公开(公告)号：US07126692B2

公开(公告)日：2006-10-24

申请号：US10735977

申请日：2003-12-15

申请人： Guenter Maul ,  Norbert Hubig

发明人： Guenter Maul ,  Norbert Hubig

IPC分类号： G01B9/02 ,  F16C9/00

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G01D11/30 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70825 ,  Y10T403/217

摘要： A device for holding measurement instruments (2), in particular interferometers, is formed from a plurality of structure elements (4, 5, 6, 7) connected to one another and made from at least one material. The at least one material has a very low coefficient of thermal expansion α. The structure elements (4) on which the measurement instruments (2) are arranged are secured between at least two structure side parts (5) in such a way that the thermal expansions of the structure side parts (5) and of the connections (3) have no effect in the measurement direction of the measurement instruments (2).

摘要翻译： 用于保持测量仪器（2），特别是干涉仪的装置由彼此连接并由至少一种材料制成的多个结构元件（4,5,6,7）形成。 至少一种材料具有非常低的热膨胀系数α。 将测量仪器（2）布置在其上的结构元件（4）固定在至少两个结构侧部件（5）之间，使得结构侧部件（5）和连接件（3）的热膨胀 ）在测量仪器（2）的测量方向上没有影响。

公开(公告)号：US20050206860A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US11067315

申请日：2005-02-25

申请人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Lothar Gail ,  Wilfried Schierholz ,  Eberhard Jost

发明人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Lothar Gail ,  Wilfried Schierholz ,  Eberhard Jost

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70808

摘要： A projection exposure apparatus is equipped with an illumination system, a reticle, a projection objective and an image plane. Interstitial spaces between the individual elements of the apparatus are open to the ambient space. A gas purge device which carries a stream of noble gas or nitrogen is arranged in at least one of the interstitial spaces. The gas purge device is of a shape and size so that one or more interstitial spaces are at least to a large extent sealed off from the ambient space surrounding the projection apparatus.

摘要翻译： 投影曝光装置配备有照明系统，掩模版，投影物镜和像平面。 设备的各个元件之间的间隙空间对于环境空间是开放的。 携带稀有气体或氮气流的气体净化装置布置在至少一个间隙空间中。 气体净化装置的形状和尺寸使得一个或多个间隙空间至少在很大程度上与围绕投影装置的环境空间密封。

公开(公告)号：US07130017B2

公开(公告)日：2006-10-31

申请号：US11067315

申请日：2005-02-25

申请人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Lothar Gail ,  Wilfried Schierholz ,  Eberhard Jost

发明人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Lothar Gail ,  Wilfried Schierholz ,  Eberhard Jost

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70808

摘要： A projection exposure apparatus is equipped with an illumination system, a reticle, a projection objective and an image plane. Interstitial spaces between the individual elements of the apparatus are open to the ambient space. A gas purge device which carries a stream of noble gas or nitrogen is arranged in at least one of the interstitial spaces. The gas purge device is of a shape and size so that one or more interstitial spaces are at least to a large extent sealed off from the ambient space surrounding the projection apparatus.

摘要翻译： 投影曝光装置配备有照明系统，掩模版，投影物镜和像平面。 设备的各个元件之间的间隙空间对于环境空间是开放的。 携带稀有气体或氮气流的气体净化装置布置在至少一个间隙空间中。 气体净化装置的形状和尺寸使得一个或多个间隙空间至少在很大程度上与围绕投影装置的环境空间密封。

公开(公告)号：US06864988B2

公开(公告)日：2005-03-08

申请号：US10186600

申请日：2002-07-01

申请人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Michael Muehlbeyer ,  Klaus Mehlkopp

发明人： Albrecht Hof ,  Guenter Maul ,  Michael Muehlbeyer ,  Klaus Mehlkopp

IPC分类号： G02B7/182 ,  G02B7/00 ,  G02B7/02 ,  G02B27/62 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027 ,  G01B9/02

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B7/008 ,  G02B7/02 ,  G03F7/70833

摘要： An optical system, in particular an exposure lens for semiconductor lithography, with a plurality of optical elements has at least one load-dissipating structure. The load-dissipating structure diverts the forces originating from the optical elements. The optical system also has a measuring structure constructed independently of the at least one load-dissipating structure.

摘要翻译： 具有多个光学元件的光学系统，特别是用于半导体光刻的曝光透镜具有至少一个负载耗散结构。 负载消散结构转移源自光学元件的力。 光学系统还具有独立于至少一个负载消散结构构造的测量结构。

公开(公告)号：US06445510B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09678715

申请日：2000-10-04

申请人： Karlheinz Schuster ,  Thomas Bischoff ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer ,  Guenter Maul

发明人： Karlheinz Schuster ,  Thomas Bischoff ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer ,  Guenter Maul

IPC分类号： G02B900

CPC分类号： G03F7/7025 ,  G02B5/005

摘要： An optical imaging device, in particular a lens system, has a system diaphragm (1). An aperture of the system diaphragm (1) is adjustable in its opening diameter (D). The axial position of the aperture of the system diaphragm (1) with respect to the optical axis (4) of the system diaphragm (1) is fixed in dependence on the opening diameter (D) of the system diaphragm (1).

摘要翻译： 光学成像装置，特别是透镜系统，具有系统隔膜（1）。 系统隔膜（1）的孔径可以在其开口直径（D）上调节。 系统隔膜（1）的孔径相对于系统隔膜（1）的光轴（4）的轴向位置根据系统隔膜（1）的开口直径（D）固定。