公开(公告)号：US20060051682A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：US11003291

申请日：2004-12-03

申请人： Carl Hess ,  Yalin Xiong

发明人： Carl Hess ,  Yalin Xiong

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for generating a process for inspecting reticle layout data includes identifying a first region in the reticle layout data. A printability of the first region is more sensitive to changes in process parameters than a printability of a second region in the reticle layout data. The method also includes assigning one or more inspection parameters to the first region and the second region such that the first region will be inspected during the process with a higher sensitivity than the second region. Another method includes inspecting the first region with a higher sensitivity than the second region. An additional method includes simulating how the reticle layout data will print. Simulation of the first and second regions is performed with one or more different simulation parameters such that the first region is simulated with a higher fidelity than the second region.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于生成用于检查标线布局数据的处理的一种方法包括识别标线布局数据中的第一区域。 第一区域的可印刷性对于工艺参数的改变比在标线布局数据中的第二区域的可印刷性更敏感。 该方法还包括将一个或多个检查参数分配给第一区域和第二区域，使得在处理期间将以比第二区域更高的灵敏度对第一区域进行检查。 另一种方法包括以比第二区域更高的灵敏度检查第一区域。 另外一种方法包括模拟标线布局数据如何打印。 利用一个或多个不同的模拟参数来执行第一和第二区域的模拟，使得以比第二区域更高的保真度来模拟第一区域。

公开(公告)号：US07646906B2

公开(公告)日：2010-01-12

申请号：US11048630

申请日：2005-01-31

申请人： Zain K. Saidin ,  Yalin Xiong ,  Lance Glasser ,  Carl Hess ,  Moshe E. Preil

发明人： Zain K. Saidin ,  Yalin Xiong ,  Lance Glasser ,  Carl Hess ,  Moshe E. Preil

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666 ,  G06Q30/0206

摘要： Computer-implemented methods for detecting defects in reticle design data are provided. One method includes generating a first simulated image illustrating how the reticle design data will be printed on a reticle using a reticle manufacturing process. The method also includes generating second simulated images using the first simulated image. The second simulated images illustrate how the reticle will be printed on a wafer at different values of one or more parameters of a wafer printing process. The method further includes detecting defects in the reticle design data using the second simulated images. Another method includes the generating steps described above in addition to determining a rate of change in a characteristic of the second simulated images as a function of the different values. This method also includes detecting defects in the reticle design data based on the rate of change.

摘要翻译： 提供了用于检测标线设计数据缺陷的计算机实现方法。 一种方法包括生成第一模拟图像，其示出如何使用标线制造工艺将掩模版设计数据印刷在掩模版上。 该方法还包括使用第一模拟图像生成第二模拟图像。 第二模拟图像示出了在晶片印刷过程的一个或多个参数的不同值下如何将掩模版印刷在晶片上。 该方法还包括使用第二模拟图像检测掩模版设计数据中的缺陷。 除了确定作为不同值的函数的第二模拟图像的特性的变化率之外，另一种方法包括上述生成步骤。 该方法还包括基于变化率检测掩模版设计数据中的缺陷。

公开(公告)号：US08204297B1

公开(公告)日：2012-06-19

申请号：US12394752

申请日：2009-02-27

申请人： Yalin Xiong ,  Carl Hess

发明人： Yalin Xiong ,  Carl Hess

IPC分类号： G06K9/00 ,  G01N21/00

CPC分类号： G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84

摘要： Methods and systems for classifying defects detected on a reticle are provided. One method includes determining an impact that a defect detected on a reticle will have on the performance of a device being fabricated on a wafer based on how at least a portion of the reticle prints or will print on the wafer. The defect is located in the portion of the reticle. The method also includes assigning a classification to the defect based on the impact.

摘要翻译： 提供了用于分类在掩模版上检测到的缺陷的方法和系统。 一种方法包括基于如何至少一部分标线印刷或将在晶片上印刷，确定在掩模版上检测到的缺陷对于在晶片上制造的器件的性能的影响。 缺陷位于光罩的部分。 该方法还包括基于影响为缺陷分配分类。

公开(公告)号：US08151220B2

公开(公告)日：2012-04-03

申请号：US11003291

申请日：2004-12-03

申请人： Carl Hess ,  Yalin Xiong

发明人： Carl Hess ,  Yalin Xiong

IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F11/22

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for generating a process for inspecting reticle layout data includes identifying a first region in the reticle layout data. A printability of the first region is more sensitive to changes in process parameters than a printability of a second region in the reticle layout data. The method also includes assigning one or more inspection parameters to the first region and the second region such that the first region will be inspected during the process with a higher sensitivity than the second region. Another method includes inspecting the first region with a higher sensitivity than the second region. An additional method includes simulating how the reticle layout data will print. Simulation of the first and second regions is performed with one or more different simulation parameters such that the first region is simulated with a higher fidelity than the second region.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于生成用于检查标线布局数据的处理的一种方法包括识别标线布局数据中的第一区域。 第一区域的可印刷性对于工艺参数的改变比在标线布局数据中的第二区域的可印刷性更敏感。 该方法还包括将一个或多个检查参数分配给第一区域和第二区域，使得在处理期间将以比第二区域更高的灵敏度对第一区域进行检查。 另一种方法包括以比第二区域更高的灵敏度检查第一区域。 另外一种方法包括模拟标线布局数据如何打印。 利用一个或多个不同的模拟参数来执行第一和第二区域的模拟，使得以比第二区域更高的保真度来模拟第一区域。

