翻译： 布置成使用投影系统从图案形成装置将图案投影到基板上的光刻投影装置具有布置成将液体供应到投影系统和基板之间的空间的液体供应系统。 该装置还包括液体收集系统，该液体收集系统包括具有网状构件的液体收集构件，通过该网状构件从与液体收集构件相对的物体的表面收集液体。

公开(公告)号：US07869000B2

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：US11048405

申请日：2005-01-31

申请人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

发明人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70716

摘要： A stage assembly (220) that moves a work piece (200) along a first axis, along a second axis and along a third axis includes a first stage (238), a first mover assembly (242) that moves the first stage (238) along the first axis, a second stage (240) that retains the work piece (200), a second mover assembly (244), and a non-contact bearing (257). The second mover assembly (244) moves the second stage (240) relative to the first stage (238) along the first axis, along the second axis, and along the third axis. The non-contact bearing (257) supports the mass of the second stage (240). Further, the non-contact bearing (257) allows the second stage (240) to move relative to the first stage (238) along the first axis and along the second axis. The second mover assembly (244) can move the second stage (240) with at least four degrees of movement.

摘要翻译： 沿着第二轴线沿着第三轴线沿着第一轴线移动工件（200）的台架组件（220）包括第一阶段（238），第一移动器组件（242），其使第一阶段（238）移动 ），保持所述工件（200）的第二级（240），第二移动器组件（244）和非接触式轴承（257）。 第二移动器组件（244）沿着第一轴线沿着第二轴线和第三轴线相对于第一阶段（238）移动第二阶段（240）。 非接触轴承（257）支撑第二级（240）的质量。 此外，非接触式轴承（257）允许第二级（240）相对于第一级（238）沿着第一轴线并沿着第二轴线移动。 第二移动器组件（244）可以以至少四个移动程度移动第二平台（240）。

公开(公告)号：US07462958B2

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：US11067813

申请日：2005-02-28

申请人： Andrew J. Hazelton

发明人： Andrew J. Hazelton

IPC分类号： H02K41/00 ,  H02N2/00

CPC分类号： G03F7/70816 ,  G03F7/70758 ,  H02K41/0354 ,  H02K2201/18 ,  H02N15/02

摘要： Methods and apparatus which are suitable for actuating a stage relative to a z-axis and supporting the weight of the stage against the force of gravity are disclosed. According to one aspect of the present invention, an actuator device includes a first arrangement, a magnetic system, a piston, and a guide bearing arrangement. The first arrangement includes a yoke and a center pole, and the magnetic system includes a magnet that is coupled to the yoke as well as a coil which cooperate to function as a voice coil motor. The piston supports at least a weight associated with the first arrangement, and the guide bearing arrangement includes a planar air bearing that enables the device to move over an external surface.

摘要翻译： 公开了适于致动相对于z轴的台阶并且抵抗重力支撑台的重量的方法和装置。 根据本发明的一个方面，致动器装置包括第一装置，磁性系统，活塞和导向轴承装置。 第一装置包括轭和中心极，并且磁系统包括耦合到轭的磁体以及配合用作音圈电动机的线圈。 所述活塞至少支撑与所述第一装置相关的重物，并且所述导向轴承装置包括能够使所述装置在外表面上移动的平面空气轴承。

公开(公告)号：US06882126B2

公开(公告)日：2005-04-19

申请号：US09997144

申请日：2001-11-29

申请人： Douglas C. Watson ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton ,  Martin E. Lee

发明人： Douglas C. Watson ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton ,  Martin E. Lee

IPC分类号： B64C17/06 ,  G05B1/06

CPC分类号： B23Q1/623

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (26) includes a device table (20), a device holder (24) that retains the device (26), and a stage mover assembly (14). The stage assembly (10) includes one or more features that can isolate the device holder 24 and the device (26) from deformation. In some embodiments, the stage assembly (10) allows precise rotation of the device (26) between a first position (42) and a second position (44) without influencing the flatness of the device (26) and without deflecting and distorting the device (26). For example, the stage assembly (10) can include a carrier (60) and a holder connector assembly (62). The carrier (60) is supported above the device table (20) and rotates relative to the device table (20). The holder connector assembly (62) connects the device holder (24) to the carrier (60). Further, the stage assembly (10) can include a holder mover (120) that rotates the device holder (24) relative to the device table (20). Additionally, the stage assembly (10) can include a fluid connector (94) that connects the device holder (24) in fluid communication with the device table (20).

