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    Plasma display panel
    2.
    发明授权
    Plasma display panel 失效
    等离子显示面板

    公开(公告)号：US06831413B2

    公开(公告)日：2004-12-14

    申请号：US10196267

    申请日：2002-07-17

    申请人： Hiroshi Kajiyama ,  Akira Katou ,  Kenichi Onisawa ,  Tetsuro Minemura ,  Kazuo Uetani ,  Yasushi Ihara ,  Shiro Takigawa ,  Kouichi Nose ,  Isao Tokomoto ,  Yasuhiro Koizumi

    发明人： Hiroshi Kajiyama ,  Akira Katou ,  Kenichi Onisawa ,  Tetsuro Minemura ,  Kazuo Uetani ,  Yasushi Ihara ,  Shiro Takigawa ,  Kouichi Nose ,  Isao Tokomoto ,  Yasuhiro Koizumi

    IPC分类号： H01J1749

    CPC分类号： H01J11/40 ,  H01J11/12

    摘要： A plasma display panel (PDP), consisting of a front panel (10) equipped with display electrodes (8) and a rear panel (4) equipped with address electrodes (3), that displays an image by causing discharge in a small discharge space formed between the two panels; wherein there are provided two layers of protective films (5, 6), made of metallic oxide, covering the dielectric layer (7) installed on the front panel (10); the outer, upper layer (6) being formed into a layer of material with a specific surface area of 20 m2/g or more and a film thickness of 1 &mgr;m or less, exhibiting a high discharge characteristic; and the inner, lower layer (5) being formed into a layer of material with a specific surface area of 10 m2/g or less and a film thickness of 1 &mgr;m or more, exhibiting a low water-adsorption characteristic.

    摘要翻译： 一种等离子体显示面板（PDP），其由配备有显示电极（8）的前面板（10）和配备有寻址电极（3）的后面板（4）组成，其通过在小放电空间中放电而显示图像 两面板之间形成; 其中，设置有两层由金属氧化物制成的覆盖安装在前面板（10）上的电介质层（7）的保护膜（5,6）。 所述外层上层（6）形成比表面积为20m 2 / g以上且膜厚为1μm以下且呈现高放电特性的材料层; 并且所述内下层（5）形成为具有10m 2 / g以下的比表面积和1μm以上的膜厚的材料层，具有低的吸水特性。

    System and method for film formation
    3.
    发明申请
    System and method for film formation 审中-公开
    成膜系统和方法

    公开(公告)号：US20070039545A1

    公开(公告)日：2007-02-22

    申请号：US10554901

    申请日：2004-05-25

    申请人： Kouichi Nose ,  Koichi Sasagawa ,  Takeshi Furutsuka ,  Shiro Takigawa ,  Yasuhiro Koizumi

    发明人： Kouichi Nose ,  Koichi Sasagawa ,  Takeshi Furutsuka ,  Shiro Takigawa ,  Yasuhiro Koizumi

    IPC分类号： C23C14/00 ,  H05H1/24

    CPC分类号： C23C14/205 ,  B05D1/62 ,  B05D5/068 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0089 ,  C23C14/352 ,  C23C14/562 ,  C23C16/45557 ,  C23C16/509

    摘要： The present invention provides film formation systems and film formation methods. A high frequency (HF) electric power supply (11) applies a high frequency voltage to a cathode (5) which is provided, at its rear surface, with a permanent magnet (10), thereby to generate a reactive-mode plasma, and film formation by plasma polymerization is performed by the use of the generated reactive-mode plasma. The pressure of a plasma source gas in a vacuum chamber (1) is regulated, thereby to generate not a reactive-mode plasma but a metallic-mode plasma. The cathode (5) as a target is subjected to sputtering by the generated metallic-mode plasma, and film formation by magnetron sputtering is carried out.

    摘要翻译： 本发明提供成膜体系和成膜方法。 高频（HF）电源（11）向在其后表面设置有永磁体（10）的阴极（5）施加高频电压，从而产生电抗等离子体，并且 通过使用所生成的反应型等离子体来进行通过等离子体聚合的膜形成。 调节真空室（1）中的等离子体源气体的压力，从而不产生反应型等离子体而是产生金属模式等离子体。 作为靶的阴极（5）通过所产生的金属模式等离子体进行溅射，并且通过磁控溅射进行成膜。