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    Methods of forming openings, and methods of forming container capacitors
    2.
    发明授权
    Methods of forming openings, and methods of forming container capacitors 失效
    形成开口的方法，以及形成容器电容器的方法

    公开(公告)号：US07538036B2

    公开(公告)日：2009-05-26

    申请号：US11216759

    申请日：2005-08-31

    申请人： Brett W. Busch ,  Luan C. Tran ,  Ardavan Niroomand ,  Fred D. Fishburn ,  Yoshiki Hishiro ,  Ulrich C. Boettiger ,  Richard D. Holscher

    发明人： Brett W. Busch ,  Luan C. Tran ,  Ardavan Niroomand ,  Fred D. Fishburn ,  Yoshiki Hishiro ,  Ulrich C. Boettiger ,  Richard D. Holscher

    IPC分类号： H01L21/3205

    CPC分类号： H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144 ,  H01L27/10852 ,  H01L28/91 ,  Y10S438/942 ,  Y10S438/946

    摘要： A patterned mask can be formed as follows. A first patterned photoresist is formed over a masking layer and utilized during a first etch into the masking layer. The first etch extends to a depth in the masking layer that is less than entirely through the masking layer. A second patterned photoresist is subsequently formed over the masking layer and utilized during a second etch into the masking layer. The combined first and second etches form openings extending entirely through the masking layer and thus form the masking layer into the patterned mask. The patterned mask can be utilized to form a pattern in a substrate underlying the mask. The pattern formed in the substrate can correspond to an array of capacitor container openings. Capacitor structure can be formed within the openings. The capacitor structures can be incorporated within a DRAM array.

    摘要翻译： 图案化掩模可以如下形成。 在掩模层上形成第一图案化的光致抗蚀剂，并在第一蚀刻进入掩模层期间使用。 第一蚀刻延伸到掩模层中的深度不到完全通过掩模层的深度。 随后在掩模层上形成第二图案化的光致抗蚀剂，并在第二次蚀刻进入掩模层期间利用。 组合的第一和第二蚀刻形成完全延伸穿过掩模层的开口，从而在掩模层中形成掩模层。 图案化掩模可以用于在掩模下面的衬底中形成图案。 形成在基板中的图案可以对应于电容器容器开口的阵列。 可以在开口内形成电容结构。 电容器结构可以并入DRAM阵列中。

    Method for Forming Imagers
    3.
    发明申请
    Method for Forming Imagers 有权
    成像仪的形成方法

    公开(公告)号：US20120315720A1

    公开(公告)日：2012-12-13

    申请号：US13589492

    申请日：2012-08-20

    申请人： Jin Li ,  Ulrich C. Boettiger

    发明人： Jin Li ,  Ulrich C. Boettiger

    IPC分类号： H01L31/18 ,  B29D11/00

    CPC分类号： G02B3/005 ,  B29D11/00278 ,  B29D11/00365 ,  G02B3/0018 ,  G02B3/0043 ,  G02B3/0056 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627

    摘要： A micro-lens array with reduced or no empty space between individual micro-lenses and a method for forming same. The micro-lens array is formed by patterning a first set of micro-lens material in a checkerboard pattern on a substrate. The first set of micro-lens material is reflowed and cured into first micro-lenses impervious to subsequent reflows. Then, a second set of micro-lens material is patterned in spaces among the first micro-lenses, reflowed and cured into second micro-lenses. The reflows and cures can be conducted under different conditions, and the micro-lenses may be differently sized. The conditions of the reflows can be chosen to ensure that the focal lengths of micro-lenses are optimized for maximum sensor signal.

    摘要翻译： 具有在单个微透镜之间减少或没有空白空间的微透镜阵列及其形成方法。 微透镜阵列通过在衬底上以棋盘图案形成第一组微透镜材料而形成。 第一组微透镜材料被回流并固化成不可逆转的第一微透镜。 然后，将第二组微透镜材料图案化在第一微透镜之间的空间中，回流并固化成第二微透镜。 可以在不同的条件下进行回流和固化，并且微透镜的尺寸可以不同。 可以选择回流条件以确保微透镜的焦距被优化用于最大传感器信号。

    Gapless microlens array and method of fabrication
    7.
    发明授权
    Gapless microlens array and method of fabrication 有权
    无间隙微透镜阵列及其制造方法

    公开(公告)号：US07428103B2

    公开(公告)日：2008-09-23

    申请号：US11707113

    申请日：2007-02-16

    申请人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    发明人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    IPC分类号： G02B27/10 ,  H04N3/14 ,  H04N5/335 ,  H04N9/04 ,  H04N9/083

    CPC分类号： H01L27/14603 ,  B29D11/00278 ,  B29D11/00365 ,  G02B3/0018 ,  G02B3/0043 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0056 ,  H01L27/14609 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14641 ,  H01L31/02327 ,  H04N5/37457 ,  H04N9/045

    摘要： A microlens array with reduced or no empty space between individual microlenses and a method for forming the same. The microlens array is formed by patterning a first set of microlens precursors in a checkerboard pattern on a substrate. The first set of microlens precursors is reflowed and cured into first microlenses impervious to subsequent reflows. Then, a second set of microlens precursors is patterned in spaces among the first microlenses, reflowed and cured into second microlenses. The reflows and cures can be conducted under different conditions, and the microlenses may be differently sized. The conditions of the reflows can be chosen to ensure that the focal lengths of microlenses are optimized for maximum sensor signal.

