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29 条记录 (耗时 0.065 秒)

    Composition and associated method
    4.
    发明申请
    Composition and associated method 审中-公开
    成分及相关方法

    公开(公告)号：US20080009578A1

    公开(公告)日：2008-01-10

    申请号：US11483480

    申请日：2006-07-10

    申请人： Bhanu Bhusan Khatua ,  Sumanda Bandyopadhyay ,  Soumyadeb Ghosh ,  Hari Nadathur Seshadri

    发明人： Bhanu Bhusan Khatua ,  Sumanda Bandyopadhyay ,  Soumyadeb Ghosh ,  Hari Nadathur Seshadri

    IPC分类号： C08K3/22

    CPC分类号： C08K3/22 ,  C08K2201/001

    摘要： A composition includes a filler dispersed in a polymeric matrix. The filler may be electrically conducting in a temperature range and may have a Curie temperature. The composition may have a trip temperature at which electrical resistance of the composition increases with increase in temperature, and the trip temperature of the composition may be determined by the Curie temperature of the filler. The filler may be present in the polymeric matrix in an amount determined by a property of one or both of the polymeric matrix or the filler. An associated method is provided.

    摘要翻译： 组合物包括分散在聚合物基质中的填料。 填料可以在温度范围内导电并且可以具有居里温度。 组合物可以具有脱模温度，组合物的电阻随着温度的升高而增加，并且组合物的脱扣温度可以通过填料的居里温度来确定。 填料可以以由聚合物基质或填料中的一种或两种的性质确定的量存在于聚合物基质中。 提供了一种相关联的方法。

    COMPOSITE ARC SUPPRESSION DEVICE
    8.
    发明申请
    COMPOSITE ARC SUPPRESSION DEVICE 审中-公开
    复合电弧抑制装置

    公开(公告)号：US20080061037A1

    公开(公告)日：2008-03-13

    申请号：US11470668

    申请日：2006-09-07

    申请人： Thangavelu Asokan ,  Sunil Srinivasa Murthy ,  Patricia Chapman Irwin ,  Kunal Ravindra Coray ,  Adnan Kutubuddin Bohori ,  Hari Nadathur Seshadri

    发明人： Thangavelu Asokan ,  Sunil Srinivasa Murthy ,  Patricia Chapman Irwin ,  Kunal Ravindra Coray ,  Adnan Kutubuddin Bohori ,  Hari Nadathur Seshadri

    IPC分类号： H01H33/88

    CPC分类号： H01H9/302 ,  H01H9/34

    摘要： An ablative arc suppression device (10) includes a first region (16) having a first electrical arc ablation characteristic and a second region (18) having a second electrical arc ablation characteristic. The first region and the second region are configured for defining an opening (22) extending through the first region and the second region for confining an arc initiation region (24) of an electrical arc (26) to be generated within the opening. The first region and the second region are further configured for defining the opening so that the electrical arc is exposed to both the first region and the second region before exiting the opening.

    摘要翻译： 烧蚀消弧装置（10）包括具有第一电弧消融特性的第一区域（16）和具有第二电弧消融特性的第二区域（18）。 第一区域和第二区域构造成限定延伸穿过第一区域和第二区域的开口（22），用于限制在开口内产生的电弧（26）的起弧区域（24）。 第一区域和第二区域进一步构造成限定开口，使得电弧在离开开口之前暴露于第一区域和第二区域两者。