公开(公告)号：US20070273853A1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：US11655999

申请日：2007-01-22

申请人： Arno Bleeker ,  Donis Flagello ,  Robert Socha ,  James Greeneich ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Donis Flagello ,  Robert Socha ,  James Greeneich ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/705

摘要： A method of transferring an image of a pattern layout onto a surface of a substrate including selecting a first illumination profile for a first area of the pattern layout and a second illumination profile for a second area of the pattern layout; switching illumination profile during transfer of the image of the pattern layout such that the first area of the pattern layout is illuminated with the first illumination profile and the second area is illuminated with the second illumination profile; and projecting an image of the illuminated first and second areas onto the surface of the substrate.

摘要翻译： 将图案布局的图像转印到基板的表面上的方法，包括为图案布局的第一区域选择第一照明轮廓，以及为图案布局的第二区域选择第二照明轮廓; 在图案布局的图像传送期间切换照明轮廓，使得图案布局的第一区域被第一照明轮廓照亮，并且第二区域被第二照明轮廓照亮; 以及将照射的第一和第二区域的图像投影到基板的表面上。

公开(公告)号：US20070153249A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11311643

申请日：2005-12-20

申请人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  James Greeneich

发明人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  James Greeneich

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70508

摘要： A lithographic apparatus and method in which a relatively high resolution exposure, for example of a repeating pattern, is trimmed using a relatively low resolution exposure. According, a compromise between provision of a high resolution pattern and flexibility in the pattern to be formed is provided.

摘要翻译： 使用相对低分辨率曝光来修整例如重复图案的相对高分辨率曝光的光刻设备和方法。 提供了提供高分辨率图案和形成的图案的灵活性之间的妥协。

公开(公告)号：US20060221320A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11098607

申请日：2005-04-05

申请人： Arno Bleeker ,  Kars Troost ,  Adrianus Maas

发明人： Arno Bleeker ,  Kars Troost ,  Adrianus Maas

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70508 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic system in which multiple variations of a basic device design can be generated without substantially increasing the cost of the data path hardware.

摘要翻译： 可以在不显着增加数据路径硬件的成本的情况下生成基本设备设计的多个变化的光刻系统。

公开(公告)号：US20060245033A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11116338

申请日：2005-04-28

申请人： Nabila Baba-Ali ,  Arno Bleeker ,  Kars Troost

发明人： Nabila Baba-Ali ,  Arno Bleeker ,  Kars Troost

IPC分类号： G02B26/00

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70308 ,  G09G3/346 ,  H04N5/7458

摘要： A light patterning system comprises an illumination system that supplies a beam of radiation having a certain wavelength (λ). An array of reflective pixels patterns the beam, wherein the array includes pixels having at least a first tilting mirror that is logically coupled to a second tilting mirror. In an embodiment, the first and second tilting mirrors are (i) substantially adjacent to each other; and (ii) offset in height from each other by a first mirror displacement. A projection system is included that projects the patterned beam onto a target. In alternate embodiment, the array of reflective pixels includes pixels having first through fourth tilting mirrors that are logically coupled to each other. The first through fourth tilting mirrors are (i) respectively offset in height from a reference plane by first through fourth mirror displacements, and (ii) are respectively arranged clockwise in a substantially square pattern.

摘要翻译： 光图案化系统包括提供具有一定波长（λ）的辐射束的照明系统。 反射像素阵列对光束进行图案化，其中阵列包括至少具有逻辑耦合到第二倾斜镜的第一倾斜镜的像素。 在一个实施例中，第一和第二倾斜镜是（i）基本上彼此相邻; 和（ii）通过第一反射镜位移使高度彼此抵消。 包括将图案化的光束投影到目标上的投影系统。 在替代实施例中，反射像素阵列包括具有彼此逻辑耦合的第一至第四倾斜镜的像素。 第一至第四倾斜镜（i）分别通过第一到第四镜面位移而偏离参考平面，并且（ii）分别以基本上正方形的图案顺时针地布置。

公开(公告)号：US20060115752A1

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：US10998991

申请日：2004-11-30

申请人： Azat Latypov ,  Arno Bleeker ,  Jang Chen ,  Kars Troost

发明人： Azat Latypov ,  Arno Bleeker ,  Jang Chen ,  Kars Troost

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

摘要： A method and system are used to modify pattern data obtained in relation to a pattern on a static patterning device. It is suggested that, in an example when a maskless lithography tool is used, continuous OPC-enhanced features used for maskless lithography rasterization should include a variation in local amplitude and phase transmittance that matches modulation capabilities of a patterning device being used. The modified pattern data is used by a dynamic patterning device to pattern impinging light, which is then projected onto an object. The system and method comprise using a pattern data generating device, a modification device, a dynamic pattern generator, and a projection system. The pattern data generating device generates pattern data corresponding to a pattern on a static patterning device. The modification device receives the pattern data and modifies the pattern data using characteristics of a type of the dynamic pattern generator being used. The dynamic pattern generator receives the modified patterned data and uses the modified pattern data to pattern the beam of radiation. The projection system projects the patterned beam onto the object.

