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    System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
    1.
    发明申请
    System and method for generating pattern data used to control a pattern generator 有权
    用于生成用于控制图案生成器的图案数据的系统和方法

    公开(公告)号：US20060115752A1

    公开(公告)日：2006-06-01

    申请号：US10998991

    申请日：2004-11-30

    申请人： Azat Latypov ,  Arno Bleeker ,  Jang Chen ,  Kars Troost

    发明人： Azat Latypov ,  Arno Bleeker ,  Jang Chen ,  Kars Troost

    IPC分类号： G03C5/00

    CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

    摘要： A method and system are used to modify pattern data obtained in relation to a pattern on a static patterning device. It is suggested that, in an example when a maskless lithography tool is used, continuous OPC-enhanced features used for maskless lithography rasterization should include a variation in local amplitude and phase transmittance that matches modulation capabilities of a patterning device being used. The modified pattern data is used by a dynamic patterning device to pattern impinging light, which is then projected onto an object. The system and method comprise using a pattern data generating device, a modification device, a dynamic pattern generator, and a projection system. The pattern data generating device generates pattern data corresponding to a pattern on a static patterning device. The modification device receives the pattern data and modifies the pattern data using characteristics of a type of the dynamic pattern generator being used. The dynamic pattern generator receives the modified patterned data and uses the modified pattern data to pattern the beam of radiation. The projection system projects the patterned beam onto the object.

    摘要翻译： 使用方法和系统来修改相对于静态图案形成装置上的图案获得的图案数据。 建议在使用无掩模光刻工具的示例中，用于无掩模光刻光栅化的连续OPC增强特征应包括与正在使用的图案形成装置的调制能力相匹配的局部振幅和相位透射率的变化。 修改的图案数据由动态图案形成装置用于对入射光进行图案化，然后将其投影到物体上。 该系统和方法包括使用图案数据生成装置，修改装置，动态图案生成器和投影系统。 图案数据生成装置生成与静态图案形成装置上的图案对应的图案数据。 修改设备接收图案数据，并使用所使用的动态图案生成器的类型的特征来修改图案数据。 动态图案生成器接收经修改的图案数据并使用经修改的图案数据来对辐射束进行图案化。 投影系统将图案化的光束投射到物体上。

    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern
    4.
    发明申请
    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern 有权
    用于补偿印刷图案的缝合干扰的方法和系统

    公开(公告)号：US20080094595A1

    公开(公告)日：2008-04-24

    申请号：US12000522

    申请日：2007-12-13

    申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

    发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70475 ,  G03B21/18 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466

    摘要： A method and system are provided of using a patterning device. An exemplary method includes performing a first exposure of a surface corresponding to image data, determining an image deficiency within a region of the first image, adjusting the image data to compensate for the image deficiency, and performing a second exposure of the surface corresponding to the adjusted image data during a second pass of the patterning device with respect to the surface. The first exposure occurs during a first pass of the patterning device with respect to the surface to produce a first image on the surface.

    摘要翻译： 提供了使用图案形成装置的方法和系统。 示例性方法包括执行与图像数据相对应的表面的第一曝光，确定第一图像的区域内的图像不足，调整图像数据以补偿图像不足，以及执行对应于图像数据的表面的第二次曝光 在图案形成装置相对于表面的第二遍期间的调整图像数据。 第一曝光在图案形成装置相对于表面的第一遍期间发生，以在表面上产生第一图像。

    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones
    7.
    发明申请
    Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones 有权
    用于补偿不使用曝光区重叠的无掩模光刻系统中印刷图案的缝合干扰的方法和系统

    公开(公告)号：US20050068467A1

    公开(公告)日：2005-03-31

    申请号：US10673922

    申请日：2003-09-30

    申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Azat Latypov

    发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Azat Latypov

    IPC分类号： G02F1/1335 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70475

    摘要： A method and system are provided for forming a pattern within an area of a photosensitive surface. An exemplary method includes performing a first exposure of the photosensitive surface in accordance with predetermined image data, wherein the first exposure occurs during a first pass and produces a first image within the area. The image data is adjusted to compensate for identified image deficiencies image deficiencies, the image deficiencies being within a region of the first image. A second exposure, of the photosensitive surface, is performed in accordance with the adjusted image data during a second pass.

    摘要翻译： 提供了一种用于在感光表面的区域内形成图案的方法和系统。 一种示例性方法包括根据预定图像数据执行感光表面的第一曝光，其中第一曝光在第一次通过期间发生并在该区域内产生第一图像。 调整图像数据以补偿识别的图像缺陷图像缺陷，图像缺陷在第一图像的区域内。 在第二次通过期间，根据调整后的图像数据执行感光表面的第二次曝光。