公开(公告)号：US20060236294A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：US11048630

申请日：2005-01-31

申请人： Zain Saidin ,  Yalin Xiong ,  Lance Glasser ,  Carl Hess ,  Moshe Preil

发明人： Zain Saidin ,  Yalin Xiong ,  Lance Glasser ,  Carl Hess ,  Moshe Preil

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666 ,  G06Q30/0206

摘要： Computer-implemented methods for detecting defects in reticle design data are provided. One method includes generating a first simulated image illustrating how the reticle design data will be printed on a reticle using a reticle manufacturing process. The method also includes generating second simulated images using the first simulated image. The second simulated images illustrate how the reticle will be printed on a wafer at different values of one or more parameters of a wafer printing process. The method further includes detecting defects in the reticle design data using the second simulated images. Another method includes the generating steps described above in addition to determining a rate of change in a characteristic of the second simulated images as a function of the different values. This method also includes detecting defects in the reticle design data based on the rate of change.

摘要翻译： 提供了用于检测标线设计数据缺陷的计算机实现方法。 一种方法包括生成第一模拟图像，其示出如何使用标线制造工艺将掩模版设计数据印刷在掩模版上。 该方法还包括使用第一模拟图像生成第二模拟图像。 第二模拟图像示出了在晶片印刷过程的一个或多个参数的不同值下如何将掩模版印刷在晶片上。 该方法还包括使用第二模拟图像检测掩模版设计数据中的缺陷。 除了确定作为不同值的函数的第二模拟图像的特性的变化率之外，另一种方法包括上述生成步骤。 该方法还包括基于变化率检测掩模版设计数据中的缺陷。

公开(公告)号：US07493590B1

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US11549943

申请日：2006-10-16

申请人： Carl Hess ,  Ruifang Shi ,  Gaurav Verma

发明人： Carl Hess ,  Ruifang Shi ,  Gaurav Verma

IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F19/00 ,  G06F17/17 ,  G03F1/00 ,  G21K5/00

CPC分类号： G03F1/36

摘要： Optical proximity correction methods and apparatus are disclosed. A simulated geometry representing one or more printed features from a reticle is generated using an optical proximity correction (OPC) model that takes into account a reticle design and one or more parameters from a process window of a stepper. An error function is formed that measures a deviation between the simulated geometry and a desired design of the one or more printed features. The error function takes into account parameters (p0 . . . pJ) from across the process window in addition to, or in lieu of, a best focus and a best exposure for the stepper. The reticle design is adjusted in a way that reduces the deviation as measured by the error function, thereby producing an adjusted reticle design.

摘要翻译： 公开了光学邻近校正方法和装置。 使用光学邻近校正（OPC）模型来生成表示来自光罩的一个或多个印刷特征的模拟几何，其考虑到来自步进机的过程窗口的掩模版设计和一个或多个参数。 形成误差函数，其测量模拟几何与所述一个或多个印刷特征的期望设计之间的偏差。 除了代替步进器的最佳焦点和最佳曝光之外，误差函数还考虑了过程窗口中的参数（p0。。pJ）。 以通过误差函数测量的方式减小偏差的方法调整掩模版设计，从而产生调整的掩模版设计。

公开(公告)号：US09002497B2

公开(公告)日：2015-04-07

申请号：US10883372

申请日：2004-07-01

申请人： William Volk ,  James Wiley ,  Sterling Watson ,  Sagar A. Kekare ,  Carl Hess ,  Paul Frank Marella ,  Sharon McCauley ,  Ellis Chang

发明人： William Volk ,  James Wiley ,  Sterling Watson ,  Sagar A. Kekare ,  Carl Hess ,  Paul Frank Marella ,  Sharon McCauley ,  Ellis Chang

IPC分类号： G06F19/00 ,  G03F1/84 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20

CPC分类号： G06T7/0006 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84 ,  G03F7/7065 ,  G06T7/0008 ,  G06T2207/30148

摘要： Methods and systems for inspection of wafers and reticles using designer intent data are provided. One computer-implemented method includes identifying nuisance defects on a wafer based on inspection data produced by inspection of a reticle, which is used to form a pattern on the wafer prior to inspection of the wafer. Another computer-implemented method includes detecting defects on a wafer by analyzing data generated by inspection of the wafer in combination with data representative of a reticle, which includes designations identifying different types of portions of the reticle. An additional computer-implemented method includes determining a property of a manufacturing process used to process a wafer based on defects that alter a characteristic of a device formed on the wafer. Further computer-implemented methods include altering or simulating one or more characteristics of a design of an integrated circuit based on data generated by inspection of a wafer.

