Electron beam accelerator
    3.
    发明授权
    Electron beam accelerator 失效
    电子束加速器

    公开(公告)号:US4446374A

    公开(公告)日:1984-05-01

    申请号:US336353

    申请日:1982-01-04

    CPC分类号: G21K5/00 G21K5/10

    摘要: An electron beam accelerator comprises a radiation protection chamber 10 accommodating a partition 12 which in combination with a vacuum chamber 1 hermetically divides the radiation protection chamber 10 into two compartments 14, 15. One compartment 14 accommodates an exit window 2 of the vacuum chamber 1, while the other compartment 15 accommodates an electron beam scanning system 8, vacuum pumps 3 and a vacuum monitoring device 5.

    摘要翻译: PCT No.PCT / SU80 / 00068 Sec。 371日期1982年1月4日 102(e)日期1982年1月4日PCT申请日1980年5月5日PCT公布。 公开号WO81 / 03253 日期:1981年11月12日。电子束加速器包括辐射保护室10,其容纳隔板12,隔板12与真空室1组合,将辐射防护室10气密地分隔成两个隔间14,15。一个隔室14容纳出口窗 2,而另一个隔室15容纳电子束扫描系统8,真空泵3和真空监测装置5。

    Apparatus for electron beam irradiation of objects
    4.
    发明授权
    Apparatus for electron beam irradiation of objects 失效
    用于物体的电子束照射的装置

    公开(公告)号:US4492873A

    公开(公告)日:1985-01-08

    申请号:US336393

    申请日:1981-12-21

    IPC分类号: G21K1/08 G21K5/04 H01J33/02

    CPC分类号: G21K5/04

    摘要: An apparatus for electron beam irradiation of objects comprises an electron beam shaper 1 providing a ribbon-shaped beam 7 and a deflecting electromagnet 8 with a frame-type magnetic circuit 9 to direct the beam 7 onto an irradiated object 6 substantially at an angle of 90.degree.. The deflecting electromagnet 8 has two poles 10, 11 extending over the width of the irradiated object 6 and two windings 12, 13 embracing the poles 10, 11 and connected to a direct current source 14, the deflecting electromagnet 8 being arranged so that the trajectories of the electrons within the area from the shaper 1 to the deflecting electromagnet 8 are inclined to the frame of its magnetic circuit 9.

    摘要翻译: PCT No.PCT / SU80 / 00065 Sec。 371日期1981年12月21日 102(e)日期1981年12月21日PCT提交1980年4月25日PCT公布。 第WO81 / 03104号公报 日期为1981年10月29日。用于物体的电子束照射的装置包括电子束整形器1,其提供带状束7和偏转电磁体8与框型磁路9以将束7引导到被照射物体上 6基本上以90°的角度。 偏转电磁体8具有在被照射物体6的宽度上延伸的两个极10,11和包围极10,11的两个绕组12,13,并且连接到直流电源14,偏转电磁体8被布置成使得轨迹 从整形器1到偏转电磁体8的区域内的电子与其磁路9的框架倾斜。