    摘要翻译： 微透镜阵列，其在单个微透镜之间具有减少或不空的空间，以及用于形成微透镜的方法。 微透镜阵列通过在衬底上以棋盘图案形成第一组微透镜前体而形成。 第一组微透镜前体被回流并固化成第一微透镜，其不受后续回流的影响。 然后，将第二组微透镜前体图案化在第一微透镜之间的空间中，回流并固化成第二微透镜。 可以在不同的条件下进行回流和固化，并且微透镜的尺寸可以不同。 可以选择回流的条件，以确保微透镜的焦距被优化用于最大传感器信号。

    Micro-lenses for CMOS imagers
    8.
    发明授权
    Micro-lenses for CMOS imagers 有权
    用于CMOS成像器的微透镜

    公开(公告)号：US07333267B2

    公开(公告)日：2008-02-19

    申请号：US10721165

    申请日：2003-11-26

    申请人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    发明人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    IPC分类号： G02B7/10 ,  H01L27/00

    CPC分类号： G02B3/0031 ,  B29D11/00375 ,  G02B3/0043 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14685 ,  H01L31/02327

    摘要： A micro-lens and a method for forming the micro-lens is provided. A micro-lens includes a substrate an lens material located within the substrate, the substrate having a recessed area serving as a mold for the lens material. The recessed can be shaped such that the lens material corrects for optical aberrations. The micro-lens can be part of a micro-lens array. The recessed area can serve as a mold for lens material for the micro-lens array and can be shaped such that the micro-lens array includes arcuate, non-spherical, or non-symmetrical micro-lenses.

    摘要翻译： 提供微透镜和形成微透镜的方法。 微透镜包括位于衬底内的衬底和透镜材料，衬底具有用作透镜材料的模具的凹陷区域。 凹陷部分可以成形为使得透镜材料校正光学像差。 微透镜可以是微透镜阵列的一部分。 凹陷区域可以用作用于微透镜阵列的透镜材料的模具，并且可以成形为使得微透镜阵列包括弓形，非球形或非对称微透镜。

    Apparatus and method for manufacturing tilted microlenses
    9.
    发明授权
    Apparatus and method for manufacturing tilted microlenses 有权
    用于制造倾斜微透镜的装置和方法

    公开(公告)号：US07280279B2

    公开(公告)日：2007-10-09

    申请号：US11328158

    申请日：2006-01-10

    申请人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    发明人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    IPC分类号： G02B27/10

    CPC分类号： G02B27/10 ,  B29D11/00278 ,  B29D11/00365 ,  G02B3/0018 ,  G02B3/0043 ,  G02B3/0056 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14685

    摘要： Asymmetrical structures and methods are used to adjust the orientation of a microlens for a pixel array. The asymmetrical structures affect volume and surface force parameters during microlens formation. Exemplary microlens structures include an asymmetrical microlens frame, base, material or a combination thereof to affect the focal characteristics of the microlens. The asymmetrical frame alters the microlens flow resulting from the heating of the microlens during fabrication such that orientation of the microlens relative to an axis of the imager can be controlled.

    摘要翻译： 非对称结构和方法用于调整像素阵列的微透镜的取向。 非对称结构在微透镜形成期间影响体积和表面力参数。 示例性微透镜结构包括不对称微透镜框架，基底，材料或其组合以影响微透镜的焦点特性。 非对称框架改变在制造期间由微透镜加热产生的微透镜流，从而可以控制微透镜相对于成像器的轴线的取向。

    Controlling lens shape in a microlens array
    10.
    发明授权
    Controlling lens shape in a microlens array 有权
    在微透镜阵列中控制透镜形状

    公开(公告)号：US07068432B2

    公开(公告)日：2006-06-27

    申请号：US10899009

    申请日：2004-07-27

    申请人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    发明人： Ulrich C. Boettiger ,  Jin Li

    IPC分类号： G02B27/10 ,  G03C5/00 ,  H01L21/00 ,  H01L27/148 ,  B29D11/00

    CPC分类号： G02B3/0018 ,  G02B3/0043 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/1013 ,  G02B27/1073 ,  G02B27/123 ,  H01L27/14603 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14685

    摘要： A semi-conductor based imager includes a microlens array having microlenses with modified focal characteristics. The microlenses are made of a microlens material, the melting properties of which are selectively modified to obtain different shapes after a reflow process. Selected microlenses, or portions of each microlens, are modified, by exposure to ultraviolet light, for example, to control the microlens shape produced by reflow melting. Controlling the microlens shape allows for modification of the focal characteristics of selected microlenses in the microlens array.

    摘要翻译： 基于半导体的成像器包括具有改进的焦点特性的微透镜的微透镜阵列。 微透镜由微透镜材料制成，其熔融性质被选择性地修改以在回流工艺之后获得不同的形状。 所选择的微透镜或每个微透镜的部分通过暴露于紫外光来修改，例如以控制通过回流熔融产生的微透镜形状。 控制微透镜形状允许修改微透镜阵列中所选微透镜的焦点特性。