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1.发明申请公开(公告)号：US20100173245A1
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：US12592155
申请日：2009-11-19
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： New photoresist compositions are provided that are useful for immersion lithography. Preferred photoresist compositions of the invention comprise one or more block copolymers. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer dining immersion lithography processing.
摘要翻译： 提供了可用于浸没式光刻的新的光致抗蚀剂组合物。 本发明优选的光致抗蚀剂组合物包含一种或多种嵌段共聚物。 本发明的特别优选的光致抗蚀剂可以将抗蚀剂材料的浸出性降低到与抗蚀剂层用餐浸渍光刻处理接触的浸渍流体中。
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2.发明授权公开(公告)号：US08975006B2
公开(公告)日：2015-03-10
申请号：US12592155
申请日：2009-11-19
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： New photoresist compositions are provided that are useful for immersion lithography. Preferred photoresist compositions of the invention comprise one or more block copolymers. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer dining immersion lithography processing.
摘要翻译： 提供了可用于浸没式光刻的新的光致抗蚀剂组合物。 本发明优选的光致抗蚀剂组合物包含一种或多种嵌段共聚物。 本发明的特别优选的光致抗蚀剂可以将抗蚀剂材料的浸出性降低到与抗蚀剂层用餐浸渍光刻处理接触的浸渍流体中。
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公开(公告)号：US07118847B2
公开(公告)日：2006-10-10
申请号：US10970837
申请日：2004-10-22
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： Disclosed are spirocyclic olefin polymers, methods of preparing spirocyclic olefin polymers, photresist compositions including spirocyclic olefin resin binders and methods of forming relief images using such photoresist compositions.
摘要翻译： 公开了螺环烯烃聚合物，制备螺环烯烃聚合物的方法，包括螺环烯烃树脂粘合剂的光热组合物以及使用这种光致抗蚀剂组合物形成浮雕图像的方法。
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公开(公告)号：US06599677B2
公开(公告)日：2003-07-29
申请号：US10126904
申请日：2002-04-20
IPC分类号： G03F7004
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： Disclosed are spirocyclic olefin ploymers, methods of preparing spirocyclic olefin polymers, photoresist compositions including spirocyclic olefin resin binders and methods of forming relief images using such photoresist compositions.
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公开(公告)号：US06406828B1
公开(公告)日：2002-06-18
申请号：US09511726
申请日：2000-02-24
IPC分类号： G03F7004
CPC分类号： G03F7/0395 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： Disclosed are polymers including as polymerized units one or more spirocyclic olefin monomer of the formulae I or Ia wherein A=CH2; G=C(Z′), O, and NR2; R2=H, (C1-C8)alkyl or substituted (C1-C8)alkyl; E and W are independently selected from C(Z′), O and a chemical bond; Z′=O; n=1; m=1; m′=0; 1=0 to 5; and p=0 to 5; provided that when both E and W are C(Z′), G is NR2; wherein T and L are taken together to form a double bond. These polymers are useful in photoresist compositions. Methods of making and using these polymers are also disclosed.
摘要翻译： 公开了包括作为聚合单元的一种或多种式I或Iawherein A = CH 2的螺环烯烃单体的聚合物; G = C（Z'），O和NR2; R2 = H，（C1-C8）烷基或取代的（C1-C8）烷基; E和W独立地选自C（Z'），O和化学键; Z'= O; n = 1; m = 1; m'= 0; 1 = 0〜5; 和p = 0至5; 条件是当E和W都为C（Z'）时，G为NR2; 其中T和L一起形成双键。 这些聚合物可用于光致抗蚀剂组合物。 还公开了制备和使用这些聚合物的方法。
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公开(公告)号：US6165674A
公开(公告)日：2000-12-26
申请号：US7617
申请日：1998-01-15
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： The present invention provides novel polymers and photoresist compositions that comprise the polymers as a resin binder component. The photoresist compositions of the invention can provide highly resolved relief images upon exposure to extremely short wavelengths, including well-resolved 0.25 micron features imaged at 193 nm. Polymers of the invention include those that comprise a photogenerated acid-labile unit that includes a cyano moiety, as well as polymers that contain cyano and itaconic anhydride moieties in combination.