摘要翻译： 用于移动和定位装置（26）的平台组件（10）包括装置台（20），保持装置（26）的装置保持器（24）和平台移动器组件（14）。 台架组件（10）包括可以隔离设备保持器24和设备（26）不变形的一个或多个特征。 在一些实施例中，台架组件（10）允许装置（26）在第一位置（42）和第二位置（44）之间精确地旋转，而不影响装置（26）的平坦度，并且不会使装置偏转和变形 （26）。 例如，台架组件（10）可以包括托架（60）和托架连接器组件（62）。 载体（60）被支撑在装置台（20）上方并相对于装置台（20）旋转。 支架连接器组件（62）将装置支架（24）连接到支架（60）上。 此外，台架组件（10）可以包括相对于设备台（20）旋转设备保持器（24）的保持器移动器（120）。 另外，台架组件（10）可以包括流体连接器（94），其连接与装置台（20）流体连通的装置保持器（24）。

公开(公告)号：US06880942B2

公开(公告)日：2005-04-19

申请号：US10460644

申请日：2003-06-13

申请人： Andrew J. Hazelton ,  W. Thomas Novak ,  Alton H. Phillips ,  Douglas C. Watson

发明人： Andrew J. Hazelton ,  W. Thomas Novak ,  Alton H. Phillips ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G02B26/0825

摘要： Adaptive optical elements for use in high precision lithography exposure are provided with an array of discrete actuators to provide highly stable and repeatable correction of the shape of an optical element to an accuracy of a small fraction of a very short wavelength of light in the EUV range of 1 to 50 nanometers, responsive to a metrology source and sensor arrangement. The actuators are matched to the deformation characteristics of the adaptive optical elements. Preferably, the actuators provide both positive and negative force for outward and/or inward deflection continuously over the surface of the mirror. The surface of the optical element may thus be accurately, controllably and repeatably deformed to within an allowable deformation limit to optimize optical performance of an optical system for high precision lithography exposure.

摘要翻译： 用于高精度光刻曝光的自适应光学元件设置有离散致动器的阵列，以提供高度稳定且可重复的光学元件形状的校正，使其在EUV范围内的非常短波长的光的一小部分的精度 1至50纳米，响应于测量源和传感器布置。 致动器与自适应光学元件的变形特性相匹配。 优选地，致动器在反射镜的表面上连续地向外和/或向内偏转提供正的和负的力。 因此，光学元件的表面因此可以精确地，可控地和可重复地变形到允许的变形极限内，以优化用于高精度光刻曝光的光学系统的光学性能。

公开(公告)号：US06285438B1

公开(公告)日：2001-09-04

申请号：US09314146

申请日：1999-05-19

申请人： Andrew J. Hazelton ,  Bausan Yuan

发明人： Andrew J. Hazelton ,  Bausan Yuan

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70358 ,  G03F7/70725

摘要： A positioning method in which a system performs operations relative to areas on a substrate by a series of relative movements between the system and substrate scanning exposures. The method includes the steps of disposing a first area relative to a system performing an operation relative to the first area, and moving the substrate from a first position where the first operation relative to the first area has finished to a second position where a second operation relative to a second area is to start, and synchronously moving the system from a third position where the first operation relative to the first area has finished to a fourth position where the second operation relative to the second area is to start. An acceleration of the substrate during movement from the first position to the second position and an acceleration of the system during movement from the third position to the fourth position continually have absolute values greater than zero.

摘要翻译： 一种定位方法，其中系统通过系统和基板扫描曝光之间的一系列相对移动来执行相对于基板上的区域的操作。 该方法包括以下步骤：相对于执行相对于第一区域的操作的系统布置第一区域，以及将基板相对于第一区域的第一操作完成的第一位置移动到第二位置，在第二位置，第二操作 相对于第二区域开始，并且使系统从第一操作相对于第一区域的第三位置完成移动到相对于第二区域的第二操作开始的第四位置。 在从第一位置移动到第二位置期间的基板的加速度以及从第三位置到第四位置的运动期间的系统的加速度连续地具有大于零的绝对值。