摘要翻译： 使用方法和系统来修改相对于静态图案形成装置上的图案获得的图案数据。 建议在使用无掩模光刻工具的示例中，用于无掩模光刻光栅化的连续OPC增强特征应包括与正在使用的图案形成装置的调制能力相匹配的局部振幅和相位透射率的变化。 修改的图案数据由动态图案形成装置用于对入射光进行图案化，然后将其投影到物体上。 该系统和方法包括使用图案数据生成装置，修改装置，动态图案生成器和投影系统。 图案数据生成装置生成与静态图案形成装置上的图案对应的图案数据。 修改设备接收图案数据，并使用所使用的动态图案生成器的类型的特征来修改图案数据。 动态图案生成器接收经修改的图案数据并使用经修改的图案数据来对辐射束进行图案化。 投影系统将图案化的光束投射到物体上。

公开(公告)号：US20070139633A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11311640

申请日：2005-12-20

申请人： Arno Bleeker ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/7045 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/70466

摘要： A lithographic system combining an interference exposure unit and a lithography unit. The lithography unit can comprise an array of individually controllable elements. The lithography system can be arranged such that a pitch of the lines exposed by the interference exposure unit is an integer multiple of a size of an exposure area of the lithography unit corresponding to a single individually controllable element.

摘要翻译： 组合干涉曝光单元和光刻单元的光刻系统。 光刻单元可以包括单独可控元件的阵列。 光刻系统可以布置成使得由干涉曝光单元曝光的线的间距是与单个可单独控制的元件对应的光刻单元的曝光区域的尺寸的整数倍。

公开(公告)号：US20070030471A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：US11580134

申请日：2006-10-13

申请人： Kars Troost ,  Arno Bleeker

发明人： Kars Troost ,  Arno Bleeker

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70425

摘要： A system and method are used to manufacture a device using at least one exposure step. Each exposure step projects a patterned beam of radiation onto a substrate. The patterned beam includes a plurality of pixels. Each pixel delivers a radiation dose no greater than a predetermined normal maximum dose to the target portion in the exposure step and/or at least one selected pixel delivers an increased radiation dose, greater than the normal maximum dose. The increased dose may be delivered to compensate for the effect of a defective element at a known position in the array on a pixel adjacent a selected pixel or compensate for underexposure of the target portion at the location of a selected pixel resulting from exposure of that location to a pixel affected by a known defective element in another exposure step.

摘要翻译： 使用系统和方法来制造使用至少一个曝光步骤的装置。 每个曝光步骤将图案化的辐射束投射到衬底上。 图案化的波束包括多个像素。 每个像素在曝光步骤中向目标部分提供不大于预定正常最大剂量的辐射剂量，和/或至少一个所选择的像素传递大于正常最大剂量的增加的辐射剂量。 可以递送增加的剂量以补偿阵列中与已选择像素相邻的像素处的已知位置处的有缺陷元件的影响，或者补偿由于该位置的曝光导致的所选像素的位置处的目标部分的曝光不足 涉及在另一曝光步骤中受已知缺陷元件影响的像素。

公开(公告)号：US20060203220A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US11252877

申请日：2005-10-19

申请人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Louis Markoya ,  Neal Callan ,  Nicholas Eib

发明人： Kars Troost ,  Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Louis Markoya ,  Neal Callan ,  Nicholas Eib

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358

摘要： The tilt and position of individually controllable element are simultaneously adjusted to allow a greater range of contrasts to be achieved. This can also be used to compensate for cupping of individually controllable elements. Simultaneous adjustment of both the position and tilt of the individually controllable elements can be achieved by two electrodes operable over a range of values.

公开(公告)号：US20060138349A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11020567

申请日：2004-12-27

申请人： Arno Bleeker ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Marce Mathijs Dierichs ,  Stanislav Smirnov ,  Christian Wagner ,  Lev Ryzhikov ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Marce Mathijs Dierichs ,  Stanislav Smirnov ,  Christian Wagner ,  Lev Ryzhikov ,  Kars Troost

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70291

摘要： A system and method are used to direct a radiation beam to illuminate non-perpendicularly a patterning array of individually controllable elements used for patterning the radiation beam. The individually controllable elements can change a telecentricity of the radiation beam. Projection of the radiation beam onto the individually controllable elements can be by a concave mirror or use a folding mirror placed in an object field of the individually controllable elements. Alternatively, the individually controllable elements can change the optical axis of the radiation beam.

摘要翻译： 系统和方法用于引导辐射束非垂直地照射用于图案化辐射束的单独可控元件的构图阵列。 可单独控制的元件可以改变辐射束的远心性。 将辐射束投射到可独立控制的元件上可以通过凹面镜或使用放置在单独可控元件的物场中的折叠镜。 或者，独立可控元件可以改变辐射束的光轴。

公开(公告)号：US20060038969A1

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：US10919530

申请日：2004-08-17

申请人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Kars Troost

发明人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70383 ,  G03F7/70291

摘要： An array of individually controllable elements, comprising a plurality of control areas consisting of a plurality of rows of reflectors. Alternate rows of reflectors are actuated in a common manner such that the control areas function as a grating to provide a control element that can be used as a diffractive optical element.

摘要翻译： 一组可独立控制的元件，包括由多排反射器组成的多个控制区域。 交替的反射体行以常见的方式启动，使得控制区域用作光栅，以提供可用作衍射光学元件的控制元件。