公开(公告)号：US20120145950A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13405027

申请日：2012-02-24

申请人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R.M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

发明人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R.M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

IPC分类号： C09K13/00 ,  B82Y30/00

CPC分类号： C23F3/04 ,  C01B33/1435 ,  C01B33/1485 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/80 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K3/1472 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： An ultrapure colloidal silica dispersion comprising colloidal silica particles having a mean or aggregate particle size from about 10 to about 200 nm, wherein the colloidal silica dispersion has less than 200 ppb, of each trace metal impurity disposed therein, excluding potassium and sodium, and have less than 2 ppm residual alcohol. A method for producing and using the same is also disclosed.

摘要翻译： 一种超纯胶态二氧化硅分散体，其包含平均或聚集体粒径为约10至约200nm的胶体二氧化硅颗粒，其中胶态二氧化硅分散体中除了钾和钠之外的每种痕量金属杂质少于200ppb，并且具有 小于2ppm的残余酒精。 还公开了其制造和使用方法。

公开(公告)号：US08779011B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13405027

申请日：2012-02-24

申请人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R. M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

发明人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R. M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

IPC分类号： C01B33/141 ,  C01B33/143 ,  C09C1/68 ,  C09K13/06

CPC分类号： C23F3/04 ,  C01B33/1435 ,  C01B33/1485 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/80 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K3/1472 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： A method for producing and using an ultrapure colloidal silica dispersion is disclosed. The ultrapure colloidal silica dispersion has less than 200 ppb of each trace metal impurity disposed therein, excluding potassium and sodium, and less than 2 ppm residual alcohol. The method comprises dissolving a fumed silica in an aqueous solvent comprising an alkali metal hydroxide to produce an alkaline silicate solution, removing the alkali metal via ion exchange to generate a silicic acid solution, adjusting temperature, concentration and pH of said silicic acid solution to values sufficient to initiate nucleation and particle growth, and cooling the silicic acid solution at a rate sufficient to produce the colloidal silica dispersion.

摘要翻译： 公开了一种制备和使用超纯胶体二氧化硅分散体的方法。 超纯胶体二氧化硅分散体中含有少于200ppb的痕量金属杂质，不包括钾和钠，少于2ppm的残余醇。 该方法包括将热解法二氧化硅溶解在包含碱金属氢氧化物的水性溶剂中以产生碱性硅酸盐溶液，通过离子交换除去碱金属以产生硅酸溶液，将所述硅酸溶液的温度，浓度和pH值调节至数值 足以引发成核和颗粒生长，并以足以产生胶体二氧化硅分散体的速率冷却硅酸溶液。

公开(公告)号：US08211193B2

公开(公告)日：2012-07-03

申请号：US11526132

申请日：2006-09-22

申请人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R. M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

发明人： Deepak Mahulikar ,  Yuhu Wang ,  Ken A. Delbridge ,  Gert R. M. Moyaerts ,  Saeed H. Mohseni ,  Nichole R. Koontz ,  Bin Hu ,  Liqing Wen

IPC分类号： B24D3/02 ,  C09C1/68 ,  C09K3/14 ,  C09K13/00 ,  C09K13/02 ,  B24B1/00 ,  C01B33/12 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68

CPC分类号： C23F3/04 ,  C01B33/1435 ,  C01B33/1485 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/80 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K3/1472 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： A method of chemical mechanical polishing a surface of a substrate including the step of: contacting the substrate and a composition including a plurality of colloidal silica particles having less than 200 ppb of each trace metal impurity, excluding potassium and sodium, have less than 2 ppm residual alcohol and wherein the cumulative concentration of the trace metal, excluding potassium and sodium, is in the range from about 0.5 to about 5 ppm; and a medium for suspending the particles; wherein the composition is an ultrapure colloidal silica dispersion; and wherein the contacting is carried out at a temperature and for a period of time sufficient to planarize the substrate.

摘要翻译： 一种对基材表面进行化学机械抛光的方法，包括以下步骤：使除了钾和钠之外的每种微量金属杂质含有少于200ppb的多种胶体二氧化硅颗粒的组合物接触，其含量小于2ppm 残余醇，其中不包括钾和钠的痕量金属的累积浓度在约0.5至约5ppm的范围内; 和用于悬浮颗粒的介质; 其中所述组合物是超纯胶体二氧化硅分散体; 并且其中所述接触在足以平坦化基底的温度和时间段内进行。