公开(公告)号：US20020075624A1

公开(公告)日：2002-06-20

申请号：US09929806

申请日：2001-08-13

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： You Wang ,  Shamouil Shamouilian ,  Arnold Kholodenko ,  Alexander M. Veytser ,  Surinder S. Bedi ,  Kadthala R. Narendrnath ,  Semyon L. Kats ,  Dennis S. Grimard ,  Wing L. Cheng ,  Ananda H. Kumar

IPC分类号： H05F001/00

CPC分类号： C04B37/026 ,  C04B37/006 ,  C04B37/021 ,  C04B2237/121 ,  C04B2237/122 ,  C04B2237/123 ,  C04B2237/124 ,  C04B2237/341 ,  C04B2237/343 ,  C04B2237/348 ,  C04B2237/36 ,  C04B2237/365 ,  C04B2237/366 ,  C04B2237/368 ,  C04B2237/401 ,  C04B2237/402 ,  C04B2237/403 ,  C04B2237/406 ,  C04B2237/407 ,  C04B2237/61 ,  C04B2237/62 ,  C04B2237/64 ,  C04B2237/74 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833

摘要： An electrostatic chuck for holding a substrate has an electrostatic member having a dielectric covering an electrode that is chargeable to electrostatically hold the substrate. The bond layer has a metal layer that is infiltrated or brazed between the electrostatic member and the base. The base may be a composite of a ceramic and metal, the composite having a coefficient of thermal expansion within about null30% of a coefficient of thermal expansion of the electrostatic member. The base may also have a heater.

摘要翻译： 用于保持基板的静电卡盘具有静电部件，该静电部件具有覆盖可以静电保持基板的电极的电介质。 接合层具有在静电部件和基体之间渗透或钎焊的金属层。 该基底可以是陶瓷和金属的复合材料，该复合材料的热膨胀系数在静电构件的热膨胀系数的±30％以内。 基座也可以具有加热器。

公开(公告)号：US20020135969A1

公开(公告)日：2002-09-26

申请号：US10095914

申请日：2002-03-12

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Edwin C. Weldon ,  Kenneth S. Collins ,  Arik Donde ,  Brian Lue ,  Dan Maydan ,  Robert J. Steger ,  Timothy Dyer ,  Ananda H. Kumar ,  Alexander M. Veytser ,  Kadthala R. Narendrnath ,  Semyon L. Kats ,  Arnold Kholodenko ,  Shamouil Shamouilian ,  Dennis S. Grimard

IPC分类号： H01H001/00

CPC分类号： H01J37/321 ,  C23C16/4586 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T279/23

摘要： An electrostatic chuck has an electrode capable of being electrically charged to electrostatically hold a substrate. A composite layer covers the electrode. The composite layer comprises (1) a first dielectric material covering a central portion of the electrode, and (2) a second dielectric material covering a peripheral portion of the electrode, the second dielectric material having a different composition than the composition of the first dielectric material. The chuck is useful in a plasma process chamber to process substrates, such as semiconductor wafers.

摘要翻译： 静电吸盘具有能够带电的电极，以静电保持基板。 复合层覆盖电极。 复合层包括（1）覆盖电极的中心部分的第一电介质材料，和（2）覆盖电极的周边部分的第二电介质材料，第二电介质材料的组成不同于第一电介质的组成 材料。 卡盘在等离子体处理室中可用于处理诸如半导体晶片的基板。

公开(公告)号：US20040190215A1

公开(公告)日：2004-09-30

申请号：US10767792

申请日：2004-01-28

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Edwin C. Weldon ,  Kenneth S. Collins ,  Arik Donde ,  Brian Lue ,  Dan Maydan ,  Robert J. Steger ,  Timothy Dyer ,  Ananda H. Kumar ,  Alexander M. Veytser ,  Kadthala R. Narendrnath ,  Semyon L. Kats ,  Arnold Kholodenko ,  Shamouil Shamouilian ,  Dennis S. Grimard

IPC分类号： H02H001/00

CPC分类号： H01J37/321 ,  C23C16/4586 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T279/23

摘要： An electrostatic chuck comprises a dielectric member comprising (i) a first layer comprising a semiconductive material, and (ii) a second layer over the first layer, the second layer comprising an insulative material. The insulative material has a higher electrical resistance than the semiconductive material. An electrode in the dielectric member is chargeable to generate an electrostatic force. The chuck is useful to hold substrates, such as semiconductor wafers, during their processing in plasma processes.

摘要翻译： 静电卡盘包括电介质构件，其包括（i）包含半导体材料的第一层，和（ii）第一层上的第二层，第二层包括绝缘材料。 绝缘材料具有比半导体材料更高的电阻。 电介质构件中的电极可充电以产生静电力。 卡盘在等离子体工艺中的处理期间用于保持诸如半导体晶片的基板。