摘要翻译： 提供了使用设计人员意图数据检查晶圆和标线的方法和系统。 一种计算机实现的方法包括基于通过检查光罩产生的检查数据来识别晶片上的有害缺陷，其用于在晶片检查之前在晶片上形成图案。 另一种计算机实现的方法包括通过分析通过检查晶片产生的数据来结合表示标线的数据来检测晶片上的缺陷，该数据包括标识掩模版的不同类型的部分的标记。 附加的计算机实现的方法包括基于改变晶片上形成的器件的特性的缺陷来确定用于处理晶片的制造工艺的特性。 进一步的计算机实现的方法包括基于通过检查晶片产生的数据来改变或模拟集成电路的设计的一个或多个特性。

公开(公告)号：US20120086799A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：US13251975

申请日：2011-10-03

申请人： Carl Hess

发明人： Carl Hess

IPC分类号： H04N7/18

CPC分类号： G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84

摘要： A system and method for detecting defects on a reticle is disclosed. The method may comprise determining a best focus setting for imaging the reticle; obtaining a first image of the reticle, the first image obtained at the best focus setting plus a predetermined offset; obtaining a second image of the reticle, the second image obtained at the best focus setting minus the predetermined offset; generating a differential image, the differential image representing a difference between the first image and the second image; and identifying a defect on the reticle based on the differential image. The method in accordance with the present disclosure may also be utilized for detecting defects on at least a portion of the reticle.

摘要翻译： 公开了一种用于检测掩模版上的缺陷的系统和方法。 该方法可以包括确定用于使掩模版成像的最佳聚焦设置; 获得掩模版的第一图像，在最佳焦点设置处获得的第一图像加上预定的偏移; 获得所述掩模版的第二图像，在最佳焦点设置处获得的所述第二图像减去所述预定偏移; 生成差分图像，所述差分图像表示所述第一图像和所述第二图像之间的差; 以及基于所述差分图像来识别所述掩模版上的缺陷。 根据本公开的方法还可以用于检测掩模版的至少一部分上的缺陷。

公开(公告)号：US20060161452A1

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：US11374710

申请日：2006-03-14

申请人： Carl Hess

发明人： Carl Hess

IPC分类号： G06Q99/00 ,  G07G1/00 ,  G06F17/30

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666 ,  G06Q30/0206

摘要： Computer-implemented methods, processors, and systems for creating a wafer fabrication process are provided. One computer-implemented method includes determining individual error budgets for different parameters of the wafer fabrication process based on an overall error budget for the wafer fabrication process and simulated images that illustrate how reticle design data will be printed on a wafer at different values of the different parameters. The method also includes creating the wafer fabrication process based on the overall error budget and the individual error budgets.

摘要翻译： 提供了用于创建晶片制造工艺的计算机实现的方法，处理器和系统。 一种计算机实现的方法包括基于晶片制造过程的总体误差预算来确定晶片制造过程的不同参数的各个错误预算，以及示出如何在不同的不同值处将标线设计数据印刷在晶片上的模拟图像 参数。 该方法还包括基于总体错误预算和各个错误预算创建晶片制造过程。

公开(公告)号：US09208552B2

公开(公告)日：2015-12-08

申请号：US13814535

申请日：2012-04-23

申请人： Carl Hess ,  John D. Miller ,  Shan Xue ,  Patrick LoPresti

发明人： Carl Hess ,  John D. Miller ,  Shan Xue ,  Patrick LoPresti

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06T7/00

CPC分类号： G06T7/0004 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/20012 ,  G06T2207/30148

摘要： A semiconductor inspection apparatus performs a hybrid inspection process including cell-to-cell inspection, die-to-die inspection and die-to-golden or die-to-database inspection. The apparatus creates a golden image of a reticle complimentary to portions of the reticle that can be inspected by cell-to-cell inspection or die-to-die inspection. Alternatively, the apparatus creates a reduced database complimentary to portions of the reticle that can be inspected by cell-to-cell inspection or die-to-die inspection.

摘要翻译： 半导体检查装置进行包括电池到电池检查，管芯到管芯检查以及管芯到金属或管芯到数据库检查的混合检查过程。 该装置产生与通过电池到电池检查或模 - 模检查可以检查的掩模版的部分互补的掩模版的金色图像。 或者，该装置创建减少的数据库，其与通过电池到电池检查或管芯到管芯检查可以检查的掩模版的部分互补。