公开(公告)号：US06903029B2

公开(公告)日：2005-06-07

申请号：US10893263

申请日：2004-07-19

申请人： Ching-Fa Yeh ,  Yueh-Chuan Lee ,  Chih-Chuan Hsu ,  Kwo-Hau Wu ,  Shuo-Cheng Wang

发明人： Ching-Fa Yeh ,  Yueh-Chuan Lee ,  Chih-Chuan Hsu ,  Kwo-Hau Wu ,  Shuo-Cheng Wang

IPC分类号： H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： H01L21/76801 ,  H01L21/02131 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02332 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31629 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76828 ,  H01L21/76829 ,  Y10T428/265

摘要： The present invention provides a technique to reduce a stress of thick spin-on dielectric layer by forming a sandwich dielectric structure, wherein a first dielectric layer is formed on a substrate by spin coating, a liquid phase deposited (LPD) silica layer is formed the first dielectric layer, and a second dielectric layer is formed on the LPD silica layer by spin coating. The LPD silica layer can be further subjected to a nitrogen plasma treatment to enhance its thermal stability and anti-water penetration ability.

摘要翻译： 本发明提供一种通过形成夹层电介质结构来减小厚的自旋电介质层的应力的技术，其中通过旋涂形成在基板上的第一介电层，形成液相沉积（LPD）二氧化硅层 第一电介质层，并且通过旋涂在LPD二氧化硅层上形成第二电介质层。 可以进一步对LPD二氧化硅层进行氮等离子体处理，以提高其热稳定性和抗水渗透能力。

公开(公告)号：US06774461B2

公开(公告)日：2004-08-10

申请号：US10075293

申请日：2002-02-15

申请人： Ching-Fa Yeh ,  Yueh-Chuan Lee ,  Chih-Chuan Hsu ,  Kwo-Hau Wu ,  Shuo-Cheng Wang

发明人： Ching-Fa Yeh ,  Yueh-Chuan Lee ,  Chih-Chuan Hsu ,  Kwo-Hau Wu ,  Shuo-Cheng Wang

IPC分类号： H01L2358

CPC分类号： H01L21/76801 ,  H01L21/02131 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02332 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31629 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76828 ,  H01L21/76829 ,  Y10T428/265

摘要： The present invention provides a technique to reduce a stress of thick spin-on dielectric layer by forming a sandwich dielectric structure, wherein a first dielectric layer is formed on a substrate by spin coating, a liquid phase deposited (LPD) silica layer is formed the first dielectric layer, and a second dielectric layer is formed on the LPD silica layer by spin coating. The LPD silica layer can be further subjected to a nitrogen plasma treatment to enhance its thermal stability and anti-water penetration ability.

摘要翻译： 本发明提供一种通过形成夹层电介质结构来减小厚的自旋电介质层的应力的技术，其中通过旋涂形成在基板上的第一介电层，形成液相沉积（LPD）二氧化硅层 第一电介质层，并且通过旋涂在LPD二氧化硅层上形成第二电介质层。 可以进一步对LPD二氧化硅层进行氮等离子体处理，以提高其热稳定性和抗水渗透能力。