摘要翻译： 本发明提供了包含作为树脂粘合剂组分的聚合物的新型聚合物和光致抗蚀剂组合物。 本发明的光致抗蚀剂组合物可以在暴露于极短波长的情况下提供高度分辨的浮雕图像，包括在193nm下成像的良好分辨的0.25微米特征。 本发明的聚合物包括包含氰基部分的光生酸不稳定单元的聚合物，以及组合含有氰基和衣康酸酐部分的聚合物。
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公开(公告)号：US07585612B2
公开(公告)日：2009-09-08
申请号：US11481209
申请日：2006-07-05
IPC分类号： G03C1/825
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/091
摘要： Underlying coating compositions are provided for use with an overcoated photoresist composition. In one aspect, the coating composition can be crosslinked and comprise one or more components that contain one or more acid-labile groups and/or one or more base-reactive groups that are reactive following crosslinking. In another aspect, underlying coating composition are provided that can be treated to provide a modulated water contact angle. Preferred coating compositions can enhance lithographic performance of an associated photoresist composition.
摘要翻译： 提供底涂层组合物用于外涂光致抗蚀剂组合物。 在一个方面，涂料组合物可以是交联的并且包含一种或多种含有一个或多个酸不稳定基团的组分和/或一个或多个在交联后是反应性的碱反应性基团。 在另一方面，提供了可以处理以提供调制水接触角的下面的涂料组合物。 优选的涂料组合物可以增强相关光致抗蚀剂组合物的平版印刷性能。
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公开(公告)号：US07274035B2
公开(公告)日：2007-09-25
申请号：US10927174
申请日：2004-08-25
申请人： Yang Yang , Jianyong Ouyang , Charles R. Szmanda
发明人： Yang Yang , Jianyong Ouyang , Charles R. Szmanda
IPC分类号： H01L31/00
CPC分类号： G11C13/0014 , B82Y10/00 , G11C13/0009 , G11C13/0016 , G11C2213/71 , G11C2213/72 , G11C2213/77
摘要： A composition for the formation of an electric field programmable film, the composition comprising a matrix precursor composition or a dielectric matrix material, wherein the dielectric matrix material comprises an organic polymer and/or a inorganic oxide; and an electron donor and an electron acceptor of a type and in an amount effective to provide electric field programming. The films are of utility in data storage devices.
摘要翻译： 一种用于形成电场可编程膜的组合物，所述组合物包含基质前体组合物或介电基质材料，其中介电基质材料包含有机聚合物和/或无机氧化物; 以及有效提供电场编程的类型和数量的电子给体和电子受体。 这些电影在数据存储设备中具有实用价值。
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公开(公告)号：US06749983B1
公开(公告)日：2004-06-15
申请号：US09330418
申请日：1999-06-11
申请人： Gary N. Taylor , Charles R. Szmanda
发明人： Gary N. Taylor , Charles R. Szmanda
IPC分类号： G03C173
CPC分类号： C08F220/18 , C08K5/42 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/111 , Y10S430/115
摘要： The present invention provides novel polymers and chemically-amplified positive-acting photoresist compositions that contain such polymers as a resin binder component. Preferred polymers of the invention include one or more structural groups that are capable of reducing the temperature required for effective deprotection of acid-labile moieties of the polymer.
摘要翻译： 本发明提供了含有树脂粘合剂成分等聚合物的新型聚合物和化学增幅正性光致抗蚀剂组合物。 本发明优选的聚合物包括能够降低聚合物酸不稳定部分有效去保护所需温度的一个或多个结构基团。
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公开(公告)号：US5472616A
公开(公告)日：1995-12-05
申请号：US143489
申请日：1993-10-27
CPC分类号： B01J41/046 , B01J47/006
摘要： The invention is for a process of removing anions from an organic solution, especially one having base labile components. The process comprises modifying an anion exchange resin by treatment with a solution of a source of anions less basic than the hydroxyl anion and contacting said modified ion exchange resin with an organic solution containing anions. The process is especially useful for treating photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明涉及从有机溶液中除去阴离子的方法，特别是具有碱不稳定组分的阴离子。 该方法包括通过用比羟基阴离子碱性低的阴离子溶液处理并使所述改性离子交换树脂与含有阴离子的有机溶液接触来改性阴离子交换树脂。 该方法对于处理光致抗蚀剂组合物特别有用。
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